一种溅射靶材固定装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于磁控溅射技术领域，尤其涉及一种溅射靶材固定装置。一种溅射靶材固定装置，包括底板及靶材固定机构，所述靶材固定机构包括第一伺服电机、U形绝缘支架、由绝缘材料制成的联轴组件、转动杆、转动盘、在所述转动盘上水平设置的多个靶材固定座、在所述支架两端的端面上水平固定连接的屏蔽罩、在所述转动盘设置的磁铁组件支架，所述屏蔽罩套设在转动盘上，在所述屏蔽罩上开设有与靶材形状相匹配的屏蔽罩溅射孔，任一靶材可通过转动盘的转动旋转至与屏蔽罩溅射孔对齐，在所述磁铁组件支架上端面水平设有与屏蔽罩溅射孔相对应的磁铁组件。本实用新型专利技术可在真空状态下控制更换不同靶材、控制调整靶材安装座间距。控制调整靶材安装座间距。控制调整靶材安装座间距。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射靶材固定装置


[0001]本技术属于磁控溅射
，尤其涉及一种溅射靶材固定装置。

技术介绍

[0002]针对织物布的物理表面处理技术，一般采用磁控溅射表面镀膜技术。磁控溅射表面镀膜技术就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基材上的技术。通常，利用低压惰性气体氩气辉光放电来产生入射离子。阴极靶由镀膜材料制成，基材作为阳极，真空室中通入0.1
‑
10Pa的氩气，在阴极（靶）1
‑
3KV直流电压作用下产生辉光放电。电离出的氩离子轰击靶表面，使得靶原子溅出并沉积在基体上，形成薄膜。该技术具有镀层和基体结合力强、对成品无污染等优点。
[0003]现有技术中存在对织物布表面进行银靶及磷酸银靶交替溅射镀膜，既解决了单独镀银或单独镀磷酸银抗菌性不持久且镀层易脱落的问题，同时，避免了磷酸银颗粒团聚影响其催化活性，能将银及磷酸银颗粒牢固负载在织物表面，使织物表面保持持久有效地抗菌性。如本申请人之前申请的专利号为202111351609.5、专利名称为一种织物布表面载银/磷酸银的处理方法的中国专利技术专利。该专利技术包括选取纯度大于99.99%的银靶、纯度大于99%的磷酸银靶，并按一定的数量比例设为多组，各组内按银靶、磷酸银靶的顺序依次安装，各组之间依次间隔安装在磁控溅射设备的真空溅射腔内；基材织物布的选取及处理；调节溅射电压为1
‑
5kV ,调节连续溅射的时间为1
‑
10min。本专利技术在磷酸银抗团聚性和织物结合牢固性上提高显著，且整个过程无污染，且实现连续自动镀膜，可进行大批量、工业化生产。
[0004]在该专利技术的技术方案中，涉及到银靶及磷酸银靶两种不同材质的靶材以一定比例依次间隔安装在磁控溅射设备的真空溅射腔内。由于在对织物布溅射镀膜效果的研究表明，银靶及磷酸银靶的数量比例、排列顺序以及各银靶及磷酸银靶之间的距离均会对织物布表面镀层的效果产生影响，因此需要经过繁杂的实验来确定最优的银靶及磷酸银靶的数量比例、排列顺序，以及各银靶及磷酸银靶之间的最优间距。
[0005]但是在实际实验中存在如下技术问题：1.由于现有的靶材安装装置只能固定安装一个靶材，所以在变动银靶及磷酸银靶的数量比例及排列顺序时，需要停止磁控溅射、破真空、更换靶材，然后再抽真空、磁控溅射镀膜，操作流程复杂繁琐，在需进行大量实验数据的检验测试时，需耗费大量的人力物力及时间；2.由于现有的靶材安装装置固定安装在真空溅射腔内的某一位置，无法控制其移动，所以在各银靶及磷酸银靶之间的距离时，仍需要停止磁控溅射、破真空、调整靶材安装装置的位置，然后再抽真空、磁控溅射镀膜，在实验时同样需耗费大量的人力物力及时间。由此，亟需设计出一种可以在真空状态下，控制不同靶材之间的更换、不同靶材安装装置之间距离调整的溅射靶材固定装置。

技术实现思路

[0006]为解决现有技术中存在的至少一种技术问题，本申请提供了一种可在真空状态下控制更换不同靶材、控制调整靶材安装座间距的溅射靶材固定装置。
[0007]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0008]一种溅射靶材固定装置，包括底板及靶材固定机构，所述靶材固定机构包括在所述底板上竖直设置的第一伺服电机、在所述第一伺服电机上端面固定连接的U形绝缘支架、在所述第一伺服电机的输出轴上通过由绝缘材料制成的联轴组件同轴连接的转动杆、在所述转动杆上端面水平固定连接的转动盘、在所述转动盘上水平设置的多个靶材固定座、在所述支架两端的端面上水平固定连接的屏蔽罩、在所述转动盘下方的支架的一侧端面上向上竖直设置的磁铁组件支架，靶材水平固定在所述靶材固定座上，所述屏蔽罩套设在转动盘上，在所述屏蔽罩上开设有与靶材形状相匹配的屏蔽罩溅射孔，任一靶材可通过转动盘的转动旋转至与屏蔽罩溅射孔对齐，在所述磁铁组件支架上端面水平设有与屏蔽罩溅射孔相对应的磁铁组件。
[0009]优选的，该靶材固定装置还包括滑动机构，所述滑动机构包括在所述底板下端面固定连接的滑块、在所述底板上设置的第二伺服电机、在所述第二伺服电机的输出轴上固定连接的齿轮及在所述底板上设置的距离传感器，所述滑块滑动嵌设在滑轨上，在所述滑轨上沿其长度方向水平设有与齿轮相啮合的齿条，在所述滑轨上设有多组滑动机构及与之相对应的靶材固定机构。
[0010]优选的，在所述屏蔽罩的两侧水平设有支撑板，在所述支撑板上开设有圆弧形通槽，所述通槽与屏蔽罩同轴设置，在所述支架两侧的上端面竖直开设有螺纹连接孔，紧固螺栓穿设在通槽及连接孔内以将屏蔽罩固定在支架上。
[0011]优选的，所述靶材固定座包括靶材安装底板及靶材紧固盘，所述靶材安装底板水平固定连接在转动盘上端面，在所述靶材安装底板上开设有与靶材形状相匹配的靶材放置槽，靶材放置在所述靶材放置槽内，所述靶材紧固盘为盖状结构，在所述靶材紧固盘底部开设有紧固盘溅射孔，所述紧固盘溅射孔的内径小于靶材的外径，靶材紧固盘可拆卸地固定在靶材安装底板上以将靶材固定。
[0012]优选的，在所述靶材安装底板之间的转动盘上端面设有分隔板。
[0013]优选的，在所述屏蔽罩溅射孔及紧固盘溅射孔上部边缘均设有倒角结构。
[0014]优选的，在所述第一伺服电机的输出轴上设置有用于检测第一伺服电机输出轴转动角度的转动角度传感器。
[0015]优选的，在所述转动盘上设有两组靶材固定座及靶材。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0017]1.本技术通过设置第一伺服电机、绝缘支架、绝缘联轴组件、转动杆、转动盘、靶材固定座、屏蔽罩及磁铁组件，可在转动盘上安装多个靶材，在需进行靶材更换时，只需启动第一伺服电机，使其带动转动杆、转动盘旋转至所需靶材在屏蔽罩上的屏蔽罩溅射孔下方即可，在磁控溅射腔的真空状态下实现不同靶材的快速更换。
[0018]2.本技术通过设置滑动机构，在磁控溅射腔的真空状态下实现靶材固定机构之间距离的调整，从而调整溅射靶材之间距离的快速调整。
[0019]3.通过在支撑板上开设圆弧形通槽，在安装屏蔽罩时紧固螺栓穿设在该通槽内，在紧固螺栓未旋紧前，可转动屏蔽罩以对屏蔽罩进行微调使屏蔽罩溅射孔正对靶材；通过设置靶材安装底板、靶材放置槽、靶材紧固盘，使得靶材的安装及拆卸较为方便快捷；通过设置分隔板，避免靶材溅射时造成交叉污染；通过设置倒角结构，增大靶材溅射范围；通过
设置角度传感器，实现对第一伺服电机输出轴转动角度的监测与反馈，使得转动盘转动角度更加精准。
附图说明
[0020]附图1为本技术的整体结构示意图。
[0021]附图2为本技术的靶材固定机构第一视角的结构示意图。
[0022]附图3为本技术的靶材固定机构第二视角的结构示意图。
[0023]附图4为以图2为基准的正视结构示意图。
[0024]附图5为图4的半剖结构示意图。
[0025]附图6为图5的A处放大的结构示意图。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射靶材固定装置，包括底板及靶材固定机构，其特征在于：所述靶材固定机构包括在所述底板上竖直设置的第一伺服电机、在所述第一伺服电机上端面固定连接的U形绝缘支架、在所述第一伺服电机的输出轴上通过由绝缘材料制成的联轴组件同轴连接的转动杆、在所述转动杆上端面水平固定连接的转动盘、在所述转动盘上水平设置的多个靶材固定座、在所述支架两端的端面上水平固定连接的屏蔽罩、在所述转动盘下方的支架的一侧端面上向上竖直设置的磁铁组件支架，靶材水平固定在所述靶材固定座上，所述屏蔽罩套设在转动盘上，在所述屏蔽罩上开设有与靶材形状相匹配的屏蔽罩溅射孔，任一靶材可通过转动盘的转动旋转至与屏蔽罩溅射孔对齐，在所述磁铁组件支架上端面水平设有与屏蔽罩溅射孔相对应的磁铁组件。2.根据权利要求1所述一种溅射靶材固定装置，其特征在于：该靶材固定装置还包括滑动机构，所述滑动机构包括在所述底板下端面固定连接的滑块、在所述底板上设置的第二伺服电机、在所述第二伺服电机的输出轴上固定连接的齿轮及在所述底板上设置的距离传感器，所述滑块滑动嵌设在滑轨上，在所述滑轨上沿其长度方向水平设有与齿轮相啮合的齿条，在所述滑轨上设有多组滑动机构及与之相对应的靶材固定机构。3.根据权利要求1所述一种溅射靶材...

【专利技术属性】
技术研发人员：张辉，郝伟，邢百惠，夏芝林，
申请(专利权)人：河南凤之凰实业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：