一种蚀刻机用监控装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种蚀刻机用监控装置，涉及蚀刻机用监控装置技术领域，包括上玻璃、上ITO、下玻璃、下ITO、台阶、上ITO走线间隔槽、上ITO走线槽、下ITO走线间隔槽、下ITO走线槽、蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽、蚀刻监控BLOCK ITO线槽，所述上ITO固定安装在上玻璃的下端，所述下ITO固定安装在上ITO的下方，所述下ITO固定安装在下玻璃的上端。本实用新型专利技术，“C”位于产品台阶处，位置基本固定，方便快速识别，提高首检、抽检效率，“C”为1mmX1mm范围，由多条同等线宽11线距10的ITO线组成，测量时可取其平均值更精准，“C”为单个项目专属设计，可以满足不同要求的产品蚀刻需求。同要求的产品蚀刻需求。同要求的产品蚀刻需求。

【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻机用监控装置


[0001]本技术涉及蚀刻机用监控
，尤其涉及一种蚀刻机用监控装置。

技术介绍

[0002]初始ITO玻璃材料上ITO和下ITO均为一整面，需通过设计的掩膜进行曝光和蚀刻，蚀刻过程中，需进行首检和抽检最小ITO线宽线距，依据为大对玻璃外围标示的数值，需要在单粒内找一处接近标示值的ITO走线或图案在设备下放大进行测量，以监控蚀刻工艺状况。
[0003]本项目是一种基于液晶显示器盒内ITO走线曝光后蚀刻工艺监控设计，产品盒内上层和下层铺满整个表面ITO走线，且受布线空间影响，每条连接显示内容的ITO走线形状、粗细不同，且由于玻璃阻值不同，其ITO导电介质厚度均有差异，本项目采用单独项目的最小线宽线距的一种蚀刻机用监控装置BLOCK，根据不同玻璃阻值以及最小线宽线距控制蚀刻时间、强度，在有监控蚀刻情况下控制生产各项工艺参数，避免生产异常流入下一工序，方案符合走线空间和间距越来越小发展趋势，减少生产过程蚀刻异常发生，本项目在推动行业技术进步的同时，将促进设计方案、生产技术创新，对LCD行业生产企业的技术进步将起到很好的示范作用；在现有LCD生产设备及工艺经验的基础上，自主投入资金进行设计验证，制定符合要求的设计规则，同时进行工艺优化，并对生产各个环节进行严格的把控，改善蚀刻异常引起的暗化，或短路多显，提高产品良率。
[0004]常规型产品，找排线比较密集处测量，若多处走线密集存在多次测量；COG产品找IC处的PAD，但部分产品非IC处为最小线宽线距，同样存在多次测量；设计通用型蚀刻监控BLOCK，线宽线距值从小到大排列，一般每种值只有一条线且线宽线距值不全面，不能很好针对每款产品蚀刻需求。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种蚀刻机用监控装置。其优点在于高效监控生产过程中每一大对的蚀刻情况，避免蚀刻过度导致ITO走线变细，使连接显示内容的线路电阻增加，产生暗化现象，有效监控生产蚀刻不到位，避免不良流入下一工序，产品上层和下层有台阶差，在单粒台阶空白处设计该一种蚀刻机用监控装置BLOCK，在蚀刻时不仅方便实际生产操作，还可以减少对显示内容的ITO走线的划伤，并且不影响产品外观显示效果。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种蚀刻机用监控装置，包括上玻璃、上ITO、下玻璃、下ITO、台阶、上ITO走线间隔槽、上ITO走线槽、下ITO走线间隔槽、下ITO走线槽、蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽、蚀刻监控BLOCK ITO线槽，所述上ITO固定安装在上玻璃的下端，所述下ITO固定安装在上ITO的下方，所述下ITO固定安装在下玻璃的上端。
[0007]通过以上技术方案：本方案高效监控生产过程中每一大对的蚀刻情况，避免蚀刻
过度导致ITO走线变细，使连接显示内容的线路电阻增加，产生暗化现象。
[0008]本技术进一步设置为，所述台阶固定设置在上玻璃、上ITO与下玻璃、下ITO的错开处。
[0009]通过以上技术方案：当ITO线距蚀刻过少时，会使每条区域的ITO连接走线仍粘连在一起，本方案有效监控生产蚀刻不到位，避免不良流入下一工序。
[0010]本技术进一步设置为，所述上ITO走线间隔槽固定设置在上ITO之中，所述上ITO走线间隔槽呈非等距排布。
[0011]通过以上技术方案：产品上层和下层有台阶差，在单粒台阶空白处设计该蚀刻机用监控装置BLOCK，在蚀刻时不仅方便实际生产操作，还可以减少对显示内容的ITO走线的划伤，并且不影响产品外观显示效果。
[0012]本技术进一步设置为，所述上ITO走线槽固定设置在上ITO走线间隔槽的之间，所述上ITO走线槽呈非等距排布，所述上ITO走线间隔槽与上ITO走线槽交错分布。
[0013]通过以上技术方案：
[0014]本技术进一步设置为，所述下ITO走线间隔槽固定设置在下ITO之中，所述下ITO走线间隔槽呈非等距排布。
[0015]通过以上技术方案：
[0016]本技术进一步设置为，所述下ITO走线槽固定设置在下ITO走线间隔槽的之间，所述下ITO走线槽呈非等距排布，所述下ITO走线间隔槽与下ITO走线槽交错分布。
[0017]通过以上技术方案：
[0018]本技术进一步设置为，所述蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽固定设置在台阶处，所述蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽呈等距排布，所述蚀刻监控BLOCK ITO线槽固定设置在蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽的之间。
[0019]通过以上技术方案：
[0020]本技术进一步设置为，所述蚀刻监控BLOCK ITO线槽呈等距排布，所述蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽与蚀刻监控BLOCK ITO线槽交错分布。
[0021]通过以上技术方案：
[0022]本技术的有益效果为：
[0023]1、该一种蚀刻机用监控装置，“C”位于产品台阶处，位置基本固定，方便快速识别，提高首检、抽检效率。
[0024]2、该一种蚀刻机用监控装置，“C”为1mmX1mm范围，由多条同等线宽11线距10的ITO线组成，测量时可取其平均值更精准。
[0025]3、该一种蚀刻机用监控装置，“C”为单个项目专属设计，可以满足不同要求的产品蚀刻需求。
[0026]4、该一种蚀刻机用监控装置，不占用盒内空间走线，即使成盒后仍可以追踪每一粒蚀刻工艺情况。
[0027]5、该一种蚀刻机用监控装置，未成盒前，ITO容易划伤，测量移动操作过程中可能会造划伤ITO，有效减少测量次数可以减少断路风险。
附图说明
[0028]图1为本技术提出的一种蚀刻机用监控装置的LCD产品结构主视图；
[0029]图2为本技术提出的一种蚀刻机用监控装置的LCD产品结构侧视图；
[0030]图3为本技术提出的一种蚀刻机用监控装置的LCD产品结构仰视图；
[0031]图4为本技术提出的一种蚀刻机用监控装置的LCD ITO走线布局图；
[0032]图5为本技术提出的一种蚀刻机用监控装置的“A”“B”处放大主视区和侧视图；
[0033]图6为本技术提出的一种蚀刻机用监控装置的“C”处放大主视区和侧视图。
[0034]图中：1、上玻璃；2、上ITO；3、下玻璃；4、下ITO；5、台阶；6、上ITO走线间隔槽；7、上ITO走线槽；8、下ITO走线间隔槽；9、下ITO走线槽；10、蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽；11、蚀刻监控BLOCK ITO线槽。
具体实施方式
[0035]下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。
[0036]下面详细描述本专利的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻机用监控装置，包括上玻璃、上ITO、下玻璃、下ITO、台阶、上ITO走线间隔槽、上ITO走线槽、下ITO走线间隔槽、下ITO走线槽、蚀刻监控BLOCK ITO线间隔槽、蚀刻监控BLOCK ITO线槽，其特征在于，所述上ITO固定安装在上玻璃的下端，所述下ITO固定安装在上ITO的下方，所述下ITO固定安装在下玻璃的上端。2.根据权利要求1所述的一种蚀刻机用监控装置，其特征在于，所述台阶固定设置在上玻璃、上ITO与下玻璃、下ITO的错开处。3.根据权利要求2所述的一种蚀刻机用监控装置，其特征在于，所述上ITO走线间隔槽固定设置在上ITO之中，上ITO走线间隔槽呈非等距排布。4.根据权利要求3所述的一种蚀刻机用监控装置，其特征在于，所述上ITO走线槽固定设置在上ITO走线间隔槽的之间，上ITO走线槽呈非等距排布，所述上ITO走线间隔槽与上ITO走线槽交错分布。...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兆财，于浩，谢代洲，胡裕燕，彭检，伏琼蓉，
申请(专利权)人：深圳晶华显示电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：