一种分流式CVD沉积室制造技术

本实用新型专利技术公开了一种分流式CVD沉积室，包括固定底座、沉积室防护组件和沉积室炭源气体均匀组件，所述沉积室防护组件包括减震连接盘、减震阻尼器、伸缩减震弹簧、沉积室桶体、沉积室封闭门、固定内圈板、沉积盘连接扣和预制件沉积盘，所述沉积室炭源气体均匀组件包括固定立板、驱动电机、炭源气体风机、炭源气体进气管、连接支撑圈板、电机支撑轴、抽气电机、旋转抽气传动轴和旋转抽气扇叶。本实用新型专利技术属于CVD沉积室技术领域，通过减震阻尼器与伸缩减震弹簧可实现对CVD沉积室进行减震保护的目的，通过沉积室防护组件可实现分流沉积效果好的目的，根据沉积室炭源气体均匀组件可实现气体不止存在底层、使得高层也能对预制件均匀的增密的目的。增密的目的。增密的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种分流式CVD沉积室


[0001]本技术属于CVD沉积室
，具体是指一种分流式CVD沉积室。

技术介绍

[0002]化学气相沉积是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料，CVD技术将炭源气体通入高温热解炉热解，热解炭通过扩散和对流等机理，沉积在碳纤维预制件上增密的过程，而现有的CVD沉积室使用时大部分气体依然存在底层使得高层不能均匀的增密，导致预制件沉积的效果不够好，而且不便对CVD沉积室进行减震保护，因此，急需一种分流式CVD沉积室来解决上述问题。

技术实现思路

[0003]针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提供了一种分流式CVD沉积室。
[0004]为了实现上述功能，本技术采取的技术方案如下：一种分流式CVD沉积室，包括固定底座，所述固定底座上面连接设有沉积室防护组件，所述沉积室防护组件包括减震连接盘、减震阻尼器、伸缩减震弹簧、沉积室桶体、沉积室封闭门、固定内圈板、沉积盘连接扣和预制件沉积盘，所述固定底座上面连接设有减震连接盘，所述减震连接盘上面连接设有减震阻尼器，所述减震连接盘上面连接设有伸缩减震弹簧，所述减震连接盘上面连接设有沉积室桶体，所述沉积室桶体侧面上铰接连接设有沉积室封闭门，所述沉积室桶体内壁上面连接设有固定内圈板，所述固定内圈板上面连接设有沉积盘连接扣，所述沉积盘连接扣上面铰接连接设有预制件沉积盘。
[0005]为了顺利实现CVD沉积室高层方便均匀的增密的目的，所述固定底座上面连接设有沉积室炭源气体均匀组件，所述沉积室炭源气体均匀组件包括固定立板、驱动电机、炭源气体风机、炭源气体进气管、连接支撑圈板、电机支撑轴、抽气电机、旋转抽气传动轴和旋转抽气扇叶，所述固定底座上面连接设有固定立板，所述固定立板上面连接设有驱动电机，所述驱动电机上面连接设有炭源气体风机，所述炭源气体风机上面连接设有炭源气体进气管，所述沉积室桶体侧壁上面连接设有连接支撑圈板，所述连接支撑圈板上面连接设有电机支撑轴，所述电机支撑轴上面连接设有抽气电机，所述抽气电机上面转动连接设有旋转抽气传动轴，所述旋转抽气传动轴上面连接设有旋转抽气扇叶。
[0006]为了顺利实现方便连接支撑的目的，两组所述减震连接盘之间连接设有减震阻尼器，两组所述减震连接盘之间连接设有伸缩减震弹簧，所述固定内圈板与所述预制件沉积盘之间连接设有沉积盘连接扣，所述连接支撑圈板与所述抽气电机之间连接设有电机支撑轴。
[0007]进一步地，所述沉积盘连接扣上面连接设有卡扣固定块。
[0008]进一步地，所述预制件沉积盘上面连接设有方便支撑透气的滤网。
[0009]其中，所述连接支撑圈板上面连接设有防尘透气网。
[0010]进一步地，所述固定底座呈十字型设置，所述固定内圈板呈环形设置。
[0011]作为优选地，所述减震阻尼器与所述伸缩减震弹簧均设有四组，所述电机支撑轴与所述旋转抽气扇叶均设有四组。
[0012]采用上述结构本技术取得的有益效果如下：本方案一种分流式CVD沉积室，通过减震阻尼器与伸缩减震弹簧可实现对CVD沉积室进行减震保护的目的，通过沉积室防护组件可实现分流沉积效果好的目的，根据沉积室炭源气体均匀组件可实现气体不止存在底层、使得高层也能对预制件均匀的增密的目的，自动化程度高省时省力。
附图说明
[0013]图1为本方案提出的一种分流式CVD沉积室的结构示意图；
[0014]图2为本方案提出的一种分流式CVD沉积室的结构示意图；
[0015]图3为本方案提出的一种分流式CVD沉积室的剖视图。
[0016]其中，1、固定底座，2、沉积室防护组件，3、沉积室炭源气体均匀组件，4、减震连接盘，5、减震阻尼器，6、伸缩减震弹簧，7、沉积室桶体，8、沉积室封闭门，9、固定内圈板，10、沉积盘连接扣，11、预制件沉积盘，12、固定立板，13、驱动电机，14、炭源气体风机，15、炭源气体进气管，16、连接支撑圈板，17、电机支撑轴，18、抽气电机，19、旋转抽气传动轴，20、旋转抽气扇叶。
[0017]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]如图1
‑
3所示，为了实现上述功能，本技术采取的技术方案如下：一种分流式CVD沉积室，包括固定底座1，固定底座1上面连接设有沉积室防护组件2，沉积室防护组件2包括减震连接盘4、减震阻尼器5、伸缩减震弹簧6、沉积室桶体7、沉积室封闭门8、固定内圈板9、沉积盘连接扣10和预制件沉积盘11，固定底座1上面连接设有减震连接盘4，减震连接盘4上面连接设有减震阻尼器5，两组减震连接盘4之间连接设有减震阻尼器5，减震连接盘4上面连接设有伸缩减震弹簧6，两组减震连接盘4之间连接设有伸缩减震弹簧6，减震连接盘4上面连接设有沉积室桶体7，沉积室桶体7侧面上铰接连接设有沉积室封闭门8，沉积室桶体7内壁上面连接设有固定内圈板9，固定内圈板9上面连接设有沉积盘连接扣10，沉积盘连接扣10上面铰接连接设有预制件沉积盘11，固定内圈板9与预制件沉积盘11之间连接设有沉积盘连接扣10。
[0020]如图1
‑
3所示，固定底座1上面连接设有沉积室炭源气体均匀组件3，沉积室炭源气体均匀组件3包括固定立板12、驱动电机13、炭源气体风机14、炭源气体进气管15、连接支撑圈板16、电机支撑轴17、抽气电机18、旋转抽气传动轴19和旋转抽气扇叶20，固定底座1上面
连接设有固定立板12，固定立板12上面连接设有驱动电机13，驱动电机13上面连接设有炭源气体风机14，炭源气体风机14上面连接设有炭源气体进气管15，沉积室桶体7侧壁上面连接设有连接支撑圈板16，连接支撑圈板16上面连接设有电机支撑轴17，电机支撑轴17上面连接设有抽气电机18，连接支撑圈板16与抽气电机18之间连接设有电机支撑轴17，抽气电机18上面转动连接设有旋转抽气传动轴19，旋转抽气传动轴19上面连接设有旋转抽气扇叶20。
[0021]如图1
‑
3所示，沉积盘连接扣10上面连接设有卡扣固定块。
[0022]如图1
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3所示，预制件沉积盘11上面连接设有方便支撑透气的滤网。
[0023]如图1
‑
3所示，连接支撑圈板16上面连接设有防尘透气网。
[0024]如图1
‑
3所示，固定底座1呈十字型设置，固定内圈板9呈环形设置。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分流式CVD沉积室，其特征在于：包括固定底座，所述固定底座上面连接设有沉积室防护组件，所述沉积室防护组件包括减震连接盘、减震阻尼器、伸缩减震弹簧、沉积室桶体、沉积室封闭门、固定内圈板、沉积盘连接扣和预制件沉积盘，所述固定底座上面连接设有减震连接盘，所述减震连接盘上面连接设有减震阻尼器，所述减震连接盘上面连接设有伸缩减震弹簧，所述减震连接盘上面连接设有沉积室桶体，所述沉积室桶体侧面上铰接连接设有沉积室封闭门，所述沉积室桶体内壁上面连接设有固定内圈板，所述固定内圈板上面连接设有沉积盘连接扣，所述沉积盘连接扣上面铰接连接设有预制件沉积盘。2.根据权利要求1所述的一种分流式CVD沉积室，其特征在于：所述固定底座上面连接设有沉积室炭源气体均匀组件，所述沉积室炭源气体均匀组件包括固定立板、驱动电机、炭源气体风机、炭源气体进气管、连接支撑圈板、电机支撑轴、抽气电机、旋转抽气传动轴和旋转抽气扇叶，所述固定底座上面连接设有固定立板，所述固定立板上面连接设有驱动电机，所述驱动电机上面连接设有炭源气体风机，所述炭源气体风机上面连接设有炭源气体进气管，所述沉积室桶体侧壁上面连接设有连接支撑圈板，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：武宏润，
申请(专利权)人：沈阳鸿晟恒业科技有限公司，
类型：新型
国别省市：