一种LED投影设备制造技术

本发明专利技术公开了一种LED投影设备，包括发光源、聚焦光学系统、显示芯片和成像系统；聚焦光学系统包括第一反射元件，其中：发光源，用于将发射的光束传输至聚焦光学系统；聚焦光学系统，用于通过第一反射元件将接收到的光束进行反射后聚焦至显示芯片上；显示芯片，用于将接收到的光束反射至成像系统进行投影成像；本发明专利技术在使用过程中有利于提高投影设备的可靠性。明在使用过程中有利于提高投影设备的可靠性。明在使用过程中有利于提高投影设备的可靠性。

【技术实现步骤摘要】
一种LED投影设备


[0001]本专利技术实施例涉及投影显示
，特别是涉及一种LED投影设备。

技术介绍

[0002]目前，LED投影设备在人们日常生活中的应用越来越广泛，随着人们生活水平的日益增高，人们对LED投影设备的要求也越来越高，随着LED投影设备性能和尺寸的不断提升，LED投影设备的亮度越来越高。但是，在传统的LED投影设备中仍旧采用塑胶透镜以及高折射率玻璃透镜，此类元件的缺点在于光吸收率相对较高，高温下易老化或破损，随着LED投影设备亮度的增高，如果继续采用此类元件会导致LED投影设备的可靠性降低。
[0003]鉴于此，如何提供一种解决上述技术问题的LED投影设备成为本领域技术人员需要解决的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例的目的是提供一种LED投影设备，在使用过程中有利于提高投影设备的可靠性。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种LED投影设备，包括发光源、聚焦光学系统、显示芯片和成像系统；所述聚焦光学系统包括第一反射元件，其中：
[0006]所述发光源，用于将发射的光束传输至所述聚焦光学系统；
[0007]所述聚焦光学系统，用于通过所述第一反射元件将接收到的光束进行反射后聚焦至所述显示芯片；
[0008]所述显示芯片，用于将接收到的光束反射至所述成像系统进行投影成像。
[0009]可选的，还包括设置于所述发光源与聚焦光学系统之间的匀光元件；
[0010]所述发光源，用于将发射的光束传输至所述匀光元件；
[0011]所述匀光元件，用于将所述发光源发射的光束进行匀光处理后传输至所述聚焦光学系统。
[0012]可选的，所述聚焦光学系统中还包括第二反射元件；
[0013]所述第一反射元件，用于将接收到的光束反射至所述第二反射元件上；
[0014]所述第二反射元件，用于将接收到的光束进行反射后聚焦至所述显示芯片。
[0015]可选的，所述第一反射元件和/或所述第二反射元件的光角度为正、且焦距大于5mm。
[0016]可选的，所述第一反射元件和/或所述第二反射元件设有高反射膜。
[0017]可选的，所述第一反射元件和所述第二反射元件表面的二次曲线常数的范围为(
‑
15,15)。
[0018]可选的，在所述发光源和所述匀光元件之间还包括准直光学系统，其中：
[0019]所述发光源，具体用于将发射的光束发生至所述准直光学系统；
[0020]所述准直光学系统，用于将接收到的光束进行准直后传输至所述匀光元件。
[0021]可选的，所述准直光学系统包括第三反射元件；其中：
[0022]所述第三反射元件，用于将接收到的光束进行反射后准直至所述匀光元件。
[0023]可选的，所述准直光学系统包括第四反射元件；
[0024]所述第三反射元件，用于将接收到的光束反射至所述第四反射元件；
[0025]所述第四反射元件，用于将接收到的光束进行准直后反射至所述匀光元件。
[0026]可选的，所述显示芯片为DMD。
[0027]本专利技术实施例提供了一种LED投影设备，包括发光源、聚焦光学系统、显示芯片和成像系统；聚焦光学系统包括第一反射元件，其中：发光源，用于将发射的光束传输至聚焦光学系统；聚焦光学系统，用于通过第一反射元件将接收到的光束进行反射后聚焦至显示芯片上；显示芯片，用于将接收到的光束反射至成像系统进行投影成像。
[0028]可见，本专利技术中的发光源发射的光束传输至聚焦光学系统，聚焦光学系统中的第一反射元件将接收到的光束反射并聚焦至显示芯片，并通过显示芯片反射至成像系统进行投影成像，本专利技术中的聚焦光学系统通过反射式的方式对光束进行反射聚焦，反射式元件对光吸收率较低，有利于提高投影设备的可靠性。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对现有技术和实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1为本专利技术实施例提供的一种LED投影设备的结构示意图；
[0031]图2为本专利技术实施例提供的另一种LED投影设备的结构示意图；
[0032]图3为本专利技术实施例提供的另一种LED投影设备的结构示意图；
[0033]图4为本专利技术实施例提供的一种准直光学系统的结构示意图。
具体实施方式
[0034]本专利技术实施例提供了一种LED投影设备，在使用过程中有利于提高投影设备的可靠性。
[0035]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0036]请参照图1，图1为本专利技术实施例提供的一种LED投影设备的结构示意图。该LED投影设备，包括发光源1、聚焦光学系统2、显示芯片3和成像系统4；聚焦光学系统2包括第一反射元件21，其中：
[0037]发光源1，用于将发射的光束传输至聚焦光学系统3；
[0038]聚焦光学系统2，用于通过第一反射元件21将接收到的光束进行反射后聚焦至显示芯片3；
[0039]显示芯片3，用于将接收到的光束反射至成像系统4进行投影成像。
[0040]具体的，本专利技术实施例中的发光源1将发射的光束传输至聚焦光学系统2，其中，聚焦光学系统2中设备第一反射元件21接收发光源1发射的光束，并将其进行反射后聚焦至显示芯片3上，显示芯片3对光线进行反射至成像系统4进行投影成像，由于聚焦光学系统2采用的是反射式的方式对光束进行反射聚焦，第一反射元件21将接收到的光反射出去，不经过元件内部，因此不会对元件本身造成损伤，因此更适合在高亮LED投影设备中使用，第一反射元件不易损坏，有利于提高投影设备的可靠性。另外，本专利技术中的第一反射元件21还可以通过反射的方式将光路折转，有利于减少产品体积。
[0041]进一步的，请参照图2，本专利技术实施例中的LED投影设备还可以包括设置于发光源1与聚焦光学系统2之间的匀光元件5；
[0042]发光源1，用于将发射的光束传输至匀光元件5；
[0043]匀光元件5，用于将发光源1发射的光束进行匀光处理后传输至聚焦光学系统2。
[0044]需要说明的是，为了提高LED投影设备的显示效果，本专利技术实施例中在发光源1和聚焦光学系统2之间设置匀光元件5，其中，匀光元件5将发光源1发射的光束进行匀光处理后能够使处理后的光束能量更加均匀，并且将匀光后的光束传输至聚焦光学系统2，聚焦光学系统2中的第一反射元件21接收匀光元件5传输的光束，并将本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LED投影设备，其特征在于，包括发光源、聚焦光学系统、显示芯片和成像系统；所述聚焦光学系统包括第一反射元件，其中：所述发光源，用于将发射的光束传输至所述聚焦光学系统；所述聚焦光学系统，用于通过所述第一反射元件将接收到的光束进行反射后聚焦至所述显示芯片；所述显示芯片，用于将接收到的光束反射至所述成像系统进行投影成像。2.根据权利要求1所述的LED投影设备，其特征在于，还包括设置于所述发光源与所述聚焦光学系统之间的匀光元件；所述发光源，用于将发射的光束传输至所述匀光元件；所述匀光元件，用于将所述发光源发射的光束进行匀光处理后传输至所述聚焦光学系统。3.根据权利要求1所述的LED投影设备，其特征在于，所述聚焦光学系统中还包括第二反射元件；所述第一反射元件，用于将接收到的光束反射至所述第二反射元件上；所述第二反射元件，用于将接收到的光束进行反射后聚焦至所述显示芯片。4.根据权利要求3所述的LED投影设备，其特征在于，所述第一反射元件和/或所述第二反射元件的光角度为正、且焦距大于5mm。5.根据权利要求3所述的L...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈怡学，聂思永，尹蕾，
申请(专利权)人：成都极米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：