一种PSS刻蚀上盖制造技术

本实用新型专利技术提供一种PSS刻蚀上盖，包括上盖本体、设于所述上盖本体中心位置的第一固定孔以及多个环绕所述第一固定孔的第二固定孔，所述第一固定孔的周侧环形阵列有多个可拆卸连接的第一压爪，所述第二固定孔的周侧环形阵列有多个可拆卸连接的第二压爪和第三压爪，所述第三压爪位于相邻的两个所述第二固定孔之间。通过将压爪改为可拆卸式连接，使得压爪在损坏后，可直接替换损坏的压爪，使得上盖可以反复循环利用，降低了耗材成本，解决了现有技术中PSS刻蚀上盖的压爪部分在刻蚀过程中易损耗，导致上盖整体报废，无法循环利用，增加了耗材成本的技术问题。材成本的技术问题。材成本的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种PSS刻蚀上盖


[0001]本技术涉及刻蚀载具
，特别涉及一种PSS刻蚀上盖。

技术介绍

[0002]PSS刻蚀的对象是蓝宝石衬底，属于微米级加工工艺，工艺要求之一是片内均匀性高(<3%)，特别是要求边缘区域的图形要对称且不能有粘连。随着行业标准的不断提升,边缘区域的质量越来越受重视，随之而来的是对边缘问题的处理能力构成了各PSS厂家，乃至于ICP设备厂商的核心竞争力，而在该工艺中托盘治具是影响边缘问题的关键因素。
[0003]现有技术中的PSS刻蚀载体托盘，包括金属托盘和金属上盖，这种治具的优点是制造工艺简单，制造成本较低廉，边缘效应不明显，但缺点是金属盖板在刻蚀过程中直接接触高能等离子体而易发生化学反应，尤其涉及上盖的压爪部分，随着使用时间的推移，压爪会因化学反应而逐渐变小，进而导致上盖整体报废，无法循环利用，增加了耗材成本。

技术实现思路

[0004]基于此，本技术的目的是提供一种PSS刻蚀上盖，用于解决现有技术中PSS刻蚀上盖的压爪部分在刻蚀过程中易损耗，导致上盖整体报废，无法循环利用，增加了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种PSS刻蚀上盖，包括上盖本体、设于所述上盖本体中心位置的第一固定孔以及多个环绕所述第一固定孔的第二固定孔，其特征在于，所述第一固定孔的周侧环形阵列有多个可拆卸连接的第一压爪，所述第二固定孔的周侧环形阵列有多个可拆卸连接的第二压爪和第三压爪，所述第三压爪位于相邻的两个所述第二固定孔之间；所述第三压爪包括第三平板部以及自所述第三平板部相对两侧凸出形成的第三压爪部，所述第三平板部上设有安装孔，所述第二固定孔的周侧环形阵列有多个螺纹孔；所述第三平板部的底面设有两个相互对称的第三弧形挡板，两个所述第三弧形挡板可分别贴合相邻两个所述第二固定孔的边缘轮廓；所述第三平板部的横截面呈三角形。2.根据权利要求1所述的PSS刻蚀上盖，其特征在于，所述第一压爪包括第一平板部以及自所述第一平板部一侧凸出形成的第一压爪部，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛俊涵，梁毅，林冠宏，崔思远，文国昇，金从龙，
申请(专利权)人：江西兆驰半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：