一种ALD加热炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种ALD加热炉，包括加热箱体，所述加热箱体下端前部和下端后部均安装有两个活动轮，后部所述两个活动轮之间共同安装有移动装置，所述加热箱体前端安装有柜门，所述柜门前端右部安装有把手，所述加热箱体右端中部安装有流量调节装置，所述加热箱体上端左部和上端右部共同安装有加热装置。本实用新型专利技术所述的一种ALD加热炉，通过流量调节装置电磁流量计对导入反应物的量进行检测，并将信号传递至控制器上，再由控制器控制电动控制阀的开启或者闭合以对导入量进行把控，通过加热装置上的均流板的设计，其能够使气体平稳均匀的流出，进而提高了成膜均匀性，通过移动装置方便加热箱体进行挪动。置方便加热箱体进行挪动。置方便加热箱体进行挪动。

【技术实现步骤摘要】
一种ALD加热炉


[0001]本技术涉及加热炉
，特别涉及一种ALD加热炉。

技术介绍

[0002]单原子层沉积(ALD)，又称原子层沉积或原子层外延。原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。
[0003]现有专利(申请号202010213002.4)公开了一种ALD加热炉，其背景中也提出传统的ALD装置需要将大量反应物导入反应腔室内，使衬底或上一原子层沉浸在前驱体的气氛中，但由于气流和真空限制，难以保证前驱体对整个衬底或上一原子层的全面覆盖，容易形成针孔等缺陷，造成前驱体与衬底或上一原子层接触不均匀，导致成膜均匀性差；同时反应物的导入没有一个很好的调节，反应物导过多会造成资源的浪费，较少又会影响装置加热效果。
[0004]综上所述，现有的ALD加热炉还存在下列的问题：
[0005]1、由于气流和真空限制，难以保证前驱体对整个衬底或上一原子层的全面覆盖，容易形成针孔等缺陷，造成前驱体与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ALD加热炉，包括加热箱体(1)，其特征在于：所述加热箱体(1)下端前部和下端后部均安装有两个活动轮(5)，后部所述两个活动轮(5)之间共同安装有移动装置(4)，所述加热箱体(1)前端安装有柜门(6)，所述柜门(6)前端右部安装有把手(7)，所述加热箱体(1)右端中部安装有流量调节装置(2)，所述加热箱体(1)上端左部和上端右部共同安装有加热装置(3)。2.根据权利要求1所述的一种ALD加热炉，其特征在于：所述流量调节装置(2)包括进料管(20)、出料管(21)和控制器(22)，所述进料管(20)外表面前部安装有电磁流量计(23)，所述进料管(20)和出料管(21)外表面中部均安装有电动控制阀(24)，所述电磁流量计(23)和两个电动控制阀(24)与控制器(22)之间均安装有连接线(25)，所述控制器(22)安装在加热箱体(1)右端中部，所述进料管(20)和出料管(21)均安装在加热箱体(1)右端上部。3.根据权利要求2所述的一种ALD加热炉，其特征在于：所述加热装置(3)包括加热腔体(30)，所述加热腔体(30)右端前部和右端后部均开有连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪宇澄，汪雨，陈尚加，罗滔，汪小龙，
申请(专利权)人：九未实业上海有限公司，
类型：新型
国别省市：