一种移相器的校准系统及校准方法技术方案

本发明专利技术涉及工艺检验技术领域，公开了一种移相器的校准系统及校准方法，校准系统包括：依次相连接的电容获取电路、调制器、中央处理器和校准应用电路；电容获取电路获取待测移相器的电容值，调制器将电容值转化为实时电压值，基于实时电压值与参考电压值确定电压差值，上述参考电压是根据检测合格的移相器确定的，中央处理器基于预设的电压差与补偿电压之间的关系，确定与电压差值对应的目标补偿电压，校准应用电路基于目标补偿电压，在金属电桥与共面波导信号线之间生成补偿磁场，并运用补偿磁场对金属电桥与隔离层之间的距离进行调节，以使待测移相器中金属电桥与隔离层之间的距离趋于正常，从而提升了待测移相器的合格率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
一种移相器的校准系统及校准方法


[0001]本专利技术涉及工艺检验
，尤指一种移相器的校准系统及校准方法。

技术介绍

[0002]目前，在理想生产工艺条件下，移相器中的金属电桥会保持水平位置，即金属电桥与隔离层之间的距离是固定的。
[0003]但由于制造工艺的偏差，会使移相器中的金属电桥距离隔离层的高低不同，参阅图1所示，即金属电桥偏离水平位置，金属电桥与隔离层之间的距离大于或者小于预期的固定值，常见的，金属电桥会出现如图1中虚线框所指形变区域内的形变，从而导致移相器的生产合格率降低。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种移相器的校准系统及校准方法，用于解决现有技术中移相器因为金属电桥形变导致生产合格率降低的问题。
[0005]本专利技术实施例提供的一种移相器的校准系统，其中，移相器包括金属电桥、与金属电桥平行设置的隔离层和位于隔离层远离金属电桥一侧的共面波导信号线，校准系统包括：依次相连接的电容获取电路、调制器、中央处理器和校准应用电路；
[0006]电容获取电路，被配置为获取待测移本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种移相器的校准系统，其特征在于，其中，移相器包括金属电桥、与所述金属电桥平行设置的隔离层和位于所述隔离层远离所述金属电桥一侧的共面波导信号线，所述校准系统包括：依次相连接的电容获取电路、调制器、中央处理器和校准应用电路；所述电容获取电路，被配置为获取待测移相器的电容值；所述调制器，被配置为将所述电容值转化为实时电压值，基于所述实时电压值与参考电压值确定电压差值，其中，所述参考电压是根据检测合格的移相器确定的；所述中央处理器，被配置为基于预设的电压差与补偿电压之间的关系，确定与所述电压差值对应的目标补偿电压；所述校准应用电路，被配置为基于所述目标补偿电压，在所述金属电桥与所述共面波导信号线之间生成补偿磁场，并运用所述补偿磁场对所述金属电桥与所述隔离层之间的距离进行调节。2.如权利要求1所述的校准系统，其特征在于，还包括相连接的多路复用器和时钟发生器，其中，所述多路复用器连接在所述电容获取电路与所述调制器之间，所述时钟发生器还与所述调制器相连接；所述时钟发生器，被配置为为所述多路复用器和所述调制器提供系统时钟；所述多路复用器，被配置为在所述系统时钟的控制下，将获取到的所述电容值串行传输给所述调制器。3.如权利要求1所述的校准系统，其特征在于，所述中央处理器为FPGA芯片；所述FPGA芯片，被配置为预先根据多个检测合格的移相器确定所述参考电压，以及，预先根据多个移相器确定所述预设的电压差与补偿电压之间的关系，并根据所述电压差与补偿电压之间的关系，确定与所述电压差值对应的目标补偿电压。4.如权利要求1～3任一项所述的校准系统，其特征在于，还包括数字滤波器，所述数字滤波器连接在所述调制器和所述中央处理器之间；所述数字滤波器，被配置为滤除所述电压差值中包括的噪声，并将滤除噪声后的电压差值发送给所述中央处理器。5.如权利要求1～3任一项所述的校准系统，其特征在于，所述校准应用电路，具体被配置为若所述目标补偿电压表征所述金属电桥与所述隔离层之间的距离小于基准距离，则将所述目标补偿电压转换为同相的模拟校准电压，将同相的所述模拟校准电压分别发送给所述金属电桥和所述共面波导信号线，以生成所述补偿磁场，其中，所述基准距离表征检测合格的移相器中所述金属电桥与所述隔离层之间的距离；或者，所述校准应用电路，具体被配置为若所述目标补偿电压表征所述金属电桥与所述隔离层之间的距离大于所述基准距离，则将所述目标补偿电压转换为不同相的模...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢尧，段立业，郭景文，曲峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：