一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液制造技术

本发明专利技术涉及一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液技术领域，尤其涉及一种硅的氧化物、碳化物、氮化物研磨颗粒两性离子表面改性的方法，包括如下步骤：步骤S1：将粒径为d 1固含量为m1的研磨颗粒与表面活性剂加入甲苯中分散；步骤S2：在超声波清洗机中频率f 1功率p 1超声处理t 1小时，然后进行使用配备超声波震头在频率f2功率p2进行进一步超声处理持续时间t2；步骤S3：使用离心机以转速r 1离心t3小时，倒掉上层溶液，保存研磨颗粒沉淀；步骤S4：研磨颗粒沉淀重新均匀分散在含氨水特定PH值水溶液中。水溶液中。水溶液中。

【技术实现步骤摘要】
一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液


[0001]本专利技术涉及一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液
，尤其涉及一种硅的氧化物、碳化物、氮化物研磨颗粒两性离子表面改性的方法。
[0002]本专利技术研磨颗粒两性离子改性的方法，所含的具备高性能表面活性活性剂抛光液提高亮度，既降低表面粗糙度。乳液中的活性剂的存在，抛光膜能很好地粘附在基材表面，从而保持更长时间的光泽度。一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液具有良好的抗静电能力，有一定的柔软作用，具有良好的润湿性。
[0003]两亲聚合物可以在水溶液中以类似于短链表面活性剂的方式缔合形成胶束。另一方面，表面活性剂，如碳链C16
‑
C18可以从固体脂肪和油中生产，如果可以利用这些，将减少资源的浪费，并且来源稳定可预期。因此，此技术因此而研发。

技术介绍

[0004]目前市面上大多数的化学机械抛光液的悬浮液的稳定性较差，研磨颗粒易团聚，酸碱性抛光废液污染环境等一系列问题。
[0005]表面活性剂是一种两亲的分子，一头亲水一头亲油。因此，低浓度时表面活性剂倾向于留在水的表面，亲油(厌水)的一头朝外，降低水
‑
空气界面的张力。离子、非离子乳化体系具有良好的稳定性。
[0006]但是当浓度超过一个点时，表面活性剂会开始抱团，形成胶束，表面活性不再增强。

技术实现思路

[0007]为克服上述的技术问题，本专利技术还提供一种硅的氧化物、碳化物、氮化物研磨颗粒两性离子表面改性的方法用远高于其临界值溶解度表面活性剂改性研磨颗粒,使得长链表面活性剂分子附着在研磨颗粒颗粒表面。使得研磨颗粒表面活性增强，具备更好地润湿性，并将其乳化的能力，通过机械、化学的协同作用，降低工件表面粗糙度，获得光亮、平整表面，包括如下步骤：
[0008]步骤S1：将粒径为d1固含量为m1的研磨颗粒与表面活性剂加入甲苯中分散；
[0009]步骤S2：在超声波清洗机中频率f1功率p1超声处理t1小时，然后进行使用配备超声波震头在频率f2功率p2进行进一步超声处理持续时间t2；
[0010]步骤S3：使用离心机以转速r1离心t3小时，倒掉上层溶液，保存研磨颗粒沉淀；
[0011]步骤S4：研磨颗粒沉淀重新均匀分散在含氨水特定PH值水溶液中；
[0012]优选地，所述研磨颗粒包括但不限于硅的氮化物、氧化物或碳化物中的一种或多种；
[0013]优选地，所述粒径d1为固含量m1为0.1
‑
2wt％，时间t1为0.5
‑
5h，所述时间t2为0.1
‑
0.5h,所述t3为0.2
‑
0.8h，所述f1为25
‑
40kHz，所述f2为15
‑
30kHz,所述p1为300
‑
720W，所述p2为50
‑
100W，r1为2000
‑
8000rpm；
[0014]优选地，所述表面活性剂分子链中碳原子数量为12
‑
22个；
[0015]优选地，所述包含两种长链表面活性剂，分别为离子型和非离子型，离子型包括但不限于：鞘氨醇、二氢鞘氨醇、4
‑
鞘氨醇、葡萄糖基鞘氨醇、4
‑
羟基鞘氨醇中的一种或多种，非离子型包括但不限于：辛基苯基聚氧乙烯醚；
[0016]优选地，所述表面活性剂含量：离子型2.0wt％，非离子型1.0wt％；
[0017]本专利技术还提供了一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液，使得制成的抛光液稳定性得到提高。
[0018]优选地，所述研磨颗粒沉淀重新分散在纯水中；
[0019]优选地，所述氨水调控的水溶液，PH值为6.5
‑
9。
[0020]相对于现有技术，本专利技术具有如下优点：
[0021]通过表面改性，使得长链表面活性剂分子附着在研磨颗粒颗粒表面。使得研磨颗粒表面活性增强，具备更好地润湿性，并增强其乳化的能力，通过机械、化学的协同作用，降低工件表面粗糙度，获得光亮、平整表面。
【附图说明】
[0022]图1是本专利技术一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液制备方法的流程示意图。
[0023]图2为本专利技术表面改性研磨颗粒扫描电子显微镜图。
【具体实施方式】
[0024]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用于解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0025]请参阅图1,本专利技术提供了一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液，包括如下步骤：
[0026]步骤S1：将粒径为d1固含量为m1的研磨颗粒与表面活性剂加入甲苯中分散；
[0027]步骤S2：在超声波清洗机中频率f1功率p1超声处理t1小时，然后进行使用配备超声波震头在频率f2功率p2进行进一步超声处理持续时间t2；
[0028]步骤S3：使用离心机以转速r1离心t3小时，倒掉上层溶液，保存研磨颗粒沉淀；
[0029]步骤S4：研磨颗粒沉淀重新均匀分散在含氨水特定PH值水溶液中；
[0030]在本专利技术的步骤S1中，所述研磨颗粒包括但不限于硅的氮化物、氧化物或碳化物中的一种或多种；
[0031]在本专利技术的步骤S1中，表面活性剂分子链中碳原子数量为12
‑
22个；两种长链表面活性剂，分别为离子型和非离子型，离子型包括但不限于：鞘氨醇、二氢鞘氨醇、4
‑
鞘氨醇、葡萄糖基鞘氨醇、4
‑
羟基鞘氨醇中的一种或多种，非离子型包括但不限于：辛基苯基聚氧乙烯醚；
[0032]在本专利技术的步骤S1中，表面活性剂含量：离子型2.0wt％，非离子型1.0wt％；
[0033]在本专利技术的步骤S2中，粒径d1为固含量m1为0.1
‑
2wt％,时间t1为0.5
‑
5h，所述时间t2为0.1
‑
0.5h,所述t3为0.2
‑
0.8h，所述f1为25
‑
40kHz，所述f2为15
‑
30kHz,所述p1为300
‑
720W，所述p2为50
‑
100W，r1为2000
‑
8000rpm；
[0034]在本专利技术的步骤S4中，所述研磨颗粒沉淀重新分散在纯水中；氨水调控至PH值为6.5
‑
9。
[0035]在本专利技术实施例中，提供进一步具体实施例，结合表1，具体如下：
[0036]1、第一具体实施例：
[0037]将粒径为固含量2wt％的研磨颗粒加入甲苯并与表面活性剂混合；每份均加入2.0wt％的鞘氨醇和1.0wt％辛基苯基聚氧乙烯醚，在超声波清洗机中频率25k本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.本发明涉及一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液技术领域，尤其涉及一种硅的氧化物、碳化物、氮化物研磨颗粒两性离子表面改性的方法，包括如下步骤：步骤S1：将粒径为d1固含量为m1的研磨颗粒与表面活性剂加入甲苯中分散；步骤S2：在超声波清洗机中频率f1功率p1超声处理t1小时，然后进行使用配备超声波震头在频率f2功率p2进行进一步超声处理持续时间t2；步骤S3：使用离心机以转速r1离心t3小时，倒掉上层溶液，保存研磨颗粒沉淀；步骤S4：研磨颗粒沉淀重新均匀分散在含氨水特定PH值水溶液中。2.如权利要求1所述的一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液，其特征在于：所述研磨颗粒包括但不限于硅的氮化物、氧化物或碳化物中的一种或多种。3.如权利要求1所述的一种两性离子表面活性成分的化学机械抛光液，其特征在于：所述粒径d1为固含量m1为0.1
‑
2wt％，时间t1为0.5
‑
5h，所述时间t2为0.1
‑
0.5h,所述t3为0.2
‑
0.8h，所述f1为25
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：魏炜，肖辉亚，黄灿容，马楠楠，李光，侯康生，韦苏琳，
申请(专利权)人：深圳市永霖科技有限公司，
类型：发明
国别省市：