清洁平台和离子清洁装置制造方法及图纸

技术编号:36019085 阅读:96 留言:0更新日期:2022-12-21 10:12
本发明专利技术涉及产品清洁设备技术领域,尤其涉及一种清洁平台和离子清洁装置。该清洁平台包括平台本体、清洁托盘、上料转运模块和下料转运模块。平台本体具有清洁工位和空置工位,沿空置工位和清洁工位的排布方向,平台本体的两侧分别为第一侧和第二侧;多个清洁托盘均可移动地设置于平台本体,以在清洁工位和空置工位之间往复移动;上料转运模组拾取并运输待清洁产品,以经由第一侧将待清洁产品放置于空置工位处的清洁托盘;下料转运模组拾取并运输已清洁产品,以经由第二侧将已清洁产品从空置工位处的清洁托盘中取出。该离子清洁装置包括该清洁平台。该清洁平台和离子清洁装置实现多个产品的上料、清洁和下料的不间断工作,清洁效率提高。提高。

【技术实现步骤摘要】
清洁平台和离子清洁装置
[0001]本申请是申请号为202110670432.3、申请日为2021年6月17日、专利技术名称为“清洁平台和离子清洁装置”的中国申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及产品清洁设备
,尤其涉及一种清洁平台和离子清洁装置。

技术介绍

[0003]对于像智能手表的表壳这一类,在整条生产线上需要经历很多生产加工工序的产品,一般都是将其放置在载具中,并使其沿生产线流转,以便于在各生产加工工序中对每个产品进行独立操作。
[0004]在所有生产加工工序中,通常存在清洁加工工序,相关技术中,一般都是通过人工直接在输送线上进行逐个吹扫,尚且不能满足批量化的清洁需求。

技术实现思路

[0005]本专利技术的第一目的在于提供一种清洁平台,以在一定程度上解决现有技术中的直接在输送线上对产品进行逐个吹扫,尚且不能满足批量化清洁的需求的技术问题。
[0006]本专利技术的第二目的在于提供一种离子清洁装置,以在一定程度上解决现有技术中仍然通过人工对产品进行逐个吹扫,尚且不能满足批量化清洁的需求本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁平台,其特征在于,包括:平台本体,所述平台本体具有并排设置的清洁工位和空置工位,所述清洁工位用于对应清洁设备,沿所述空置工位和所述清洁工位的排布方向,所述平台本体的两侧分别为第一侧和第二侧;清洁托盘,多个所述清洁托盘均可移动地设置于所述平台本体,以分别在所述清洁工位和所述空置工位之间往复移动;上料转运模组,所述上料转运模组用于拾取并运输待清洁产品,以经由所述平台本体的第一侧将所述待清洁产品放置于所述空置工位处的所述清洁托盘;下料转运模组,所述下料转运模组用于拾取并运输已清洁产品,以经由所述平台本体的第二侧将所述已清洁产品从所述空置工位处的所述清洁托盘中取出;所述上料转运模组包括上料模块,所述下料转运模组包括下料模块;所述清洁平台用于设置在输送线的侧部;所述输送线以产品的长度方向运输所述产品,所述清洁托盘具有用于容纳所述产品的定位空间,所述定位空间的长度方向与所述输送线的长度方向垂直;所述上料模块的拾取部能够带动所述产品转动,以使所述产品的长度方向由所述输送线的输送方向转动至所述定位空间的长度方向;所述下料模块的拾取部能够带动所述产品转动,以使所述产品的长度方向由所述定位空间的长度方向转动至所述输送线的输送方向。2.根据权利要求1所述的清洁平台,其特征在于,沿多个所述清洁托盘的排布方向,所述平台本体的两侧分别为第三侧和第四侧;所述上料模块设置于所述平台本体的第三侧,并能够沿所述清洁工位和所述空置工位的排布方向往复移动,以将所述待清洁产品运向所述空置工位;所述下料模块设置于所述平台本体的第四侧,并能够沿所述清洁工位和所述空置工位的排布方向往复移动,以将所述已清洁产品运离所述空置工位。3.根据权利要求2所述的清洁平台,其特征在于,所述上料转运模组还包括上料接驳模块,所述下料转运模块还包括下料接驳模块;所述上料接驳模块设置于所述清洁工位的背离于所述空置工位的一侧,并能够沿所述清洁托盘的排布方向往复移动,以将所述待清洁产品从所述上料模块转运至所述空置工位的空置的所述清洁托盘;所述下料接驳模块设置于所述设置于所述空置工位的背离于所述清洁工位的一侧,以将所述已清洁产品从所述空置工位的所述清洁托盘转运至所述下料模块。4.根据权利要求3所述的清洁平台,其特征在于,所述上料模块、所述上料接驳模块、所述下料模块和所述下料接驳模块均包括导向滑动支撑架、移...

【专利技术属性】
技术研发人员:邵常书
申请(专利权)人:江苏创源电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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