本实用新型专利技术是一种可制成能够更容易均匀地形成高品质的膜的制膜系统与制膜装置，包括：将原料溶液雾化而形成原料雾的机构；将原料雾与载气混合而形成混合气的机构；载台，载置基体；将混合气从混合气供给单元供给至基体并在基体上进行制膜的机构；对制膜后的混合气进行排气的机构；通道板，以隔着空间与基体相向的方式配置于基体上；以及凸部，以遮挡混合气的气流偏离从混合气供给单元朝向排气单元的方向的方式形成于通道板的一部分和/或载台的一部分，通道板与凸部以形成比通道板与基体之间的空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。的方式配置。的方式配置。
【技术实现步骤摘要】
制膜系统及制膜装置
[0001]本技术涉及一种将经雾化的液体原料供给至基体进行制膜的制膜系统及制膜装置。
技术介绍
[0002]作为能够在低温、大气压下形成外延膜等的方法，已知有雾化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition，CVD)法等使用水微粒的制膜方法。在专利文献1中，示出了通过从相对于基体倾斜地配置的喷嘴向基体供给原料雾来进行制膜的制膜装置。另外，在专利文献2中，记载了利用载气将原料雾搬送至反应容器内，进而产生回旋流而使所述雾与基体反应的成膜方法。
[0003]但是，现有的制膜方法无法充分地进行基体上的原料雾控制，其结果，存在以下问题：对于实用尺寸的大口径基体，难以进行均匀的厚度的制膜，或进而因雾的紊流而产生的粉体等异物附着于基体表面，膜的品质与成品率下降。
[0004][现有技术文献][0005][专利文献][0006][专利文献1]日本专利特开2018
‑
142637号公报
[0007][专利文献2]日本专利特开2016
‑
146442号公报
技术实现思路
[0008][技术所要解决的问题][0009]本技术是为了解决所述问题而成，其目的在于提供一种能够以高生产性制造表面缺陷或颗粒的附着显著减少的高品质的膜的制膜系统、能够以高生产性制造表面缺陷或颗粒的附着显著减少的高品质的膜的制膜装置、主表面上的颗粒少的层叠体。
[0010][解决问题的技术手段][0011]为了解决所述问题，在本技术中，提供一种制膜系统，包括：
[0012]将原料溶液雾化而形成原料雾的机构；
[0013]将所述原料雾与载气混合而形成混合气的机构；
[0014]载台，载置基体；
[0015]将所述混合气从混合气供给单元供给至所述基体并在所述基体上进行制膜的机构；以及
[0016]对所述制膜后的混合气进行排气的机构，
[0017]通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上，
[0018]凸部，以遮挡所述混合气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气单元的方向的方式在所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，
[0019]所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。
[0020]另外，在本技术中，提供一种制膜装置，包括：
[0021]雾化单元，将原料溶液雾化而形成原料雾；
[0022]载气的供给单元，搬送所述原料雾；
[0023]载台，载置基体；
[0024]混合气供给单元，将混合了所述原料雾与所述载气的混合气供给至所述基体表面；
[0025]通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上；
[0026]排气单元，对所述空间中的混合气进行排气；以及
[0027]凸部，以遮挡所述混合气的气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气单元的方向的方式形成于所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，且所述制膜装置的特征在于，
[0028]所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。
[0029]若为此种制膜装置，则可抑制颗粒附着，从而成为能够在基体表面均匀地形成高品质的膜的制膜装置。
[0030]另外，在本技术中，提供一种制膜系统，包括：
[0031]将原料溶液雾化而形成原料雾的机构；
[0032]将所述原料雾与载气混合而形成混合气的机构；
[0033]基体；
[0034]载台，载置所述基体；
[0035]将所述混合气从混合气供给单元供给至所述基体并在所述基体上进行制膜的机构；
[0036]对所述制膜后的混合气进行排气的机构；
[0037]通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上；以及
[0038]凸部，以遮挡所述混合气的气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气单元的方向的方式形成于所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，
[0039]所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。
[0040]另外，在本技术中，提供一种制膜系统，包括：
[0041]雾化单元，将原料溶液雾化而形成原料雾；
[0042]载气的供给单元，搬送所述原料雾；
[0043]载台，载置基体；
[0044]雾供给单元，将混合了所述原料雾与所述载气的混合气供给至所述基体表面；
[0045]通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上；
[0046]凸部，形成于所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，与所述载台及所述通道板一并构成整流机构；以及
[0047]排气单元，连接于所述整流机构，且
[0048]所述凸部以遮挡所述混合气的气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气单元的方向的方式形成，
[0049]所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。
[0050]所述载台可设为在所述基体的载置部包括容纳所述基体的锪孔。
[0051]通过设置此种锪孔，可调整载台的上表面与基体的上表面的落差(高低差)，充分地抑制因载台与基体的阶差而产生紊流从而抑制颗粒的产生，另外，可充分地抑制产生雾的分布而防止膜厚分布变大。
[0052]所述通道板及所述凸部优选为以所述最短距离d1成为所述宽度d2的1.5倍以上的方式配置。
[0053]若为此种制膜装置，则能够形成更高品质的膜。
[0054]所述通道板及所述凸部更优选为以所述最短距离d1成为所述宽度d2的2倍以上的方式配置。
[0055]所述通道板及所述凸部以所述最短距离d1成为所述宽度d2的1.5倍以上的方式配置。
[0056]所述通道板及所述凸部以所述最短距离d1成为所述宽度d2的2倍以上的方式配置。
[0057]若为此种制膜装置，则进而能够更稳定地形成高品质的膜。
[0058]所述凸部可形成于所述通道板的一部分。
[0059]若为此种制膜装置，则可制成能够更容易均匀地形成高品质的膜的制膜装置。
[0060]所述凸部可形成于所述载台的一部分。
[0061]若为此种制膜装置，则可制成能够更容易均匀地形成高品质的膜的制膜装置。
[0062][技术的效果][0063]如以上所述，若为本技术的制膜系统，则能够以高生产性制造表面缺陷或颗粒等异物的附着显著减少的高品质的膜、例如薄膜。
[0064]另外，若为本技术的制膜装置，则能够以高生产性制造表面缺陷或颗粒等异物的附着显著减少的高品质的膜、例如薄膜。
[0065]而且，若为本技术的层叠体，则本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制膜系统，其特征在于，包括：将原料溶液雾化而形成供给至基体的混合气所包含的原料雾的机构；将所述原料雾与载气混合而形成所述混合气的机构；载台，载置所述基体；将所述混合气从混合气供给单元供给至所述基体并在所述基体上进行制膜的机构；对所述制膜后的混合气进行排气的机构；通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上；以及凸部，以遮挡所述混合气的气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气的机构的方向的方式形成于所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。2.一种制膜装置，其特征在于，包括：雾化单元，将原料溶液雾化而形成供给至基体的混合气所包含的原料雾；载气的供给单元，通过载气配管向所述雾化单元供给搬送所述原料雾的载气；载台，载置所述基体；混合气供给单元，将混合了所述原料雾与所述载气的所述混合气通过雾配管供给至所述基体表面；通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上；排气单元，对所述空间中的混合气进行排气；以及凸部，以遮挡所述混合气的气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气单元的方向的方式形成于所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，且所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。3.一种制膜系统，其特征在于，包括：雾化单元，将原料溶液雾化而形成供给至基体的混合气所包含的原料雾；载气的供给单元，搬送所述原料雾；所述基体；载台，载置所述基体；混合气供给单元，将混合了所述原料雾与所述载气的所述混合气供给至所述基体表面；通道板，以隔着空间与所述基体相向的方式配置于所述基体上；排气单元，对所述空间中的混合气进行排气；以及凸部，以遮挡所述混合气的气流偏离从所述混合气供给单元朝向所述排气单元的方向的方式形成于所述通道板的一部分和/或所述载台的一部分，且所述通道板与所述凸部以形成比所述通道板与所述基体之间的所述空间中的最短距离d1小的宽度d2的空隙的方式配置。4.一种制膜系统，其特征在于，包括：将原料溶液雾化而形成供给至基体的混合气所包含的原料雾的机构；将所述原料雾与载气混合而形成所述混合气的机构；
所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：桥上洋，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：新型
国别省市：
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