一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及抛釉砖加工技术领域，尤其涉及一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置。其技术方案包括：柜体，柜体的顶部固定安装有抛光台，且抛光台的顶部固定安装有多组真空吸盘，且柜体的内部设有真空泵，柜体的顶部固定安装有保护罩，且保护罩内部的两侧皆设有第一滑轨，第一滑轨上设有第二滑轨，且第二滑轨上设有电动推杆。本实用新型专利技术通过设置真空吸盘与真空泵配合，可以通过真空吸附的方式对抛釉砖进行吸附固定，从而避免了装置对抛釉砖固定时造成破损的情况，提高了安全性，设置保护罩与吸尘器、吸尘嘴配合，可以对装置作业时产生的尘灰进行抽取收集，避免了尘灰对工作环境造成污染的情况，增加了安全性，扩大了适用范围。扩大了适用范围。扩大了适用范围。

【技术实现步骤摘要】
一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置


[0001]本技术涉及抛釉砖加工
，具体为一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置。

技术介绍

[0002]抛釉砖是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，它是施于仿古砖的最后一道釉料，一般为透明面釉或透明凸状花釉，施于抛釉的抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽，抛釉砖在生产加工时需要对其进行抛光作业。
[0003]经检索，专利公告号为CN 214186785 U公开一种抛釉砖镜面抛光装置，包括基座、抛光室、压紧机构、液压缸和抛光液循环系统；抛光液循环系统包括喷射组合，与所述喷射组合通过导管连接的液压泵，设置在所述液压泵下方的储液箱，设置在所述抛光机构下方的过滤箱。
[0004]现有的抛釉砖抛光装置存在的缺陷是：
[0005]1、现有的抛釉砖抛光装置的结构较为简单，多数采用夹持固定的方式对抛釉砖进行固定，在夹持固定时易对抛釉砖造成破损的情况，降低了装置的安全性；
[0006]2、同时现有的抛釉砖抛光装置的功能较为单一，多数是采用开放式结构，作业时不具备对产生的灰尘进行抽取收集的功能，为此我们提出一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置来解决现有的问题。

技术实现思路

[0007]本技术的目的在于提供一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0008]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置，包括柜体，所述柜体的顶部固定安装有抛光台，且抛光台的顶部固定安装有多组真空吸盘，且柜体的内部设有真空泵，所述柜体的顶部固定安装有保护罩，且保护罩内部的两侧皆设有第一滑轨，所述第一滑轨上设有第二滑轨，且第二滑轨上设有电动推杆，所述电动推杆的输出端设有抛光电机，且抛光电机的输出端设有抛光轮，所述柜体内部的一侧设有控制主机，且控制主机的一侧设有变频器，所述变频器的上方设有PLC控制器，所述柜体正面的上方设有手动面板，所述保护罩内部的后侧设有吸尘嘴，且真空泵的一侧设有吸尘器。
[0009]使用本技术方案的一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置，抛光台可以对抛釉砖进行支撑放置，同时通过真空吸盘与真空泵配合可以通过真空吸附的方式对抛光台上的抛釉砖进行吸附固定，增加了装置对抛釉砖打磨抛光时的稳定性，保护罩可以在装置对抛釉砖抛光时进行闭合保护，避免了尘灰飞扬的情况，抛光电机带动抛光轮转动可以对抛光台上的抛釉砖进行抛光作业，电动推杆可以对抛光轮的高度进行调节，第一滑轨与第二滑轨配合可以对抛光轮进行左右前后移动，从而便于装置对抛釉砖进行全方位抛光作业，控制主机
通过导线与第一滑轨、第二滑轨、电动推杆、抛光电机连接，从而通过控制主机实现装置对抛釉砖进行自动抛光的功能，变频器可以对抛光电机使用时的转速进行调节，PLC控制器通过导线与第一滑轨、第二滑轨、电动推杆、抛光电机连接，手动面板通过导线与PLC控制器连接，从而通过PLC控制器与手动面板配合便于工作人员在装置作业时进行手动操作，增加了装置的功能性，提高了实用性，吸尘器与吸尘嘴配合可以对装置作业时产生的尘灰进行抽取收集，增加了装置的功能性，提高了实用性。
[0010]优选的，所述保护罩的内壁设有隔音垫，且抛光台的后侧固定安装有定位板。隔音垫可以对装置作业时进行隔音降噪，定位板可以对抛釉砖放置在抛光台上时的背部进行支撑定位。
[0011]优选的，所述保护罩的正面活动安装有密封门，且密封门上固定安装有观察窗，观察窗的内侧设有拉槽。密封门可以对保护罩的正面进行闭合密封，用时通过观察窗便于工作人员对装置作业时的内部进行观察，拉槽便于工作人员对密封门开启时进行操作。
[0012]优选的，所述手动面板的一侧固定安装有启动按钮，且手动面板的另一侧固定安装有急停按钮。启动按钮可以对装置进行开启与关闭，急停按钮可以对装置进行紧急停止。
[0013]优选的，所述柜体的正面活动安装有维护门，且维护门上固定安装有安全锁。维护门便于工作人员后期对装置的内部进行检修作业，安全锁可以对维护门闭合时进行锁定。
[0014]优选的，所述柜体的底部转动安装有螺纹杆，且螺纹杆的底部固定安装有支撑座。螺纹杆与支撑座配合可以对装置放置使用时的底部进行支撑。
[0015]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0016]1、通过设置真空吸盘与真空泵配合，可以通过真空吸附的方式对抛釉砖进行吸附固定，从而避免了装置对抛釉砖固定时造成破损的情况，提高了安全性。
[0017]2、设置保护罩与吸尘器、吸尘嘴配合，可以对装置作业时产生的尘灰进行抽取收集，避免了尘灰对工作环境造成污染的情况，增加了安全性，扩大了适用范围。
附图说明
[0018]图1为本技术的立体结构示意图；
[0019]图2为本技术的正面内部示意图；
[0020]图3为本技术的正面结构示意图；
[0021]图4为本技术的抛光台俯视结构示意图。
[0022]图中：1、支撑座；101、螺纹杆；2、柜体；3、维护门；301、安全锁；4、启动按钮；401、手动面板；402、急停按钮；5、保护罩；501、隔音垫；6、密封门；601、观察窗；602、拉槽；7、控制主机；8、PLC控制器；801、变频器；9、吸尘器；901、吸尘嘴；10、真空泵；11、抛光台；1101、真空吸盘；1102、定位板；12、抛光电机；1201、抛光轮；13、电动推杆；14、第一滑轨；1401、第二滑轨。
具体实施方式
[0023]下文结合附图和具体实施例对本技术的技术方案做进一步说明。
[0024]实施例一
[0025]如图1
‑
4所示，本技术提出的一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置，包括柜体2，柜体2的顶部固定安装有抛光台11，且抛光台11的顶部固定安装有多组真空吸盘1101，且柜
体2的内部设有真空泵10，柜体2的顶部固定安装有保护罩5，且保护罩5内部的两侧皆设有第一滑轨14，第一滑轨14上设有第二滑轨1401，且第二滑轨1401上设有电动推杆13，电动推杆13的输出端设有抛光电机12，且抛光电机12的输出端设有抛光轮1201，柜体2内部的一侧设有控制主机7，且控制主机7的一侧设有变频器801，变频器801 的上方设有PLC控制器8，柜体2正面的上方设有手动面板401，保护罩5内部的后侧设有吸尘嘴901，且真空泵10的一侧设有吸尘器9。
[0026]基于实施例1的噪音污染低的抛釉砖抛光装置工作原理是：抛光台11可以对抛釉砖进行支撑放置，同时通过真空吸盘1101与真空泵10配合可以通过真空吸附的方式对抛光台11上的抛釉砖进行吸附固定，增加了装置对抛釉砖打磨抛光时的稳定性，保护罩5可以在装置对抛釉砖抛光时进行闭合保护，避免了尘灰飞扬的情况，抛光电机12带动抛光轮1201转动可以对抛光台11 上的抛釉砖进行抛光作业，电动推杆13可以对抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置，包括柜体(2)，其特征在于：所述柜体(2)的顶部固定安装有抛光台(11)，且抛光台(11)的顶部固定安装有多组真空吸盘(1101)，且柜体(2)的内部设有真空泵(10)，所述柜体(2)的顶部固定安装有保护罩(5)，且保护罩(5)内部的两侧皆设有第一滑轨(14)，所述第一滑轨(14)上设有第二滑轨(1401)，且第二滑轨(1401)上设有电动推杆(13)，所述电动推杆(13)的输出端设有抛光电机(12)，且抛光电机(12)的输出端设有抛光轮(1201)，所述柜体(2)内部的一侧设有控制主机(7)，且控制主机(7)的一侧设有变频器(801)，所述变频器(801)的上方设有PLC控制器(8)，所述柜体(2)正面的上方设有手动面板(401)，所述保护罩(5)内部的后侧设有吸尘嘴(901)，且真空泵(10)的一侧设有吸尘器(9)。2.根据权利要求1所述的一种噪音污染低的抛釉砖抛光装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：诸葛金水，
申请(专利权)人：江西帝维陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：