【技术实现步骤摘要】
一种行星锅蒸镀用的硅片定位结构
[0001]本技术涉及行星锅产品领域,特别涉及一种行星锅蒸镀用的硅片定位结构。
技术介绍
[0002]金属化是半导体器件芯片制造不可或缺的加工工步,器件的电流由金属化电极引出同外界连接实现各种功能。大多数小功率硅器件的背面金属化是蒸金,为确保金膜覆盖完整厚度均匀,蒸发设备都具备几组可以围绕蒸发源公转、同时自转的所谓行星锅;每个锅设有若干紧配合的定位环,待加工硅片被放置在定位环上。硅片背面朝向蒸发源,正面压上一片挡片并用压簧压住固定。
[0003]这种硅片定位结构存在如下两个问题:
[0004]1经过蒸金多次加工作业,定位环上会积累一定厚度的金箔,行星锅的旋转震动会使金箔剥离起翘,起翘的金箔会给待蒸金的硅片造成遮挡,使局部面积上金膜厚度不足甚至无金膜;
[0005]2每次装片卸片,硅片正面的挡片同硅片正面之间不可避免有少许摩擦,这样对硅片正面的金属化铝电极造成划伤。
技术实现思路
[0006]本申请通过提供一种行星锅蒸镀用的硅片定位结构,从而解决
技术介绍
中提到 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种行星锅蒸镀用的硅片定位结构,其特征在于,包括:行星锅,所述行星锅开设有定位孔;定位环,所述定位环插设于所述定位孔中,所述定位环的上端设置有用于与所述行星锅接触的限位边,所述定位环还开设有放片孔;压盖,所述压盖插设于所述放片孔中,所述压盖朝向所述放片孔的表面设置有定位面,所述定位面为中空结构;压紧件,所述压紧件连接于所述行星锅,所述压紧件用于将所述压盖压紧于所述放片孔中。2.根据权利要求1所述的硅片定位结构,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈翠红,王明智,高孝琴,
申请(专利权)人:扬州晶新微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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