差动排气装置及聚焦能量束装置制造方法及图纸

差动排气装置将处理用空间设为高真空度，其中，所述差动排气装置具备：位移驱动部，其能够使头部或被处理基板进行位移来调整被处理面与所述头部的对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。规定的距离而成为平行。规定的距离而成为平行。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】差动排气装置及聚焦能量束装置


[0001]本专利技术涉及差动排气装置及聚焦能量束装置。

技术介绍

[0002]聚焦能量束装置被适用为聚焦离子束装置、电子束曝光装置、扫描电子显微镜(SEM:Scanning Electron Microscope)等。聚焦离子束装置是如下的装置：使聚焦了的离子束在试样表面扫描，检测从试样放射出的二次粒子(二次电子、二次离子等)，由此能够观察显微镜图像、加工试样表面。具体而言，聚焦离子束装置具有进行试样观察、蚀刻(溅射)、CVD(化学气相沉积)的功能等。
[0003]聚焦离子束装置被适用为图15所示那样的修复装置100。该修复装置100构成为，聚焦离子束光学系统101、供给CVD(Chemical Vapor Deposition)用气体的供给喷嘴102、二次粒子检测部103以及载置被修正基板104的基板支承盘105配置在真空腔室106内。在修复装置100中，利用二次粒子检测部103来检测通过向基板表面照射离子束而从被修正基板放射出的二次电子或者二次离子，求解二维分布，由此能够制成基板表面的显微镜图像。
[0004]在该修复装置100中，基于来自上述的显微镜图像的信息来向被修正基板表面的必主要部分位照射离子束，由此能够进行加工、观察。另外，通过同时从供给喷嘴102供给CVD用气体，由此能够进行局部的成膜来进行加工、修正。在真空腔室106内为低真空的情况下，残留气体分子与离子会发生碰撞而使得离子无法直线行进，因此需要将真空腔室106内设为高真空。
[0005]近年来，在液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)、有机EL显示器等薄型显示器(FPD：Flat Panel Display)中，面板尺寸的大型化不断进展。因此，在上述那样的修复装置中，存在需要大型的真空腔室这样的问题。
[0006]作为解决上述的问题的现有技术，公开了具备在被修正基板的表面局部地形成真空空间的局部排气装置(以下，也称为差动排气装置)而不需要真空腔室的加工装置(例如参照专利文献1)。该加工装置在聚焦离子束镜筒的前端部(下端部)一体地设置有局部排气装置，该局部排气装置具备使聚焦离子束镜筒相对于被修正基板浮起的功能。
[0007]在先技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本专利第5114960号公报

技术实现思路

[0010]本专利技术要解决的问题
[0011]在FPD的制造中，使用尺寸上包括多个面板的基样玻璃(mother glass)。增加每一片基样玻璃上的面板配置数(排版数)是常规化的用于提高生产率的方法。伴随着基样玻璃的大型化，光掩模也必然会大型化。顺带说一下，近年来，基样玻璃的一边达到约3m左右的长度。因此，在光掩模中，伴随着该大型化而产生起伏、翘曲。
[0012]图16示出使用在聚焦离子束镜筒202的前端部具备局部排气装置203的修复装置200来修理大型的光掩模201的工序。如图16所示，存在如下课题：因光掩模201的起伏、翘曲，导致局部排气装置203的下端面相对于光掩模201的表面难以在喷射空气的作用力下保持平行的对置状态。因此，在局部排气装置203的下端面外周缘处，相对于光掩模201的表面而言近的部分的间隙G1与远的部分的间隙G2之差变大，存在不能利用局部排气(差动排气)来保持内部的真空状态这样的问题。因此，存在无法良好地进行光掩模201表面的观察、对光掩模201的表面的修正这样的课题。另外，在现有的修复装置200中，聚焦离子束镜筒202的光轴所通过的局部排气装置203的下端面中央与光掩模201之间的间隙G3容易变动。若该间隙G3变动，则会对成膜条件产生影响而导致成膜的不均匀化。
[0013]本专利技术鉴于上述的课题而作成，其目的在于提供即便针对存在翘曲、起伏的被处理基板(被观察基板、被修正基板等)也能够可靠地保持差动排气功能的差动排气装置以及能进行良好的处理的聚焦能量束装置。
[0014]用于解决课题的方案
[0015]为了解决上述的课题，达成目的，本专利技术的方案的差动排气装置具备头部，该头部能够相对于被处理基板的被处理面以与该被处理面的任意区域对置的方式进行相对移动，在所述头部中的与所述被处理面对置的对置面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在所述头部的多个所述环状槽中的最内侧的所述环状槽的内侧区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在所述多个环状槽中的至少一个以上的所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自与所述真空泵连结的所述环状槽的吸气作用来将所述处理用空间设为高真空度，所述差动排气装置的特征在于，还具备：位移驱动部，其能够使所述头部或所述被处理基板进行位移来调整所述被处理面与所述对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的、所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。
[0016]作为上述方案，优选所述间隙测定部检测与所述被处理面之间的空间的压力，所述间隙控制部基于所述压力的信息来控制所述位移驱动部。
[0017]作为上述方案，优选所述被处理基板形成为在X－Y方向上具有纵横的边的长方形，所述头部能够沿着所述被处理基板的X－Y方向进行相对移动，所述间隙测定部设置在所述头部中的形成于最外侧的所述环状槽的外侧的四个部位，该四个部位的所述间隙测定部的组由以所述对置面上的所述开口部的中央为中心而配置在X方向的两侧方的对和以所述开口部的中央为中心而配置在Y方向的两侧方的对这两对来构成。
[0018]作为上述方案，优选所述间隙测定部由激光位移仪构成，该激光位移仪设定为向比所述对置面更远离所述被处理面的方向偏置配置，由此该激光位移仪与所述被处理面之间的距离成为所述激光位移仪的高精度测定区域。
[0019]作为上述方案，优选所述差动排气装置具备光学显微镜，该光学显微镜对形成于所述被处理基板的校准标记进行检测。
[0020]作为上述方案，优选所述差动排气装置在所述头部的附近隔开偏置距离而具备观
察用显微镜，所述观察用显微镜用于观察所述被处理基板的被处理区域。
[0021]作为上述方案，优选所述多个环状槽中的最外侧的所述环状槽与供给非活性气体的喷出泵连接，从该环状槽朝向被处理基板侧喷吹非活性气体来形成气幕。
[0022]作为上述方案，优选沿着所述头部的所述对置面的外周缘配置在该对置面的外侧的浮起垫与所述头部一体地设置，所述浮起垫与供给非活性气体的喷出泵连接，该浮起垫朝向所述被处理面喷吹非活性气体来形成气幕而对所述头部向从所述被处理面离开的方向施力。
[0023]本专利技术的另一方案的聚焦能量束装置具备：上述的差动排气装置；以及聚焦能量束柱状体，其配置在所述头部中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种差动排气装置，其中，所述差动排气装置具备头部，该头部能够相对于被处理基板的被处理面以与该被处理面的任意区域对置的方式进行相对移动，在所述头部中的与所述被处理面对置的对置面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在所述头部的所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽的内侧区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在所述多个环状槽中的至少一个以上的所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，通过来自所述环状槽的吸气作用来将所述处理用空间设为高真空度，其中，所述差动排气装置还具备：位移驱动部，其能够使所述头部或所述被处理基板进行位移来调整所述被处理面与所述对置面的平行度及距离；间隙测定部，其沿着所述头部的所述对置面的周缘分别配置在至少三个部位以上，能够检测所述对置面与所述被处理面之间的距离；以及间隙控制部，其基于所述间隙测定部检测出的、所述对置面与所述被处理面之间的距离信息来控制所述位移驱动部，以使得所述对置面与所述被处理面隔开规定的距离而成为平行。2.根据权利要求1所述的差动排气装置，其中，所述间隙测定部检测与所述被处理面之间的空间的压力，所述间隙控制部基于所述压力的信息来控制所述位移驱动部。3.根据权利要求1或2所述的差动排气装置，其中，所述被处理基板形成为在X－Y方向上具有纵横的边的长方形，所述头部能够沿着所述被处理基板的X－Y方向进行相对移动，所述间隙测定部设置在所述头部中的形成于最外侧的所述环状槽的外侧的四个部位，该四个部位的所述间隙测定部的组由以所述对置面上的所述开口部的中央为中心而配置在X方向的两侧方的对和以所述开口部的中央为中心而配置在Y方向的两侧方的对这两对来构成。4.根据权利要求1或3所述的差动排气装置，其中，所述间隙测定部由激光位移仪构成，该激光位移仪设定为向比所述对置面更远离所述被处理面的方向偏置配置，由此该激光位移仪与所述被处理面之间的距离成为所述激光位移仪的高精度测定区域。5.根据权利要求1～4中任一项所述的差动排气装置，其中，所述差动排气装置具备光学显微镜，该光学显微镜对形成于所述被处理基板的校准标记进行检测。6.根据权利要求1～5中任一项所述的差动排气装置，其中，所述差动排气装置在所述头部的附近隔开偏置距离而具备观察用显微镜，所述观察用显微镜用于观察所述被处理基板的被处理区域。7.根据权利要求1～6中任一项所述的差动排气装置，其中，
所述多个环状槽中的最外侧的所述环状槽与供给非活性气体的喷出泵连接，从该环状槽朝向被处理基板侧喷吹非活性气体来形成气幕。8.根据权利要求1～6中任一项所述的差动排气装置，其中，沿着所述头部的所述对置面的外周缘配置在该对置面的外侧的浮起垫与所述头部一体地设置，所述浮起垫与供给非活性气体的喷出泵连接，该浮起垫朝向所述被处理面喷吹非活性气体来形成气幕而对所述头部向从所述被处理面离开的方向施力。9.一种聚焦能量束装置，其中，所述聚焦能量束装置具备：差动排气装置，其具备头部，该头部能够相对于被处理基板的被处理面以与该被处理面的任意区域对置的方式进行相对移动，在所述头部中的与所述被处理面对置的对置面形成有多个环状槽，该多个环状槽围绕所述头部的中心，在所述头部的所述多个环状槽中的最内侧的所述环状槽的内侧区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，在所述多个环状槽中的至少一个以上的所述环状槽连结真空泵，在使所述对置面与所述被处理面对...

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，新井敏成，松本隆德，竹下琢郎，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：