一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆，包括足浴盆体，所述足浴盆体的一侧固定安装有排水阀，所述足浴盆体的底部等距安装有防滑支座，所述足浴盆体的内部固定设置有内盆体。本实用新型专利技术通过在支撑块的顶部等距设置有按摩齿，能够通过马达带动按摩块进行旋转，接着利用带有防滑刻纹的按摩齿对使用人员的足底进行循环按摩，采用多个按摩齿能够对足底穴位和肌肉的刺激方式更多，按摩效率和效果更明显，再通过铰接轴将手摇杆展开，然后旋转手摇杆，接着利用L型杆控制蜗轮丝杆升降机进行升降，从而带动按摩块进行上下移动，使得在调节高度时足部有着力点，可以稳定足底方便人们进行足浴护理，提高患者满意度。提高患者满意度。提高患者满意度。

【技术实现步骤摘要】
一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆


[0001]本技术涉及医疗器械
，具体为一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆。

技术介绍

[0002]足浴疗法是通过水的温热作用、机械作用、化学作用及借助药物蒸汽和药液熏洗的治疗作用，起到疏通腠理，散风降温，透达筋骨，理气和血的目的，从而增强心脑血管机能、改善睡眠、消除疲劳、消除亚健康状态、增强人体抵抗力等，是临床上常用的治疗方法，所以需要用到足浴盆辅助使用人员进行治疗工作。
[0003]现有的足浴盆存在的缺陷是：
[0004]1、目前临床护理人员进行足浴操作常采用普通的足浴盆，仅有泡脚和单一的按摩功能，对足底的刺激方式单一，按摩效率低、按摩效果慢；
[0005]2、足浴盆内的泡脚位置固定，当人们需要调节高度时，只能将脚部悬放，没有着力点。

技术实现思路

[0006](一)解决的技术问题
[0007]针对现有技术的不足，本技术提供了一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆。
[0008](二)技术方案
[0009]一种具有稳定足底循环按摩结构的足本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆，包括足浴盆体(2)，其特征在于：所述足浴盆体(2)的一侧固定安装有排水阀(5)，所述足浴盆体(2)的底部等距安装有防滑支座(3)，所述足浴盆体(2)的内部固定设置有内盆体(1)，所述足浴盆体(2)与内盆体(1)之间环绕安装有隔板(4)，所述内盆体(1)的内部固定设置有电器箱(6)，所述电器箱(6)的底部贯穿设置有导线(7)。2.根据权利要求1所述的一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆，其特征在于：所述电器箱(6)的内部等距安装有马达(609)，马达(609)的输出端皆固定安装有按摩块(607)，所述电器箱(6)内部的底端贯穿设置有第二防水套(608)，所述电器箱(6)的底部固定安装有转轴(601)。3.根据权利要求2所述的一种具有稳定足底循环按摩结构的足浴盆，其特征在于：所述按摩块(607)的顶部等距安装有支撑块(6010)，支撑块(6010)的顶部等距设置有按摩齿(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：张春玲，陈露，向杰，王艳辉，刘海艳，董源源，范燚，
申请(专利权)人：贵州中医药大学，
类型：新型
国别省市：