【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种饱和度调整方法，包含有：切割一色相环为多个色相区域，每一个色相区域具有相对应的一预设满标饱和度；将所述色相区域的一第一色相区域的一第一色相边界所对应的该预设满标饱和度调整为一第一满标饱和度，其中该第一满标饱和度大于该预设满标饱和度；根据该第一满标饱和度及该预设满标饱和度设定对应于该第一色相区域的该第一色相边界的一第一临界饱和度；以及根据该预设满标饱和度、该第一满标饱和度及该第一临界饱和度，调整该第一色相区域的该第一色相边界的介于该第一临界饱和度与该第一满标饱和度的一第一饱和度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：诸葛慧，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71
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