用于陶瓷的高温排蜡窑炉制造技术

本发明专利技术公开了一种用于陶瓷的高温排蜡窑炉，包括由上至下依次布设的上气流层、物料输送层和下气流层，物料输送层具有物料入口和物料出口，物料输送层由物料入口至物料出口划分为预热区、自燃区、高温燃烧区和保温区，上气流层内设有二次燃烧室，二次燃烧室与物料输送层之间开设有上下贯通的气流孔，二次燃烧室通过废气输入管道连通至物料输送层的预热区，二次燃烧室通过净化气输出管道连通至下气流层，净化气输出管道穿过保温区，下气流层的气流输出端靠近物料入口布设，且下气流层的气流输出端连接有排气管。气流流动中带走多余的热量并充分实现热交换，以使物料处于合适的排蜡升温梯度环境下；并使排放至大气中的气体符合于环境要求的低温。要求的低温。要求的低温。

【技术实现步骤摘要】
用于陶瓷的高温排蜡窑炉


[0001]本专利技术涉及陶瓷产品制造工艺设备
，特别地，涉及一种用于陶瓷的高温排蜡窑炉。

技术介绍

[0002]窑炉是用耐火材料砌成的用以烧成制品的设备，是陶艺热压注成型中的必备设施。而新型的电子陶瓷制作工艺中，陶瓷的排蜡以及烧结的大批量生产制造都需要借助窑炉。陶瓷的排蜡工艺，升温曲线是排蜡过程中的操作依据，曲线合理与否直接影响到排蜡的合格率。
[0003]现有的陶瓷排蜡主要采用隧道窑，在隧道中段进行高温加热，物料通过隧道以实现排蜡工序，隧道中的温度难以控制，物料的停留时间也无法控制，导致陶瓷排蜡的升温无法控制，而过快升温容易导致物料中产生气泡、物料变形以及物料开裂等问题，严重影响到陶瓷物料排蜡的合格率；
[0004]另一方面，现有的窑炉结构，在制作工艺过程中会产生大量带有余热的废气排放，容易造成能源浪费；现有的大多窑炉都是直接将废气排放到大气中，容易造成大气污染。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供了一种用于陶瓷的高温排蜡窑炉，以解决现有的陶瓷高温排蜡窑炉，排蜡过程的升温曲线难以把控，排放的废气难以达标的技术问题。
[0006]根据本专利技术的一个方面，提供一种用于陶瓷的高温排蜡窑炉，包括由上至下依次布设的上气流层、物料输送层和下气流层，物料输送层具有物料入口和物料出口，物料输送层由物料入口至物料出口划分为预热区、自燃区、高温燃烧区和保温区，上气流层内设有二次燃烧室，二次燃烧室与物料输送层之间开设有上下贯通的气流孔，二次燃烧室通过废气输入管道连通至物料输送层的预热区，二次燃烧室通过净化气输出管道连通至下气流层，净化气输出管道穿过保温区，下气流层的气流输出端靠近物料入口布设，且下气流层的气流输出端连接有排气管。
[0007]进一步地，废气输入管道上设有第一气流动力装置。
[0008]进一步地，二次燃烧室处于自燃区和高温燃烧区的上方，并向预热区和/或保温区方向延伸布设。
[0009]进一步地，气流孔包括处于自燃区的第一透气孔以及处于高温燃烧区的第二透气孔；第一透气孔沿高温排蜡窑炉的宽度方向间隔排布成排，第一透气孔沿高温排蜡窑炉的长度方向间隔排布成列，且第一透气孔的孔径尺寸由物料入口向物料出口方向逐渐增加。
[0010]进一步地，净化气输出管道沿保温区的侧壁布设，且靠近高温燃烧区布设。
[0011]进一步地，上气流层内还设有用于将保温区内的气体引导至预热区的回流通道。
[0012]进一步地，回流通道的输入端靠近净化气输出管道布设。
[0013]进一步地，回流通道的输出端靠近物料入口布设，且回流通道的输出端设置成竖
直向下鼓风并形成风帘的风帘出风口；回流通道的输出端还设有第二气流动力装置。
[0014]进一步地，废气输入管道的输入端处于回流通道输出端的远离物料入口的一侧。
[0015]进一步地，排气管、下气流层、净化气输出管道中的至少一个上设有第三气流动力装置。
[0016]本专利技术具有以下有益效果：
[0017]本专利技术用于陶瓷的高温排蜡窑炉，通过在上气流层布设二次燃烧室，二次燃烧室的输入端通过废气输入管道连通至预热区，二次燃烧室的输出端的净化气输出管道穿过保温区并连通至下气流层；自燃区产生的蜡废气，第一部分蜡废气流入高温燃烧区被高温燃烧，第二部分蜡废气随热气上升至二次燃烧室并向高温燃烧室方向流动，第三部分蜡废气沿着壁体逆向流动至预热区并经由废气输入管道导入至二次燃烧室内并向高温燃烧室方向流动，高温燃烧室内的高温气流及火焰上升至二次燃烧室并对经过的蜡废气进行二次燃烧，进而将流经的气体进行多次的高温净化、最大程度的消除气体中的蜡废气。本专利技术用于陶瓷的高温排蜡窑炉，还通过气流的流动设计，以实现热能在高温排蜡窑炉内盘旋流动，充分的实现彼此之间的热交换，使物料所处环境处于合理的排蜡升温梯度环境下，进行均匀且充分的排蜡，进而得到合格的陶瓷产品，充分的利用热能，并使排出的气体降低至符合于环境要求的低温；第一路气流，由物料输送层内的高温气体分别经由预热区、自燃区、高温燃烧区进入二次燃烧室，由于热气流是上升气流，在二次燃烧室内进行蜡废气二次燃烧处理的同时，带走了二次燃烧室内多余的热量，经由净化气输出管道流向下气流层，而净化气输出管道从保温区穿过时由高温燃烧区输出的高温气流对净化气输出管道内的气体进行二次加热，以确保输送至下气流层内的气体温度，经过升温保温的气流在下气流层内由物料出口向物料进口方向逆向流动，从物料输送层的底部对物料输送层内的物料进行反向流动辅助加热，以确保物料在物料输送层内处于合理的排蜡升温梯度环境下，下气流层内的气流随着往物料入口方向流动并逐步降温，并经由排气管进一步地降温，直至降至符合于环境要求的低温，然后排放至大气中，进而达到环保节能的目的。另外，由于热气流是升温气流，由高温燃烧区分别向保温区和自燃区输出的气流呈曲线上升的气流路径，因此在自燃区和预热区内的上层气流往往比下层气流的温度高，而物料是沿着物料输送层的底部向物料出口方向呈直线方向行走的，因此物料所处环境的温度往往难以达到排蜡的升温梯度环境，通过专利技术的气流设计，使第一路气流进行升温后从下气流层逆向流动，从底部对物料输送层内的物料的加热升温，进而使物料在输送路线上处于排蜡升温梯度环境下，进而很好的弥补了物料输送层的这一温度传递的缺陷，使物料得以进行均匀且充分的排蜡，进而得到合格的陶瓷产品。
[0018]除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。
附图说明
[0019]构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：
[0020]图1是本专利技术优选实施例的用于陶瓷的高温排蜡窑炉的结构示意图。
[0021]图例说明：
[0022]1、上气流层；101、二次燃烧室；102、废气输入管道；103、净化气输出管道；104、第一气流动力装置；105、回流通道；106、第二气流动力装置；2、物料输送层；201、物料入口；202、物料出口；203、预热区；204、自燃区；205、高温燃烧区；206、保温区；3、下气流层；4、气流孔；401、第一透气孔；402、第二透气孔；5、排气管。
具体实施方式
[0023]以下结合附图对本专利技术的实施例进行详细说明，但是本专利技术可以由下述所限定和覆盖的多种不同方式实施。
[0024]图1是本专利技术优选实施例的用于陶瓷的高温排蜡窑炉的结构示意图。如图1所示，本实施例的用于陶瓷的高温排蜡窑炉，包括由上至下依次布设的上气流层1、物料输送层2和下气流层3，物料输送层2具有物料入口201和物料出口202，物料输送层2由物料入口201至物料出口202划分为预热区203、自燃区204、高温燃烧区205和保温区206，上气流层1内设有二次燃烧室101，二次燃烧室101与物料输送层2之间开设有上下贯通的气流孔4，二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于陶瓷的高温排蜡窑炉，包括由上至下依次布设的上气流层(1)、物料输送层(2)和下气流层(3)，所述物料输送层(2)具有物料入口(201)和物料出口(202)，所述物料输送层(2)由所述物料入口(201)至所述物料出口(202)划分为预热区(203)、自燃区(204)、高温燃烧区(205)和保温区(206)，其特征在于，所述上气流层(1)内设有二次燃烧室(101)，所述二次燃烧室(101)与所述物料输送层(2)之间开设有上下贯通的气流孔(4)，所述二次燃烧室(101)通过废气输入管道(102)连通至所述物料输送层(2)的所述预热区(203)，所述二次燃烧室(101)通过净化气输出管道(103)连通至所述下气流层(3)，所述净化气输出管道(103)穿过所述保温区(206)，所述下气流层(3)的气流输出端靠近所述物料入口(201)布设，且所述下气流层(3)的气流输出端连接有排气管(5)。2.根据权利要求1所述的用于陶瓷的高温排蜡窑炉，其特征在于，所述废气输入管道(102)上设有第一气流动力装置(104)。3.根据权利要求2所述的用于陶瓷的高温排蜡窑炉，其特征在于，所述二次燃烧室(101)处于所述自燃区(204)和所述高温燃烧区(205)的上方，并向所述预热区(203)和/或所述保温区(206)方向延伸布设。4.根据权利要求3所述的用于陶瓷的高温排蜡窑炉，其特征在于，所述气流孔(4)包括处于所述自燃区(204)的第一透气孔(401)以及处于所述高温燃烧区(205)的第二透气孔(402)；所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：张南新，袁公华，
申请(专利权)人：贵州新园特种陶瓷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：