一种钕铁硼磁体及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种钕铁硼磁体，包括钕铁硼磁体基体和涂覆在钕铁硼磁体基体上的Zn

【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼磁体及其制备方法


[0001]本专利技术涉及磁铁
，具体而言，涉及一种钕铁硼磁体及其制备 方法。

技术介绍

[0002]钕铁硼磁体是目前发现商品化性能最高的磁铁，具有体积小、重量轻 和磁性强的特点，性能价格比较高的磁体，其应用极其广泛，可用于电子、 电力机械、医疗器械、玩具、包装、五金机械、航天航空等领域，较常见 的有永磁电机、扬声器、磁选机、计算机磁盘驱动器、磁共振成像设备仪 表等。钕铁硼磁体可以分为烧结钕铁硼磁体和粘结钕铁硼磁体，其中烧结 钕铁硼磁体的磁性能相对较好，应用最为广泛。但是对于烧结钕铁硼永磁 体而言，其也存在耐腐蚀性能较差等缺陷。
[0003]目前，为了改善烧结钕铁硼磁体的耐腐蚀性、矫顽力、剩磁和磁能积 等综合性能，往往会添加一些辅助元素或者通过表面处理等方式。在现有 技术中，添加的辅助元素往往是重稀土Ho、Tb、Dy、Gd等，但是这类重稀 土的资源相对较少，价格比较昂贵，添加多种稀土元素，在改善磁体性能 的同时，也大大增加了生产成本。现有的表面处理一般有电镀、化学镀、 电泳、真空沉积以及涂料涂装等。如中国专利技术专利申请文件(公开号： CN101440490A)公开了一种烧结钕铁硼表面镀覆多层镀层的防护工艺，具体 步骤包括镀前预处理、化学镀NiZnP合金以及多层电镀NiWP合金(至少3层)。 虽然该工艺在一定程度上能提高钕铁硼磁体的耐腐蚀性能，但是其镀层数 多，工艺比较复杂，相对成本也比较高。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种钕铁硼磁体，通过在钕铁硼磁体基体的表面 涂覆Zn
‑
Al涂层，可有效提升磁铁基体的耐腐蚀性能，提升其使用寿命； 且所述耐腐蚀钕铁硼磁铁的制备方法工艺简单，操控方便，生产效率高， 利于工业化生产，制备得到的产品质量稳定，综合性能优越。
[0005]为解决上述问题，本专利技术提供一种钕铁硼磁体，包括钕铁硼磁体基体 和涂覆在所述钕铁硼磁体基体上的Zn
‑
Al涂层，所述Zn
‑
Al涂层由Zn
‑
Al 涂料制成，所述Zn
‑
Al涂料包括A组分和B组分，所述A组分包括以下重 量份的原料：片状Zn粉200
‑
400份、片状Al粉40
‑
50份、纳米h
‑
BN10
‑
20 份、分散剂10
‑
20份、表面改性剂10
‑
20份、去离子水40
‑
50份、乳化剂 10
‑
20份、消泡剂10
‑
20份；所述B组分包括以下重量份的原料：粘结剂 20
‑
30份、甲醇10
‑
20份、去离子水40
‑
50份。
[0006]本专利技术在Zn
‑
Al涂料中，添加了纳米h
‑
BN，二维h
‑
BN纳米片是由三 维h
‑
BN颗粒进行剥离所得到的，其具有和石墨烯相似的结构和性能，当 它们被剥离成纳米片时，其带隙就会从间接带隙转换为直接带隙，其具有 相似的层片状结构和对气体的防渗透性能；其次，h
‑
BN具有优异的热稳定 性能和对氧化气体和溶液的惰性；然后，纳米h
‑
BN还具有良好的疏水性能， 为防止水分进入涂层提供了可能。本专利技术中，通过将纳米h
‑
BN的添加量控 制在上述范围内，不仅可以防止由于纳米h
‑
BN的添加量较少，使涂层中 仍然存在少量孔洞及
空隙，还可以防止大量的纳米h
‑
BN颗粒出现在Zn
‑
Al 粉片层的表面，甚至出现部分团聚的现象，使得涂层表面质量下降，粗糙 度增加。
[0007]作为优选，所述Zn
‑
Al涂料还包括C组分，所述C组分包括以下重量 份的原料：磷钼酸钠20
‑
30份、去离子水40
‑
50份。
[0008]作为优选，所述Zn
‑
Al涂料还包括D组分，所述D组分包括以下重量 份的原料：增稠剂20
‑
30份、去离子水40
‑
50份。
[0009]作为优选，所述分散剂由如下质量百分比的成分组成：10
‑
20％聚乙二 醇200、22
‑
35％聚乙二醇400、余量为十二烷基磺酸钠。
[0010]作为优选，所述乳化剂由如下质量百分比的成分组成：10
‑
20％OP
‑
10、 15
‑
25％吐温20、余量为AE0
‑
9。
[0011]作为优选，所述表面改性剂选自KH550、KH560、KH570和KH580中的 一种或几种。
[0012]作为优选，所述Zn
‑
Al涂料的制备方法具体包括如下步骤：
[0013]A1、按重量份数称取A组分，依次加入A组分中的片状Zn粉、片状Al 粉、分散剂、表面改性剂、去离子水、乳化剂和消泡剂，搅拌5
‑
10h后得 到A涂料液；
[0014]A2、按重量份数称取B组分，依次加入B组分中的粘结剂、甲醇和去 离子水，搅拌2
‑
4h后得到B涂料液；
[0015]A3、按重量份数称取C组分，依次加入C组分中的磷钼酸钠和去离子 水，在温度为20
‑
70℃的水浴中加热4
‑
6h，然后加入到B涂料液中，继续 搅拌2
‑
3h得到BC涂料液；
[0016]A4、按重量份数称取D组分，将A涂料液加入到BC涂料液中，搅拌2
‑
4h 后依次加入D组分中的增稠剂和去离子水，搅拌8
‑
10h后得到Zn
‑
Al涂料。
[0017]本专利技术的另一个目的在于提供一种钕铁硼磁体的制备方法，所述制备 方法具体包括如下步骤：
[0018]S1、将钕铁硼磁体基体放入Zn
‑
Al涂料中，静置20
‑
30s后取出再静置 1
‑
2min，直到浸涂后的钕铁硼磁体基体表面的Zn
‑
Al涂料均匀流平且没有 Zn
‑
Al涂料滴落，然后放入烘箱固化后冷却；
[0019]S2、再次重复步骤S1三次，得到涂覆有Zn
‑
Al涂层的钕铁硼磁体。
[0020]作为优选，所述步骤S1中，将钕铁硼磁体基体放入Zn
‑
Al涂料前，还 经过预处理，所述预处理的具体步骤为：先对钕铁硼磁体基体进行打磨， 将打磨后的钕铁硼磁体基体用除锈水在60
‑
70℃条件下超声15
‑
25min，然 后用无水乙醇进行超声清洗1...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钕铁硼磁体，其特征在于，包括钕铁硼磁体基体和涂覆在所述钕铁硼磁体基体上的Zn
‑
Al涂层，所述Zn
‑
Al涂层由Zn
‑
Al涂料制成，所述Zn
‑
Al涂料包括A组分和B组分，所述A组分包括以下重量份的原料：片状Zn粉200
‑
400份、片状Al粉40
‑
50份、纳米h
‑
BN10
‑
20份，分散剂10
‑
20份、表面改性剂10
‑
20份、去离子水40
‑
50份、乳化剂10
‑
20份、消泡剂10
‑
20份；所述B组分包括以下重量份的原料：粘结剂20
‑
30份、甲醇10
‑
20份、去离子水40
‑
50份。2.如权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述Zn
‑
Al涂料还包括C组分，所述C组分包括以下重量份的原料：磷钼酸钠20
‑
30份、去离子水40
‑
50份。3.如权利要求2所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述Zn
‑
Al涂料还包括D组分，所述D组分包括以下重量份的原料：增稠剂20
‑
30份、去离子水40
‑
50份。4.如权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述分散剂由如下质量百分比的成分组成：10
‑
20％聚乙二醇200、22
‑
35％聚乙二醇400、余量为十二烷基磺酸钠。5.如权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述乳化剂由如下质量百分比的成分组成：10
‑
20％OP
‑
10、15
‑
25％吐温20、余量为AE0
‑
9。6.如权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述表面改性剂选自KH550、KH560、KH570和KH580中的一种或几种。7.如权利要求3
‑
6任一所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：周高峰，
申请(专利权)人：宁波金科磁业有限公司，
类型：发明
国别省市：