同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置及同轴对称强脉冲四线圈组制造方法及图纸

同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置及同轴对称强脉冲四线圈组，涉及机械支撑领域。针对现有技术中存在的，按照PPPL的支撑结构，只能实现同轴分立双线圈方案，抛射波面的平直区域覆盖范围只能满足少数应用的需要的问题，本发明专利技术提供的技术方案为：同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置，包括：导向管，沿导向管轴线方向依次滑动连接有第一支撑架、第二支撑架、第三支撑架和第四支撑架；第一支撑架包括：四个第一支撑臂和四个第一侧支臂，四个第一侧支臂分别沿导向管平行的方向固定在四个第一支撑臂的端部；第二支撑架包括：四个第二支撑臂和四个第二侧支臂，四个第二侧支臂分别沿导向管平行的方向固定在四个第二支撑臂的端部；适合应用于磁控等离子体装置。磁控等离子体装置。磁控等离子体装置。

【技术实现步骤摘要】
同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置及同轴对称强脉冲四线圈组


[0001]涉及大型电磁脉冲线圈
，以及同轴分立支撑


技术介绍

[0002]强脉冲线圈是磁控等离子体装置的一个重要部件，在强脉冲磁场的作用下等离子体向远离线圈的方向抛射。为了获得快速变化的脉冲边沿，单个脉冲线圈仅有少量匝数；于是为了获得高磁场峰值，脉冲电流峰值需要达到10kA～100kA量级。大型强脉冲线圈能够驱动更大体积的等离子体团，扩展了磁控等离子体装置的应用范围，包括磁控溅射镀膜和空间等离子体模拟等领域。当脉冲磁场处于上升沿时，在脉冲线圈外径以外的空心圆柱体区域等离子体团向远离线圈的方向抛射。抛射波面由磁力线的形状决定，在单脉冲线圈磁场的作用下呈双曲线或抛物线形状，等离子体团在对称平面附近区域可供利用(或研究)的部分体积占比很低，不能满足利用或研究的需要。为了提高等离子体团的利用效率和抛射强度，科学家们提出的解决办法是——在对称平面附近构造一个磁力线近似与线圈轴线相平行的平直波面区域。
[0003]美国普林斯顿大学等离子体物理实验室，即PPPL，首先提出并建造本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置，其特征在于，所述支撑装置包括：导向管，沿所述导向管轴线方向依次滑动连接有第一支撑架、第二支撑架、第三支撑架和第四支撑架；所述第一支撑架和所述第四支撑架沿所述导向管方向对称设置，所述第二支撑架和所述第三支撑架沿所述导向管方向对称设置；所述第一支撑架包括：一个第一固定环、四个第一支撑臂和四个第一侧支臂，所述四个第一支撑臂垂直于所述导向管、均匀分布固定在所述第一固定环的外壁上，所述四个第一支臂上的中间位置分别设置有沿所述导向管平行方向上的通孔；所述四个第一侧支臂分别沿所述导向管平行的方向固定在所述四个第一支撑臂的端部；所述第一固定环用于滑动连接所述导向管；所述第二支撑架包括：一个第二固定环、四个第二支撑臂和四个第二侧支臂，所述四个第二支撑臂垂直于所述导向管、均匀分布固定在所述第二固定环的外壁上，所述四个第二侧支臂的中间位置分别设置有沿所述导向管平行方向的长条形凸起，所述凸起与所述通孔滑动配合；所述四个第二侧支臂分别沿所述导向管平行的方向固定在所述四个第二支撑臂的端部；所述第二固定环用于滑动连接所述导向管。2.根据权利要求1所述的同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置，其特征在于，所述第一侧支臂为中空结构。3.根据权利要求1或2任意一项所述的同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置，其特征在于，所述第二侧支臂、所述凸起和第二侧支臂与凸起之间的第二支撑臂的部分均为中空结构。4.根据权利要求3所述的同轴对称强脉冲四线圈组支撑装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛傲华，徐风雨，王志斌，鄂鹏，王晓钢，李立毅，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：