用于水族箱的挠性清洁装置和方法制造方法及图纸

一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置，该清洁装置包括挠性清洁本体和挠性手柄构件。清洁本体和手柄构件彼此磁性地吸引。清洁本体中的挠性和手柄构件中的挠性允许该清洁装置与水族箱罐中的弯曲表面的轮廓相吻合且一致。清洁本体的挠性和手柄构件的挠性通过具有交替的凹部和翅片的挠性区域来实现。实现。实现。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于水族箱的挠性清洁装置和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请为PCT国际专利申请，并要求于2019年12月6日提交的、序列号为No.62/944,537的美国专利申请的权益，该美国专利申请的全部公开内容通过参引并入本文中。


[0003]本公开涉及用于对诸如水族箱之类的水罐的壁的内表面进行清洁的罐清洁器。特别地，本公开涉及具有挠性以允许对弯曲的水族箱表面进行清洁的清洁器，并且涉及清洁方法。

技术介绍

[0004]拥有水族箱的人放弃该爱好的一个原因是由于水族箱需要定期清洁。在很多情况下，水族箱的内壁表面聚集藻类。这个内壁表面需要是干净的，以便可以透过玻璃观察水族箱内的鱼，并且以获得水生生物的总体健康。
[0005]现有技术中已经用于对水族箱的内壁进行清洁的一种技术是清洁磁体。磁体的内部部分具有清洁表面，而外部部分用作手柄以利用内部部分与手柄之间的磁性吸引力来在被污染的水族箱壁上导引内部清洁表面。现有技术中典型的磁性清洁器可用于对具有直的玻璃表面的水族箱进行清洁。随着近年来水族箱的形状已经改变以包括弯曲表面，典型的现有技术的磁性清洁器已经不能很好地工作。
[0006]因此，需要对用于具有弯曲表面的水族箱的清洁装置进行改进。

技术实现思路

[0007]提供了一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置，该水族箱清洁装置对现有技术进行了改进。
[0008]在一个方面，一种水族箱清洁装置包括清洁本体和手柄构件。清洁本体具有清洁表面、相反的外表面以及在清洁表面与外表面之间延伸的侧壁；清洁表面在清洁本体不受力时包含在第一平面内。在清洁本体内保持有第一磁体布置结构，并且清洁本体在受到外力时能够围绕第一平面弹性地挠曲。手柄构件具有壁接合表面、相反的外表面以及在壁接合表面与外表面之间延伸的手柄侧壁。壁接合表面在手柄构件不受力时包含在第二平面内。在手柄构件内保持有第二磁体布置结构，并且第二磁体布置结构定位成在清洁本体的清洁表面和手柄构件的壁接合表面处于彼此相对时吸引第一磁体布置结构；并且手柄构件在受到外力时能够围绕第二平面弹性地挠曲。
[0009]在示例性布置结构中，清洁本体在该清洁本体中具有第一凹部布置结构，以允许围绕第一平面具有挠性；并且手柄构件在该手柄构件中具有第二凹部布置结构，以允许围绕第二平面具有挠性。
[0010]第一凹部布置结构可以在清洁本体中包括挠性区域，该挠性区域包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。
[0011]清洁本体可以包括彼此间隔开的多个挠性区域，每个挠性区域具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。
[0012]在许多示例性实施方式中，第一凹部布置结构从清洁表面延伸到清洁本体和侧壁中，并且不延伸到外表面中。
[0013]在许多布置结构中，清洁本体的外表面可以为实心且无凹部的。
[0014]在示例性实施方式中，在清洁本体中具有至少三个挠性区域，所述至少三个挠性区域由非挠性区域彼此间隔开。
[0015]第一磁体布置结构可以在清洁本体中、在非挠性区域中的至少一个非挠性区域中包括至少一个磁体。
[0016]清洁本体的非挠性区域中的每个非挠性区域中可以具有至少一个磁体。
[0017]在一个或更多个实施方式中，第二凹部布置结构在手柄构件中包括挠性部段，该挠性部段包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。
[0018]手柄构件可以包括彼此间隔开的多个挠性部段，每个挠性部段具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。
[0019]在一些布置结构中，至少三个挠性部段从壁接合表面部分地延伸到手柄构件和手柄侧壁中；并且至少三个挠性部段从外表面部分地延伸到手柄构件和手柄侧壁中。
[0020]对于许多示例，在手柄构件中，各个挠性部段之间是非挠性部段。
[0021]第二磁体布置结构在手柄构件中、在非挠性部段中的至少一个非挠性部段中包括至少一个磁体。
[0022]在示例性实施方式中，手柄构件的非挠性部段中的每个非挠性部段中具有至少一个磁体。
[0023]在示例性实施方式中，清洁本体和手柄构件中的每一者均包括模制塑料。
[0024]在示例性实施方式中，清洁本体和手柄构件中的每一者均具有相同的外周缘形状。
[0025]在许多实施方式中，清洁本体的外表面能够围绕平行于第一平面的平面弹性地挠曲；并且手柄构件的外表面能够围绕平行于第二平面的平面弹性地挠曲。
[0026]在另一方面，提供了一种水族箱系统，该水族箱系统包括：罐，该罐具有环绕壁，该环绕壁具有限定内部容积的弯曲部段，该环绕壁具有外表面和相反的内表面，该内表面与内部容积连通；以及清洁装置，该清洁装置适于对罐的环绕壁的内表面进行清洁。该清洁装置包括：(i)能够弹性地挠曲的清洁本体，该清洁本体具有清洁表面和第一磁体布置结构，该清洁表面以可移除的方式抵靠环绕壁的内表面定位，该第一磁体布置结构被保持在清洁本体内；和(ii)能够弹性地挠曲的手柄构件，该手柄构件具有壁接合表面和第二磁体布置结构，该壁接合表面以可移除的方式抵靠环绕壁的外表面定位并且与清洁本体相对，使得环绕壁位于手柄构件与清洁本体之间，该第二磁体布置结构被保持在手柄构件内并且被第一磁体布置结构磁性地吸引。具有弯曲部段的环绕壁的内表面通过清洁本体的清洁表面被清洁；该清洁本体能够通过手柄构件抵靠外表面的运动而沿着内表面移动；清洁本体和手柄构件各自挠曲以与弯曲部段的轮廓相吻合。
[0027]在示例性布置结构中，清洁本体包括由非挠性区域彼此间隔开的多个挠性区域；挠性区域中的每个挠性区域包括交替的凹部和翅片；并且手柄构件包括由非挠性部段彼此
间隔开的多个挠性部段；挠性部段中的每个挠性部段包括交替的凹部和翅片。
[0028]在另一方面，一种对水族箱罐进行清洁的方法，该方法包括：(a)提供水族箱罐，该水族箱罐具有环绕壁，该环绕壁具有限定内部容积的弯曲部段，该环绕壁具有外表面和相反的内表面，该内表面与内部容积连通；(b)将清洁装置定位在罐壁上，使得具有清洁表面的能够弹性地挠曲的清洁本体抵靠内表面，并且具有壁接合表面的能够弹性地挠曲的手柄构件抵靠外表面且与清洁本体相对，使得罐壁位于手柄构件与清洁本体之间，清洁本体和手柄构件彼此磁性地吸引；以及(c)使手柄构件沿着壁的外表面移动，以使被磁性地吸引的清洁本体沿着壁的内表面、包括沿着壁的弯曲部段移动，清洁本体和手柄构件各自挠曲以与弯曲部段的轮廓相吻合。
[0029]将清洁装置定位的步骤包括将如本文中多方面地表征的清洁装置定位。
[0030]期望的产品特征或方法的各种示例部分地在随后的描述中被阐述，并且部分地从描述将是明显的，或者可以通过对本公开的各个方面的实践而了解。本公开的各方面可以涉及各个特征以及特征的组合。
[0031]应当理解的是，前述总体描述和下面的详细描述两者只是说明性的，而不是对所要求保护的专利技术的限制。
附图说明
[0032]图1为根据本公开的原理构造的具有弯曲壁本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置，所述清洁装置包括：(a)清洁本体，所述清洁本体具有清洁表面、相反的外表面以及在所述清洁表面与所述外表面之间延伸的侧壁；所述清洁表面在所述清洁本体不受力时包含在第一平面内；(i)在所述清洁本体内保持有第一磁体布置结构；(ii)所述清洁本体在受到外力时能够围绕所述第一平面弹性地挠曲；(b)手柄构件，所述手柄构件具有壁接合表面、相反的外表面以及在所述壁接合表面与所述外表面之间延伸的手柄侧壁；所述壁接合表面在所述手柄构件不受力时包含在第二平面内；(i)在所述手柄构件内保持有第二磁体布置结构，并且所述第二磁体布置结构定位成在所述清洁本体的所述清洁表面和所述手柄构件的所述壁接合表面处于彼此相对时吸引所述第一磁体布置结构；并且(ii)所述手柄构件在受到外力时能够围绕所述第二平面弹性地挠曲。2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中：(a)所述清洁本体在所述清洁本体中具有第一凹部布置结构，以允许围绕所述第一平面具有挠性；并且(b)所述手柄构件在所述手柄构件中具有第二凹部布置结构，以允许围绕所述第二平面具有挠性。3.根据权利要求2所述的清洁装置，其中，所述第一凹部布置结构在所述清洁本体中包括挠性区域，所述挠性区域包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。4.根据权利要求3所述的清洁装置，其中，所述清洁本体包括彼此间隔开的多个挠性区域，每个挠性区域具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。5.根据权利要求2至4中的任一项所述的清洁装置，其中，所述第一凹部布置结构从所述清洁表面延伸到所述清洁本体和所述侧壁中，并且不延伸到所述外表面中。6.根据权利要求2至5中的任一项所述的清洁装置，其中，所述清洁本体的所述外表面是实心的且无凹部的。7.根据权利要求4所述的清洁装置，其中，在所述清洁本体中具有至少三个挠性区域，所述至少三个挠性区域由非挠性区域彼此间隔开。8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中，所述第一磁体布置结构在所述清洁本体中、在所述非挠性区域中的至少一个非挠性区域中包括至少一个磁体。9.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，所述清洁本体的所述非挠性区域中的每个非挠性区域中具有至少一个磁体。10.根据权利要求2至9中的任一项所述的清洁装置，其中，所述第二凹部布置结构在所述手柄构件中包括挠性部段，所述挠性部段包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。11.根据权利要求10所述的清洁装置，其中，所述手柄构件包括彼此间隔开的多个挠性部段，每个挠性部段具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。12.根据权利要求11所述的清洁装置，其中：(a)至少三个挠性部段从所述壁接合表面部分地延伸到所述手柄构件和所述手柄侧壁中；并且(b)至少三个挠性部段从所述外表面部分地延伸到所述手柄构件和所述手柄侧壁中。
13.根据权利要求12所述的清洁装置，其中，在所述手柄构件中，各个挠性部段之间是非挠性部段。14.根据权利要求13所述的清洁装置，其中，所述第二磁体布置结构在所述手柄构件中、在所述非挠性部段中的至少一个非挠性部段中包括至少一个磁体。15.根据权利要求13和14中的任一项所述的清洁装置，其中，所述手柄...

【专利技术属性】
技术研发人员：贝恩德，
申请(专利权)人：斯派克初姆布兰斯有限公司，
类型：发明
国别省市：