光学系统技术方案

技术编号:35710903 阅读:34 留言:0更新日期:2022-11-23 15:12
本实用新型专利技术公开一种光学系统,包含影像面、光圈、第一四分之一波板、部分反射元件、第二四分之一波板、反射式偏光元件、第一光学透镜及第二光学透镜。影像面位于光学系统的前侧,且光圈位于光学系统的后侧。第一四分之一波板位于影像面与光圈之间。部分反射元件具有至少35%平均光反射率且位于第一四分之一波板及光圈之间。第二四分之一波板位于部分反射元件与光圈之间。反射式偏光元件位于第二四分之一波板与光圈之间。第一光学透镜位于影像面与光圈之间,其后侧表面具有临界点,且第一光学透镜于光轴上的中心厚度大于其后侧表面的临界点至第一光学透镜后侧表面于光轴上的交点在光轴上的距离的四倍。第二光学透镜位于第一光学透镜与光圈之间。一光学透镜与光圈之间。一光学透镜与光圈之间。

【技术实现步骤摘要】
光学系统
[0001]本申请是为分案申请,原申请的申请日为:2021年11月23日;申请号为:202122884989.5;技术名称为:光学系统与头戴装置。


[0002]本技术涉及一种光学系统,特别是一种适用于头戴装置的光学系统。

技术介绍

[0003]随着半导体工艺技术更加精进,各种电子元件皆已微小化,使得微型电子元件效能相较于以往大幅提升,感光元件像素可达到更微小的尺寸,可携式装置的发展也更加蓬勃,并带动镜头元件的快速进步,使过去只存在于科幻电影的头戴式装置也开始兴起。同时,高效能微型处理器与微型显示器的普及,使得智能头戴装置的相关科技于近年来快速提升。而随着人工智能的崛起,配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛,其中对于电脑视觉的需求大幅成长,对于光学镜头的要求也是更加多样化。
[0004]现今的头戴装置除了较过去大幅轻量化之外,也开始具备多种智能功能,如虚拟现实(Virtual Reality,VR)、增强现实(Augmented Reality,AR)与混合现实(Mixed Reality,MR)等领域的应用快速成长本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学系统,其特征在于,包含:一影像面,位于所述光学系统的前侧;一光圈,位于所述光学系统的后侧;一第一四分之一波板,位于所述影像面与所述光圈之间;一部分反射元件,具有至少35%平均光反射率,且所述部分反射元件位于所述第一四分之一波板及所述光圈之间;一第二四分之一波板,位于所述部分反射元件与所述光圈之间;一反射式偏光元件,位于所述第二四分之一波板与所述光圈之间;一第一光学透镜,位于所述影像面与所述光圈之间,所述第一光学透镜后侧表面具有至少一临界点,且所述第一光学透镜于光轴上的中心厚度大于所述第一光学透镜后侧表面的所述至少一临界点至所述第一光学透镜后侧表面于光轴上的交点在光轴上的距离;以及一第二光学透镜,位于所述第一光学透镜与所述光圈之间。2.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述第二光学透镜的焦距绝对值大于所述第一光学透镜的焦距绝对值。3.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述第一光学透镜前侧表面具有至少一反曲点。4.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述光学系统的焦距为f,所述第一光学透镜前侧表面至所述影像面在光轴上的距离为BL,其满足下列条件:11<f/BL<22。5.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述光圈至所述影像面在光轴上距离为SL,所述光学系统的焦距为f,其满足下列条件:0<SL/f<2。6.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述光圈至所述第二光学透镜后侧表面在光轴上的距离为ER,所述光圈至所述影像面在光轴上的距离为SL,其满足下列条件:0<ER/SL≤0.5263。7.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述光学系统的焦距为f,所述影像面所呈现的像高为ImgH,其满足下列条件:0.8<f/ImgH<1.2。8.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述第一光学透镜于光轴上的中心厚度为CT1,所述第二光学透镜于光轴上的中心厚度为CT2,所述第一光学透镜后侧表面至所述第二光学透镜前侧表面在光轴上的距离为T12,其满足下列条件:0.5<(CT1+CT2)/T12<1.5。9.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述第一光学透镜前侧表面至所述第二光学透镜后侧表面在光轴上的距离为TD,所述光圈至所述影像面在光轴上的距离为SL,其满足下列条件:0.2<TD/SL<0.8。10.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述光圈的大小为EPD,所述影像面所呈现的像高为ImgH,其满足下列条件:0.45<EPD/ImgH<0.65。
11.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述第一光学透镜后侧表面至所述第二光学透镜前侧表面在光轴上的距离为T12,所述第一光学透镜前侧表面至所述影像面在光轴上的距离为BL,其满足下列条件:4<T...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈冠铭洪于杰杨富翔
申请(专利权)人:大立光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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