玻璃缺陷测试样品以及处理玻璃缺陷样品的方法和应用技术

本发明专利技术涉及玻璃缺陷检测技术领域，公开了玻璃缺陷测试样品以及处理玻璃缺陷样品的方法和应用。该方法包括：测量玻璃缺陷距离上表面的深度h，将上表面在刻蚀液中进行刻蚀处理；刻蚀液中含有以干基计，6

【技术实现步骤摘要】
玻璃缺陷测试样品以及处理玻璃缺陷样品的方法和应用


[0001]本专利技术涉及玻璃缺陷检测
，具体涉及玻璃缺陷测试样品、处理玻璃缺陷样品的方法，以及该玻璃缺陷测试样品在扫描电镜分析玻璃缺陷中的应用。

技术介绍

[0002]高铝盖板玻璃具有较高的透光率和表面硬度，能够增加画面的鲜明度和柔和度，可避免荧屏刮伤，增加耐用度，因而被广泛地使用在手机和平板电脑上。玻璃中的结石缺陷会影响盖板玻璃的成品率，因此，在生产过程中，如何快速确定缺陷的成分，以为生产提供指导性服务，显得越来越急迫。
[0003]玻璃缺陷的检测一般通过制作薄片，用偏光显微镜观察，通过有经验的解析者可以大致判定结石的种类，但结石中的微量成分无法观察到，故在缺陷来源推定方面受到极大的限制。
[0004]由于扫描电镜的工作原理，仅能够对玻璃表面处的缺陷进行判断观察，而处于玻璃内部或者没有裸露的缺陷却无法进行分析判断。因此，需要研发一种便捷的制备样品的方法，以便于使用扫描电镜进行玻璃内部缺陷的分析。
[0005]CN110554065A公开了一种玻璃基板内部缺陷处理及成分分析的方法，该方法通过将待测玻璃样片放在便携式放大目镜的场透镜，并将玻璃样片内部缺陷确定在场透镜镜面十字刻度线交叉处上，结合手持玻璃刀用刀轮切割玻璃样片，使内部缺陷暴露。该方法操作时需要很精确的操作手法，否则，很难把内部缺陷暴露，且切割玻璃样片的过程中，玻璃片容易破碎，特别是对于厚度为0.7
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1.1mm的电子玻璃而言。
[0006]CN108061736A公开了一种使用反射电子探针对玻璃缺陷进行分析的方法，该方法通过光学透射显微镜定位玻璃缺陷以及玻璃刀手动切割相结合的方式，从断面对玻璃缺陷进行分析，虽然能够解决缺陷定位不准确的问题，但采用玻璃刀手动切割的方式同样需要精确的手法，制备样品不容易，操作不便，且手动切割玻璃，在划动的过程中，非常容易崩边，造成玻璃缺陷随碎玻璃剥落或丢失。
[0007]CN105717137A公开了一种石英玻璃微缺陷检测方法，该方法将石英玻璃样品两通光面进行精密抛光后，采用氢氟酸与乙酸的混合酸溶液进行腐蚀，利用显微镜观察检测得到的石英玻璃样品。该方法虽然能够检测石英玻璃中的气泡微缺陷，但其需要先对样品进行精密抛光，缺陷位置不易确定，同时也无法确定精密抛光是否会把缺陷抛去，特别是对于盖板玻璃的厚度小于1mm，尤其是厚度为0.5mm左右的玻璃片而言，抛光并不方便，容易造成碎片。

技术实现思路

[0008]本专利技术的目的是为了克服现有技术存在的玻璃内部缺陷分析不易并且玻璃缺陷样品的处理过程复杂、操作困难的问题，提供了玻璃缺陷测试样品，处理玻璃缺陷样品的方法，以及该玻璃缺陷测试样品在扫描电镜分析玻璃缺陷中的应用。该方法操作简单，且能够
便捷地处理玻璃缺陷样品以实现玻璃内部缺陷的分析。
[0009]为了实现上述目的，本专利技术第一方面提供一种处理玻璃缺陷样品的方法，所述方法包括：
[0010](1)定义距离玻璃缺陷最近的玻璃表面为上表面，定义对侧玻璃表面为下表面；测量所述玻璃缺陷距离所述上表面的深度，并定义所述深度为h微米；
[0011](2)将所述上表面在刻蚀液中进行刻蚀处理，得到刻蚀面；所述刻蚀液中含有以干基计，6
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8wt％的H2SO4、1
‑
5wt％的HF和6
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8wt％的HNO3；所述刻蚀处理的条件包括：刻蚀速率为v，且v为5
‑
8μm/min；刻蚀时间为t，且t＝h/v；
[0012](3)在所述刻蚀面标记所述玻璃缺陷的位置，得到缺陷标记III，采用偏光显微镜观察检测所述缺陷标记III和所述玻璃缺陷的清晰度；
[0013](4)依次重复步骤(1)、步骤(2)和步骤(3)，直至所述玻璃缺陷与缺陷标记III的清晰度相同。
[0014]本专利技术第二方面提供一种第一方面所述的方法处理得到的玻璃缺陷测试样品。
[0015]本专利技术第三方面提供第二方面所述的玻璃缺陷测试样品在扫描电镜分析玻璃缺陷中的应用。
[0016]通过上述技术方案，本专利技术提供的方法通过含有特定质量比的H2SO4、HF和HNO3的刻蚀液，结合特定的刻蚀处理条件以及偏光显微镜对玻璃缺陷的特定定位方式，不仅能够便捷地处理玻璃缺陷样品，可以快速准确地使玻璃缺陷暴露以实现采用扫描电镜对玻璃内部缺陷的分析，为产线生产提供技术支持，很好地解决了现有玻璃内部缺陷无法判定成分，只能靠经验进行判定的问题，还能够避免盲目抛光，防止手动切割玻璃造成的玻璃崩边甚至破碎，防止玻璃缺陷随碎玻璃剥落或丢失。本专利技术提供的方法特别适用于厚度较薄的玻璃，尤其适用于厚度较薄的高铝盖板玻璃，并且简单快捷，无需增加额外的成本。
附图说明
[0017]图1是实施例1制得的玻璃缺陷测试样品的SEM图像，放大倍数为800倍；
[0018]图2是未进行刻蚀处理的玻璃缺陷样品的SEM图像，放大倍数为800倍。
具体实施方式
[0019]在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。
[0020]本专利技术第一方面提供一种处理玻璃缺陷样品的方法，所述方法包括：
[0021](1)定义距离玻璃缺陷最近的玻璃表面为上表面，定义对侧玻璃表面为下表面；测量所述玻璃缺陷距离所述上表面的深度，并定义所述深度为h微米；
[0022](2)将所述上表面在刻蚀液中进行刻蚀处理，得到刻蚀面；所述刻蚀液中含有以干基计，6
‑
8wt％的H2SO4、1
‑
5wt％的HF和6
‑
8wt％的HNO3；所述刻蚀处理的条件包括：刻蚀速率为v，且v为5
‑
8μm/min；刻蚀时间为t，且t＝h/v；
[0023](3)在所述刻蚀面标记所述玻璃缺陷的位置，得到缺陷标记III，采用偏光显微镜
观察检测所述缺陷标记III和所述玻璃缺陷的清晰度；
[0024](4)依次重复步骤(1)、步骤(2)和步骤(3)，直至所述玻璃缺陷与缺陷标记III的清晰度相同。
[0025]现有的处理玻璃缺陷样品的方法中，为了将玻璃内部或者没有裸露的缺陷暴露，一般需结合双面抛光或手动切割的方式，其存在盲目抛光以及玻璃崩边甚至破碎，玻璃缺陷随碎玻璃剥落或丢失的问题，且现有的方法处理的玻璃缺陷样品较厚，对于厚度较薄的玻璃，尤其是厚度小于1mm的玻璃片而言无法适用。此外，本专利技术的专利技术人在研究过程中发现，现有技术中虽然采用氢氟酸与乙酸的混合酸溶液对石英玻璃进行腐蚀，但对于高铝盖板玻璃而言，由于其组分比较复杂，仅是采用氢氟酸与乙酸的混合酸溶液无法满足测试要求，且容易造成玻璃表面产生本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种处理玻璃缺陷样品的方法，其特征在于，所述方法包括：(1)定义距离玻璃缺陷最近的玻璃表面为上表面，定义对侧玻璃表面为下表面；测量所述玻璃缺陷距离所述上表面的深度，并定义所述深度为h微米；(2)将所述上表面在刻蚀液中进行刻蚀处理，得到刻蚀面；所述刻蚀液中含有以干基计，6
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8wt％的H2SO4、1
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5wt％的HF和6
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8wt％的HNO3；所述刻蚀处理的条件包括：刻蚀速率为v，且v为5
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8μm/min；刻蚀时间为t，且t＝h/v；(3)在所述刻蚀面标记所述玻璃缺陷的位置，得到缺陷标记III，采用偏光显微镜观察检测所述缺陷标记III和所述玻璃缺陷的清晰度；(4)依次重复步骤(1)、步骤(2)和步骤(3)，直至所述玻璃缺陷与缺陷标记III的清晰度相同。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，定义所述上表面与所述下表面之间的距离为M，且M为0.5
‑
1mm，优选为0.5
‑
0.95mm。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，h为3μm至M
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3μm，优选为5μm至M
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5μm。4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，测量h的步骤包括：(a)在所述上表面标记所述玻璃缺陷的位置，得到缺陷标记I；在所述下表面标记所述玻璃缺陷的位置，得到缺陷标记II；所述缺陷标记I与所述缺陷标记II不同；(b)采用偏光显微镜观察检测所述缺陷标记I和...

【专利技术属性】
技术研发人员：李青，李赫然，王頔，赵志龙，郭志胜，张克俭，李刚，张佳磊，
申请(专利权)人：北京远大信达科技有限公司，
类型：发明
国别省市：