【技术实现步骤摘要】
用于样品的显微镜检查的控制系统和检查系统以及对应的方法
[0001]本专利技术基本上涉及一种用于操作被配置为对样品进行显微镜检查的检查系统的控制系统、涉及这种检查系统、涉及一种用于显微镜检查的方法以及涉及一种用于操作检查系统的方法。
技术介绍
[0002]尤其是在活体样品(如细胞)的显微镜检查领域,将样品尽可能长时间地保存在有利且无压力的环境条件下具有重要意义。为此,培育箱可用于产生适合待检查样品的微气候。培育箱一方面可以区分为台顶式培育箱,另一方面可以区分为笼式培育箱。
[0003]笼式培育箱通常安装在标准显微镜上,标准显微镜可以是立式显微镜或倒置显微镜,并包括覆盖显微镜的主要部件(诸如物镜旋转器)的大型气候室,显微镜载台包括样品置物架和聚光器,从而需要培育较大体积。访问工作区以放置或操作样品设置在笼式培育箱内部,并可通过笼式培育箱壁上的专用开口实现。尤其是由于这些处理开口,笼式培育箱的尺寸非常大,以至于它显著地突出于显微镜座之外。因此,不可能以节省空间的方式为显微镜配备笼式培育箱。另一方面,由于台顶式培育箱仅包围 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种用于操作检查系统(130)的控制系统(140),所述检查系统(130)被配置为对样品(120)进行显微镜检查,所述检查系统(130)包括显微镜(100)、连接到所述显微镜(100)的培育环境调节单元(110)和用户接口(142),所述显微镜(100)包括:照明光学器件(118)、显微镜载台(116)、成像光学器件(124)、被配置为接收所述样品(120)的样品室(106)、被配置为用于将所述培育环境调节单元(110)连接到所述样品室(106)的显微镜接口(108),以及与所述样品室(106)分开的并包围所述成像光学器件(124)的成像光学器件室(122),其中被配置用于显微镜检查的所述检查系统(130)提供培育模式,在所述培育模式中通过供应由所述培育环境调节单元(110)产生的培育气氛来培育所述样品室(106),其中所述控制系统(140)被配置为:在用户通过所述用户接口(142)输入时,接收(S1)至少一个检查参数(T
S
,CO2)的目标设定点(T
S
**,CO2**);基于接收到的至少一个目标设定点(T
S
**,CO2**),选择(S2)用于所述培育模式的至少一个培育环境参数(T
ch
,RH,CO2)和用于至少一个显微镜参数(v,T
obj
,T
sub
)的预定调整设定点(T
ch
*,RH*,v*);和基于选定的调整设定点操作(S3)所述培育环境调节单元(110)和所述显微镜(100)。2.根据权利要求1所述的控制系统(140),其中所述至少一个检查参数的所述目标设定点至少包括所述样品的目标温度(T
S
**)。3.根据权利要求1或2所述的控制系统(140),其中所述至少一个培育环境参数包括所述样品室中的温度(T
ch
)和所述样品室中的湿度(RH)的组中的至少一个。4.根据权利要求3所述的控制系统(140),还被配置为:自动提供用于所述样品室中的所述湿度(RH)的值,所述值取决于所述样品的温度(T
S
)、所述样品室中的温度(T
ch
)、所述成像光学器件室中的温度(T
sub
)和所述成像光学器件的温度(T
obj
)中的至少一个的选定或选择的值。5.根据权利要求3或4所述的控制系统(140),其中所述至少一个培育环境参数还包括所述样品室中的二氧化碳(CO2)浓度和所述样品室中的氧气浓度的组中的至少一个。6.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统(140),其中所述至少一个显微镜参数包括所述显微镜(110)的风扇(126)的操作速度(v)、所述成像光学器件室中的温度(T
sub
)、样品温度和所述成像光学器件的温度(T
obj
)的组中的至少一个,所述风扇(126)被配置为对所述成像光学器件室(122)进行通风。7.根据权利要求3、4或5以及权利要求6所述的控制系统(140),其中所述至少一个培育环境参数包括所述样品室中的湿度(RH),并且其中基于所述选定的调整设定点(T
ch
*,RH*,v*)操作(S3)所述培育环境调节单元(110)和所述显微镜(100)包括:确定所述样品的温度(T
S
)、所述样品室中的温度(T
ch
)、所述成像光学器件室中的温度(T
sub
)和所述成像光学器件的温度(T
obj
)中的至少一个是否已到达相应的预定值(T
ch
’
);和在相应温度已到达所述预定值之后,开始操作所述培育环境调节单元(110)以控制所述样品室中的湿度(RH),其中所述相应的预定值是由所述相应的目标设定点或选定的调整设定点定义的所述值,或者是在所述相应的目标设定点或选定的调整设定点(T
ch
*)周围的范围内的值(T
ch
’
)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统(140),还被配置为:确定所述至少一个检查参数、所述至少一个培育环境参数和所述至少一个显微镜参数的组中的至少一个已经到达所述相应的选定的调整设定点(RH*)周围的预定范围内的值(RH
’
)或已经到达所述选定的调整设定点(T
ch
*)的所述值的时间;以及通过所述用户接口(142)向所述用户指示(S5)所述检查系统(130)已准备好进行检查。9.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统(140),其中所述至少一个检查参数还包括所述样品室中的二氧化碳浓度(CO2)和所述样品室中的氧气浓度的组中的至少一个。10.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统(140),其中用于所述培育环境参数和所述显微镜参数的所述调整设定点(T
S
**,RH*,T
ch
*,v*)选自一个或多个数据集(300),每个所述数据集包括与所述至少一个检查参数的目标设定点相关的所述培育环境参数和所述显微镜参数的组中的一个或多个的调整设定点。11.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统,包括:至少一个培育控制单元(212),其被配置为基于用于所述培育环境参数的所述选定的调整设定点(T
ch
*、RH*)来供应所述培育气氛,和显微镜控制单元(214),其被配置为基于用于所述显微镜参数的所述选定的调整设定点(v*)来操作所述显微镜。12.根据权利要求11所述的控制系统,其中所述显微镜控制单元(214)还被配置为:从所述用户接口(142)接收所述至少一个检查参数(T
S
)的所述目标设定点(T
S
**);选择用于所述培育环境参数和所述显微镜参数的所述预定调整设定点(T
ch
*,RH*,v*);和将用于所述培育环境参数的选定的调整设定点传送到所述培育控制单元(212)。13.根据权利要求1至10中任一项所述的控制系统(140),包括显微镜控制单元(214),所述显微镜控制单元(214)被配置为基于用于所述显微镜参数的所述选定的调整设定点(T
技术研发人员:斯特凡,
申请(专利权)人:莱卡微系统CMS有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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