激光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及激光技术领域，尤其涉及一种激光装置，包括增益介质、零度反射镜、第一后向反射镜、第二后向反射镜以及输出耦合镜；增益介质用于产生辐射光；零度反射镜与增益介质共光轴，零度反射镜用于全反射沿光轴方向入射至零度反射镜的第二方向辐射光；第一方向辐射光与第一出射光的方向相反，间隔且平行；第一出射光与第二出射光的方向相反，间隔且平行；零度反射镜和输出耦合镜之间构成谐振腔；输出耦合镜用于透射并输出第一部分辐射光，反射第二部分辐射光；本发明专利技术的激光装置通过第一后向反射镜和第二后向反射镜的配合使用，使得谐振腔中的光路稳定，提升激光装置对光学底板形变的耐受力，进而提升大能量激光装置对复杂环境工况的耐受力。的耐受力。的耐受力。

【技术实现步骤摘要】
激光装置


[0001]本专利技术涉及激光
，尤其涉及一种激光装置。

技术介绍

[0002]激光具有亮度高、方向集中、能量大等特性。近年来，激光逐渐应用于各个
，例如材料加工、测绘、成像等
在照明和成像
中，激光的方向和亮度特性能够得到充分的发挥。照明和成像的区域能够有效地控制在预定范围之内，光线亮度的稳定性较高，抗干扰能力强。
[0003]大能量固体激光装置需要较长的谐振腔长度来实现大的基横模尺寸，而较大的谐振腔长度导致激光装置对光学元件的形变较为敏感。其中，环境温差、振动、冲击等直接作用于激光装置外壳，应力、温差等传导至激光装置光学底板并导致光学底板形变，光学底板的形变进一步导致镜架等光学元器件俯仰、偏摆角的变化，从而导致激光装置输出功率降低甚至无法输出。

技术实现思路

[0004]本专利技术为解决上述问题，提供一种新型结构的激光装置，所述激光装置包括增益介质、零度反射镜、第一后向反射镜、第二后向反射镜以及输出耦合镜；所述增益介质位于所述第一后向反射镜和所述第二后向反射镜之间，所述增益介质用于产生辐射光；所述零度反射镜与所述增益介质共光轴；所述辐射光包括第一方向辐射光和第二方向辐射光；所述第一方向辐射光入射至所述第一后向反射镜；所述第二方向辐射光入射至所述零度反射镜，经过所述零度反射镜全反射后，入射至所述增益介质，再入射至所述第一后向反射镜，与所述第一方向辐射光共同形成入射光；所述第一后向反射镜和所述零度反射镜分别位于所述增益介质的两侧，所述入射光从所述第一后向反射镜入射，经过所述第一后向反射镜后出射，得到第一出射光；所述入射光与所述第一出射光的方向相反，所述入射光与所述第一出射光间隔且平行；所述第二后向反射镜和所述零度反射镜均位于所述增益介质的同一侧，所述第一出射光从所述第二后向反射镜入射，经过所述第二后向反射镜后出射，得到第二出射光；所述第一出射光与所述第二出射光的方向相反，所述第一出射光与所述第二出射光间隔且平行；所述零度反射镜和所述输出耦合镜之间构成谐振腔；所述第二出射光入射至所述输出耦合镜，所述输出耦合镜用于透射并输出第一部分辐射光，所述输出耦合镜用于反射第二部分辐射光。
[0005]优选的，所述第一后向反射镜包括相互垂直设置的第一反射面和第二反射面；所述第一反射面与所述增益介质的一端相对设置，使得所述入射光在所述第一反射面和所述增益介质之间传输。
[0006]优选的，所述第二后向反射镜包括相互垂直设置的第三反射面和第四反射面；
所述第三反射面与所述第二反射面相对设置，使得所述第一出射光在所述第三反射面和所述第二反射面之间传输；所述第四反射面与所述输出耦合镜相对设置，使得所述第二出射光在所述第四反射面和所述输出耦合镜之间传输。
[0007]优选的，所述第一后向反射镜和/或第二后向反射镜包括直角棱镜。
[0008]优选的，所述第一后向反射镜和/或第二后向反射镜包括两个相互垂直的45度反射镜。
[0009]优选的，所述激光装置还包括调制器，所述调制器设置在所述输出耦合镜和所述第二后向反射镜之间，所述调制器用于调节所述第二出射光的出光方向。
[0010]优选的，所述调制器包括电光调制器和/或声光调制器。
[0011]优选的，所述激光装置还包括泵浦光源，所述泵浦光源用于提供泵浦光，所述泵浦光穿过所述零度反射镜并被所述增益介质吸收。
[0012]优选的，所述增益介质的材质为Yb:YAG，所述增益介质的掺杂浓度为7%～20%。
[0013]优选的，所述增益介质产生的所述辐射光的波长为1030nm，所述第一部分辐射光占所述第一方向辐射光的比例为1%～50%。
[0014]本专利技术的激光装置通过第一后向反射镜和第二后向反射镜的配合使用，使得谐振腔中的光路稳定，提升激光装置对光学底板形变的耐受力，进而提升大能量激光装置对复杂环境工况的耐受力。而且，本专利技术的激光装置可以被动补偿环境参数改变导致的光学底板形变，从而提升该激光装置的环境适应性，同时保证稳定的高能高光束质量激光输出。
附图说明
[0015]图1是本专利技术第一种具体实施方式提供的激光装置的结构示意图。
[0016]图2（a）是本专利技术具体实施方式提供的后向反射镜的工作原理示意图。
[0017]图2（b）是现有技术提供的普通平面镜的工作原理示意图。
[0018]图3是本专利技术第二种具体实施方式提供的激光装置的结构示意图。
[0019]附图标记：激光装置10、增益介质1、零度反射镜2、后向反射镜3、第一后向反射镜31、第一反射面311、第二反射面312、第二后向反射镜32、第三反射面321、第四反射面322、输出耦合镜4、调制器5。
具体实施方式
[0020]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，而不构成对本专利技术的限制。
[0021]应当理解，尽管在本专利技术具体实施方式中可能采用术语第一、第二、第三等来描述，但这些不应限于这些术语。这些术语仅用来将区分开。例如，在不脱离本专利技术具体实施方式范围的情况下，第一也可以被称为第二，类似地，第二也可以被称为第一。
[0022]如图1所示，本专利技术第一种具体实施方式中，提供一种新型结构的激光装置，所述激光装置10包括增益介质1、零度反射镜2、第一后向反射镜31、第二后向反射镜32以及输出
耦合镜4；所述增益介质1位于所述第一后向反射镜31和所述第二后向反射镜32之间，所述增益介质1用于产生辐射光；所述辐射光包括第一方向辐射光和第二方向辐射光；所述第一方向辐射光入射至所述第一后向反射镜31；所述第二方向辐射光入射至所述零度反射镜2，经过所述零度反射镜2全反射后，入射至所述增益介质1，再入射至所述第一后向反射镜31，与所述第一方向辐射光共同形成入射光；所述第一后向反射镜31和所述零度反射镜2分别位于所述增益介质1的两侧，所述入射光从所述第一后向反射镜31入射，经过所述第一后向反射镜31后出射，得到第一出射光；所述入射光与所述第一出射光的方向相反，所述入射光与所述第一出射光间隔且平行；所述第二后向反射镜32和所述零度反射镜2均位于所述增益介质1的同一侧，所述第一出射光从所述第二后向反射镜32入射，经过所述第二后向反射镜32后出射，得到第二出射光；所述第一出射光与所述第二出射光的方向相反，所述第一出射光与所述第二出射光间隔且平行；所述零度反射镜2和所述输出耦合镜4之间构成谐振腔；所述第二出射光入射至所述输出耦合镜4，所述输出耦合镜4用于透射并输出第一部分辐射光，所述输出耦合镜4用于反射第二部分辐射光。
[0023]在该具体的实施方式中，沿增益介质1的光轴方向的入射光在零度反射镜2与输出耦合镜4之间多次往返；具体的，增益介质1产生的沿光轴的第二方向辐射光由零度反射镜2全反射，穿过增益介质1，与第一方向辐射光一起形成入射光，经由第一后向反射镜31反向传输本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光装置，其特征在于，所述激光装置包括增益介质、零度反射镜、第一后向反射镜、第二后向反射镜以及输出耦合镜；所述增益介质位于所述第一后向反射镜和所述第二后向反射镜之间，所述增益介质用于产生辐射光；所述零度反射镜与所述增益介质共光轴；所述辐射光包括第一方向辐射光和第二方向辐射光；所述第一方向辐射光入射至所述第一后向反射镜；所述第二方向辐射光入射至所述零度反射镜，经过所述零度反射镜全反射后，入射至所述增益介质，再入射至所述第一后向反射镜，与所述第一方向辐射光共同形成入射光；所述第一后向反射镜和所述零度反射镜分别位于所述增益介质的两侧，所述入射光从所述第一后向反射镜入射，经过所述第一后向反射镜后出射，得到第一出射光；所述入射光与所述第一出射光的方向相反，所述入射光与所述第一出射光间隔且平行；所述第二后向反射镜和所述零度反射镜均位于所述增益介质的同一侧，所述第一出射光从所述第二后向反射镜入射，经过所述第二后向反射镜后出射，得到第二出射光；所述第一出射光与所述第二出射光的方向相反，所述第一出射光与所述第二出射光间隔且平行；所述零度反射镜和所述输出耦合镜之间构成谐振腔；所述第二出射光入射至所述输出耦合镜，所述输出耦合镜用于透射并输出第一部分辐射光，所述输出耦合镜用于反射第二部分辐射光。2.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述第一后向反射镜包括相互垂直设置的第一反射面和第二反射面；所述第一反射面与所述增益介质的一端相对设置，使得所述入射光...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈飞，陈毅，孙俊杰，于晶华，姚志焕，何洋，张阔，于德洋，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：