一种测量工业辐照剂量二维分布的方法和胶片技术

本发明专利技术公开了一种基于芽孢萌发滞后时间测量工业辐照剂量二维分布的方法，以及提供了一种用于测量工业辐照剂量分布的胶片。方法包括以下步骤：（1）胶片制作：在载体平面上平铺一层芽孢悬液，蒸发悬液溶剂以在所述载体平面上固定一层芽孢像素面；在所述载体上盖上玻璃盖形成萌发腔，以将所述芽孢像素面覆盖在所述萌发腔内；所述玻璃盖上设置有加液口，用于加入萌发剂；（2）获得校准曲线；（3）测量辐照剂量。本发明专利技术通过芽孢像素面能够进行工业辐照剂量二维分布测量，实现了整个辐照面的剂量信息的测量，相较与传统的辐照中心剂量信息的定点测量，更具有针对性。更具有针对性。更具有针对性。

【技术实现步骤摘要】
一种测量工业辐照剂量二维分布的方法和胶片


[0001]本申请涉及辐照剂量测量
，更具体地，涉及了一种测量工业辐照剂量二维分布的方法和胶片。

技术介绍

[0002]工业辐照的照射剂量一般为上千戈瑞（Gy），通常使用化学计量计作为辐照测量装置。其原理是某些化学物质吸收电离辐射的能量后会发生变化，这种变化与吸收的剂量大小呈对应关系且可以被测量。常见的工业辐照测量系统见下表。
[0003]目前的辐照测量设备主要基于物理或化学的原理，也有基于生物原理的辐照测量方法及设备，如中国专利技术专利CN104215993A公开的一种利用发光细菌进行低剂量辐射生物预警的方法，利用发光细菌对低剂量辐射的敏感性，可建立细菌接受的辐射剂量与发光强度之间的剂量
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效应关系，而细菌的发光强度与菌体内的荧光素、荧光酶、ATP等发光要素的活性成正相关，因此通过计算发光细菌的发光强度抑制率，可以评估低剂量辐射对发光细菌的综合毒性，建立生物预警方法。又如中国专利技术专利CN103642904A公开的细胞周期蛋白G1(cyclin G1，CCNG1)基因作为电离辐射生物剂量计的应用。人淋巴母细胞受到低剂量电离辐射后，以及哺乳动物辐射后外周血淋巴细胞的CCNG1基因mRNA水平表达的增加与受到的电离辐射剂量成正比，存在一定的剂量
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效应关系，于照射后24h和48h采用实时荧光定量PCR法即可快速简便地定量检测，因此，CCNG1可作为低剂量电离辐射范围的生物剂量计，可以采用CCNG1基因表达定量分析法对人体和哺乳动物受到低剂量电离辐射的剂量大小进行评估。上述采用生物学原理检测辐照剂量，主要是应用在低剂量测量，基于生物原理的工业辐照测量方法还未见有报道。

技术实现思路

[0004]本申请实施例所要解决的技术问题是，提供了一种基于芽孢萌发滞后时间测量工业辐照剂量二维分布的方法，以及提供了一种用于测量工业辐照剂量分布的胶片。
[0005]为了解决上述技术问题，本申请采用了如下所述的技术方案：一种测量工业辐照剂量二维分布的方法，其包括以下步骤：（1）胶片制作：在载体平面上平铺一层芽孢悬液，蒸发悬液溶剂以在所述载体平面上固定一层芽孢像素面；在所述载体上盖上玻璃盖形成萌发腔，以将所述芽孢像素面覆盖在所述萌发腔内；所述玻璃盖上设置有加液口，用于加入萌发剂；（2）获得校准曲线：将所述胶片放置于辐照设备下，将已知强度的辐照以平行光束射向所述胶片；辐照完毕后将含萌发剂的萌发溶液加入到所述萌发腔内，待萌发剂充分接触所述芽孢像素面后，将胶片移至荧光显微镜下，监测所述芽孢像素面的每个芽孢像素点的荧光变化，计算每个芽孢像素点对应的萌发滞后时间且计算得到平均萌发滞后时间，根据平均萌发滞后时间与对应的辐照强度作图得到校准曲线；（3）测量辐照剂量：将所述胶片放置于辐照设备下接受辐照；辐照完毕后将含萌发剂的萌发溶液加入到所述萌发腔内，待萌发剂充分接触所述芽孢像素面后，将胶片移至荧光显微镜下，监测每个芽孢像素点的荧光变化曲线，计算每个芽孢像素点对应的萌发滞后时间，根据步骤（2）获得的多条已知强度校准曲线反推每个芽孢像素点的辐照剂量，即得工业辐照剂量二维分布。
[0006]进一步地，所述载体为具有琼脂层的托盘，所述芽孢悬液平铺在所述琼脂层上。
[0007]进一步地，所述萌发剂可以是L
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丙氨酸、AGFK、L
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缬氨酸(L
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valine)和肌苷(inosine)中的一种，但不局限于此，所述AGFK 是指L
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天冬氨酸(L
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asparagine)、葡萄糖(Glucose)、果糖(Fructose)和氯化钾(KCl)的组合。
[0008]进一步地，所述萌发溶液中萌发剂浓度为1~100mM。
[0009]进一步地，所述萌发溶液储存在器皿中，所述器皿边缘设有具有阀门的管道，所述管道与所述加液口连通。
[0010]进一步地，所述器皿设置在所述玻璃盖上方，与所述胶片一同接受辐照。
[0011]进一步地，所述辐照的剂量为10～100kGy。
[0012]一种测量工业辐照剂量二维分布用的胶片，其包括载体，固设在所述载体平面上的芽孢像素面，所述芽孢像素面由平铺的若干芽孢像素点组成。
[0013]进一步地，所述胶片还包括玻璃盖，其盖设在所述载体上以形成一萌发腔，所述玻璃盖上设置有加液口，用于加入萌发剂。
[0014]进一步地，所述载体为具有琼脂层的托盘，所述芽孢悬液平铺在所述琼脂层上。
[0015]与现有技术相比，本申请实施例主要有以下有益效果：本专利技术基于芽孢萌发滞后时间测量工业辐照剂量二维分布的方法中，工业辐照则剂量较大（10kGy以上），在这个剂量段芽孢萌发的滞后时间与剂量成对应关系，正好可以利用滞后时间反推所受辐照剂量。基于芽孢像素面的胶片制作所需的芽孢和载体、萌发剂溶液，取材方便且均较为廉价，可直接从市场购买，制作成本较低，一次性用品，且可大批量制作。该方法操作简便、成本低廉、准确性好、环境风险小。本专利技术通过芽孢像素面能够进行工业辐照剂量二维分布测量，实现了整个辐照面的剂量信息的测量，相较与传统的辐照中心剂量信息的定点测量，更具有针对性。
附图说明
[0016]图1为本专利技术芽孢受辐照后其萌发的滞后时间与荧光强度的关系图；图2为本专利技术胶片的结构分解示意图；图中，1
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托盘，2
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芽孢像素面，3
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芽孢，4
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玻璃盖，6
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加液口，7
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萌发溶液，8
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器皿，9
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管道。
具体实施方式
[0017]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请
的技术人员通常理解的含义相同；本文中在申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请；本申请的说明书和权利要求书中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。本申请的说明书和权利要求书或上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。
[0018]在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
[0019]本专利技术提供了一种测量工业辐照剂量二维分布的方法，其包括以下步骤：（1）胶片制作：在载体平面上平铺一层芽孢悬液，蒸发悬液溶剂以在所述载体平面上固定一层芽孢像素面；在所述载体上盖上玻璃盖形成萌发腔，以将所述芽孢像素面覆盖在所述萌发腔内；所述玻璃盖上设置有加液口，用于加入萌发剂。
[0020]芽孢悬液平铺前，需要充分混匀（可以震荡混匀，可以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量工业辐照剂量二维分布的方法，其特征在于，其包括以下步骤：（1）胶片制作：在载体平面上平铺一层芽孢悬液，蒸发悬液溶剂以在所述载体平面上固定一层芽孢像素面；在所述载体上盖上玻璃盖形成萌发腔，以将所述芽孢像素面覆盖在所述萌发腔内；所述玻璃盖上设置有加液口，用于加入萌发剂；（2）获得校准曲线：将所述胶片放置于辐照设备下，将已知强度的辐照以平行光束射向所述胶片；辐照完毕后将含萌发剂的萌发溶液加入到所述萌发腔内，待萌发剂充分接触所述芽孢像素面后，将胶片移至荧光显微镜下，监测所述芽孢像素面的每个芽孢像素点的荧光变化，计算每个芽孢像素点对应的萌发滞后时间且计算得到平均萌发滞后时间每个芽孢像素点每个芽孢像素点，根据每个芽孢像素点平均萌发滞后时间与对应的辐照强度作图得到校准曲线；（3）测量辐照剂量：将所述胶片放置于辐照设备下接受辐照；辐照完毕后将含萌发剂的萌发溶液加入到所述萌发腔内，待萌发剂充分接触所述芽孢像素面后，将胶片移至荧光显微镜下，监测每个芽孢像素点的荧光变化曲线，计算每个芽孢像素点对应的萌发滞后时间，根据步骤（2）获得的多条已知强度校准曲线反推每个芽孢像素点的辐照剂量，即得工业辐照剂量二维分布。2.根据权利要求1所述的测量工业辐照剂量二维分布的方法，其特征在于，所述载体为具有琼脂层的托盘，所述芽孢悬液平铺在所述琼脂层上。3.根据权利要求1所述的测量工业辐照剂量二维分布的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴文捷，白雪，常金辉，金涌，金怡萱，
申请(专利权)人：浙江省肿瘤医院，
类型：发明
国别省市：