蒸镀掩模制造技术

提供能够抑制纤维向蒸镀掩模附着的蒸镀掩模。本发明专利技术的蒸镀掩模为金属制的蒸镀掩模(10)。具备栅格构造(10M)，该栅格构造(10M)具备表面(10F)以及背面，且具有划分多个掩模孔(10H)的二维的网眼状，该多个掩模孔将位于表面(10F)的大开口(HL)与位于背面的小开口连接。在表面(10F)中，彼此相邻的大开口(HL)的边界处的以JIS B 0601：2013为基准的算术平均粗糙度Ra为1.35μm以下，边界处的以JIS B 0601：2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模


[0001]本专利技术涉及蒸镀掩模。

技术介绍

[0002]在有机EL设备所具备的有机EL元件的形成时使用利用了蒸镀掩模的真空蒸镀。蒸镀掩模由非常薄的金属板形成。量产的蒸镀掩模的厚度例如包括50μm以下的部分。在输送蒸镀掩模时，蒸镀掩模收容于蒸镀掩模用壳体以抑制蒸镀掩模的变形(例如参照专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本技术登记第3207895号

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]然而，蒸镀掩模以在蒸镀掩模的厚度方向上被一对无尘纸夹住的状态收容于蒸镀掩模用壳体。在将蒸镀掩模向蒸镀掩模用壳体收容时、将蒸镀掩模用壳体输送时、以及将蒸镀掩模从蒸镀掩模用壳体中取出时，在蒸镀掩模与无尘纸之间产生摩擦。在蒸镀掩模与无尘纸之间产生的摩擦使被蒸镀掩模的表面挂住的纤维作为异物附着于蒸镀掩模。
[0008]本专利技术的目的在于提供能够抑制纤维向蒸镀掩模附着的蒸镀掩模。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]用于解决上述课题的蒸镀掩模为金属制的蒸镀掩模，所述蒸镀掩模具备栅格构造，该栅格构造具备表面以及背面，且具有划分出多个掩模孔的二维的网眼状，该多个掩模孔连接位于所述表面的大开口与位于所述背面的小开口，在所述表面中，彼此相邻的大开口的边界处的以JIS B 0601：2013为基准的算术平均粗糙度Ra为1.35μm以下，所述边界处的以JIS B 0601：2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。
[0011]用于形成蒸镀掩模的金属板所具有的表面粗糙度通常被设定得充分小以获得金属板与抗蚀剂的紧贴性。另一方面，形成有掩模孔之后的金属板的表面粗糙度、即蒸镀掩模的表面粗糙度以掩模孔所具有的阶差的量具有较大的阶差。而且，表面中的大开口之间的距离比背面中的小开口之间的距离短，因此每单位长度的表面中的阶差容易比每单位长度的背面中的阶差大。换言之，在掩模孔的加工前为充分平坦的金属板的面，在栅格构造的表面中比在背面中残留少，在栅格构造的表面中，与背面相比表面粗糙度变大作为阶差的要因的掩模孔的区域拓宽的量。关于这一点，只要在表面粗糙度较大的栅格构造的表面中，算术平均粗糙度Ra为1.35μm以下，则能够在栅格构造的表面以及背面双方抑制纤维的附着。结果，能够抑制纤维向蒸镀掩模附着。
[0012]此外，粗糙度曲线的最大高度Rz为最大峰高Rp与最大谷深Rv之和。因此，最大高度Rz越大，蒸镀掩模的表面越容易具有将形成无尘纸的纤维挂住的峰部，此外，越容易具有纤
维嵌入的谷部。关于这一点，若最大高度Rz为6.8μm以下，则可使位于蒸镀掩模的表面的峰部具有不易挂住纤维的高度，并且谷部具有纤维不易嵌入的深度。
[0013]在上述蒸镀掩模中也可以是，具备：凹陷，位于所述栅格构造的栅格线；以及顶部，位于所述栅格构造的栅格点、是所述凹陷彼此连接的部分，所述凹陷与所述顶部构成所述边界。
[0014]在上述蒸镀掩模中，所述顶部也可以为平面。根据该构成，位于大开口的对角方向的大开口之间不被蚀刻而残留，由此顶部为平面，因此纤维更难以附着。
[0015]在上述蒸镀掩模中也可以是，所述栅格构造具备在所述表面中线宽度较宽的第一栅格线、以及在所述表面中线宽度较窄的第二栅格线，所述第一栅格线与所述第二栅格线构成所述边界，所述表面中的所述第一栅格线处的以JIS B 0601：2013为基准的算术平均粗糙度Ra，比所述表面中的所述第二栅格线处的以JIS B 0601：2013为基准的算术平均粗糙度Ra小。
[0016]根据上述构成，与第二栅格线相比与无尘纸的接触面积较大的第一栅格线的算术平均粗糙度Ra，比第二栅格线的算术平均粗糙度Ra小，因此在蒸镀掩模与无尘纸之间产生摩擦时，能够抑制来自于无尘纸的纤维的脱离。
[0017]专利技术效果
[0018]根据本专利技术，能够抑制纤维向蒸镀掩模附着。
附图说明
[0019]图1是表示具备第一实施方式的蒸镀掩模的掩模装置中的构造的俯视图。
[0020]图2是表示第一实施方式的蒸镀掩模中的构造的立体图。
[0021]图3是表示从与第一实施方式的蒸镀掩模中的表面对置的视点观察的构造的俯视图。
[0022]图4是表示从与第一实施方式的蒸镀掩模中的背面对置的视点观察的构造的俯视图。
[0023]图5是表示第一实施方式的蒸镀掩模的构造的剖面图。
[0024]图6是示意地表示沿着将图3所示的点A1与点A4连结的直线的、蒸镀掩模的表面中的高度分布的曲线图。
[0025]图7是表示用于制造蒸镀掩模用基材的轧制工序的工序图。
[0026]图8是表示用于制造蒸镀掩模用基材的加热工序的工序图。
[0027]图9是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
[0028]图10是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
[0029]图11是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
[0030]图12是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
[0031]图13是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
[0032]图14是表示用于制造蒸镀掩模的蚀刻工序的工序图。
[0033]图15是表示实施例以及比较例的蒸镀掩模中的测定结果以及评价结果的表。
[0034]图16是表示从与第二实施方式的蒸镀掩模中的表面对置的视点观察的构造的俯视图。
[0035]图17是表示从与第二实施方式的蒸镀掩模中的背面对置的视点观察的构造的俯视图。
[0036]图18是示意地表示沿着将图16所示的点B1与点B2连结的直线的、蒸镀掩模的表面中的高度分布的曲线图。
[0037]图19是示意地表示沿着将图16所示的点C1与点C2连结的直线的、蒸镀掩模的表面中的高度分布的曲线图。
[0038]图20是表示实施例以及比较例的蒸镀掩模中的测定结果以及评价结果的表。
[0039]附图标记说明
[0040]10
…
蒸镀掩模
[0041]10a
…
图案区域
[0042]10b
…
周边区域
[0043]10F
…
表面
[0044]10H、20H
…
掩模孔
[0045]10M、20M
…
栅格构造
[0046]10R
…
背面
[0047]20M1
…
第一栅格线
[0048]20M2
…
第二栅格线
[0049]HC
…
中央开口
[0050]HL
…
大开口
[0051]HS
…
小开口。
具体实施方式
[0052][第一实施方式][0053]参照图1至图15对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模，为金属制的蒸镀掩模，所述蒸镀掩模具备栅格构造，该栅格构造具备表面与背面，且具有划分出多个掩模孔的二维的网眼状，该多个掩模孔将位于所述表面的大开口与位于所述背面的小开口连接，在所述表面中，彼此相邻的大开口的边界处的以JIS B 0601：2013为基准的算术平均粗糙度Ra为1.35μm以下，所述边界处的以JIS B 0601：2013为基准的最大高度Rz为6.8μm以下。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模，所述表面具备：凹陷，位于所述栅格构造的栅格线；以及顶部，位于所述栅格构...

【专利技术属性】
技术研发人员：野本裕香，锅谷广美，桶屋雄太，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：