薄膜层转印用层叠体制造技术

提供：能形成针孔、转印不良等坏点的发生被抑制的转印物的薄膜层转印用层叠体。一种层叠体，其依次层叠有脱模性基材薄膜、薄膜层、掩蔽薄膜，所述层叠体满足下述式(1)、(2)和(3)。0.01≤Y/X≤0.7(1)(X：脱模性基材薄膜与薄膜层的剥离强度、Y：薄膜层与掩蔽薄膜的剥离强度)Sku≤40(2)(Sku：脱模性基材薄膜的脱模面的峰度)Sq≤20nm(3)(Sq：脱模性基材薄膜的脱模面的均方根粗糙度)。模面的均方根粗糙度)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】薄膜层转印用层叠体


[0001]本专利技术涉及用于转印薄膜层的层叠体。更详细地，涉及：将圆偏光板等偏光板、相位差板的制造、具有液晶化合物所形成的偏光层的偏光板的制造中使用的、包含液晶化合物经取向的层的薄膜层转印时适合使用的层叠体。

技术介绍

[0002]一直以来已知在脱模性基材上设置薄膜层、将该薄膜层转印至对象物的技术。该转印法不仅采用了一直以来的图案的转印，近年来在光学领域、电气电子领域等中还采用了将相位差层、偏光层、紫外线、红外线等的吸收层、反射层、电磁波屏蔽层、电极层、防反射层、折射率调整层等具有各种功能的薄膜层通过转印设置于对象物的方法。
[0003]例如，图像显示装置中，以往，为了减少外来光的反射，在图像显示面板的观众侧的面板面配置圆偏光板。该圆偏光板由线偏光板与λ/4等相位差薄膜的层叠体构成，将朝向图像显示面板的面板面的外来光利用线偏光板转换为线偏振光，然后利用λ/4等相位差薄膜转换为圆偏振光。基于圆偏振光的外来光在图像显示面板的表面发生反射时偏光面的旋转方向反转，该反射光相反地利用λ/4等相位差薄膜转换为由线偏光板遮光的方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种薄膜层转印用层叠体，其特征在于，依次层叠有脱模性基材薄膜、薄膜层、掩蔽薄膜，所述薄膜层转印用层叠体满足下述式(1)、(2)和(3)，0.01≤Y/X≤0.7
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)X：脱模性基材薄膜与薄膜层的剥离强度Y：薄膜层与掩蔽薄膜的剥离强度Sku≤40
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)Sku：脱模性基材薄膜的脱模面的峰度Sq≤20nm
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3)Sq：脱模性基材薄膜的脱模面...

【专利技术属性】
技术研发人员：中谷充晴，柴野博史，
申请(专利权)人：东洋纺株式会社，
类型：发明
国别省市：