【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板、显示面板及掩膜版
[0001]本专利技术属于显示
，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板及掩膜版。
技术介绍
[0002]TFT
‑
LCD彩膜基板具有位于非显示区的支撑柱，用于支撑起彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板之间的空间，以为液晶层提供设置空间。一些显示面板(比如车载显示面板)中，支撑柱的顶面尺寸较小时，容易导致强度不够，因而会将支撑柱的顶面尺寸设计的相对较大。支撑柱的顶面的平整度直接影响支撑柱与薄膜晶体管阵列基板的接触面积，从而影响支撑效果。相关技术中，对于支撑柱的顶面尺寸需要设计为较大的，支撑柱表面的平整度很难得到保证，尤其容易在中部出现凹陷区域。
技术实现思路
[0003]根据本专利技术实施例的第一方面，提供一种彩膜基板，具有位于中部的显示区和位于所述显示区外围的非显示区，其包括：
[0004]基板本体；
[0005]彩色光阻层，设于所述基板本体的一侧，包括多个光阻单元；
[0006]支撑结构，位于非显示区，包括多个主支撑柱及辅支撑柱，每一所述主支撑柱或辅支撑柱设于一光阻单元背离所述基板本体的一侧；所述辅支撑柱具有背离所述基板本体一侧的第一顶面，所述第一顶面具有至少位于中部的平面区域；所述主支撑柱具有背离所述基板本体的第二顶面，所述第二顶面与所述基板本体之间的距离大于所述辅支撑柱的第一顶面与所述基板本体之间的距离。
[0007]在一些实施例中，所述平面区域的面积与所述第一顶面的面积之间的比值为0.9
‑
1。>[0008]在一些实施例中，所述辅支撑柱的第一顶面尺寸大于或等于16μm。
[0009]在一些实施例中，所述辅支撑柱具有位于中部的支撑柱主体及位于所述支撑柱主体外围的支撑环，所述支撑环与所述支撑柱主体之间具有自所述第一顶面向内凹陷预设深度的隔离槽；所述预设深度小于所述第一顶面与所述基板本体之间的距离。
[0010]在一些实施例中，所述支撑环为一层环状结构或多层间隔的环状结构。
[0011]在一些实施例中，所述支撑环的形状与所述支撑主体的形状适配。
[0012]在一些实施例中，所述支撑柱主体位于第一顶面内的尺寸小于或等于16μm。
[0013]在一些实施例中，所述支撑结构的材料为负型光感材料。
[0014]在一些实施例中，所述辅支撑柱的第一顶面与所述基板本体之间的距离为2.5μm
‑
3.5μm；和/或，
[0015]所述主支撑柱的第二顶面与所述基板本体之间的距离为3.0μm
‑
4.0μm；和/或，
[0016]所述第二顶面与所述第一顶面二者与所述基板本体之间的距离差为0.45μm
‑
0.55μm。
[0017]根据本专利技术实施例的第二方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括液晶层、薄膜晶体管阵列基板及如上所述的彩膜基板，所述液晶层位于所述薄膜晶体管阵列基板与所述彩膜基板之间，且所述支撑柱朝向所述薄膜晶体管阵列基板。
[0018]根据本专利技术实施例的第三方面，提供一种掩膜版，用于制备如上所述的彩膜基板，包括：
[0019]掩膜版本体，所述掩膜版本体为不透光膜结构；
[0020]多个曝光单元，每一曝光单元包括位于中部的第一曝光区域及位于所述第一曝光区域外围的并呈环状的第二曝光区域；所述第一曝光区域和所述第二曝光区域之间设有环状的第一遮挡环；其中，所述第一曝光区域和所第二曝光区域为半透光膜结构，所述第一遮挡环为不透光膜结构。
[0021]在一些实施例中，所述第一曝光区域的径向尺寸小于30μm。
[0022]在一些实施例中，所述第一遮挡环的径向尺寸为1μm
‑
2mm；和/或，
[0023]所述第二曝光区域的径向尺寸为1.5μm
‑
3μm；和/或，
[0024]所述第一遮挡环包括一个或多个间隔设置的遮挡环结构，所述第二曝光区域为对应的一个或多个间隔的环状曝光区域。
[0025]根据本专利技术实施例的第四方面，提供一种掩膜版，用于制备如上所述的彩膜基板，包括：
[0026]掩膜版本体，所述掩膜版本体为不透光膜结构；
[0027]多个曝光单元，每一曝光单元包括第三曝光区域及位于所述第三曝光区域中部的第四曝光区域；其中，所述第四曝光区域的透光性大于所述第三曝光区域的透光性。
[0028]在一些实施例中，所述第三曝光区域为半透光膜结构，所述第四曝光区域为全透光膜结构。
[0029]在一些实施例中，所述第三曝光区域和所述第四曝光区域的连接处设有第二遮挡环，所述第二遮挡环与所述第三曝光区域的部分重合，和/或所述第二遮挡环与所述第四曝光区域的部分重合。
[0030]在一些实施例中，所述第二遮挡环的径向尺寸小于或等于0.5μm。
[0031]在一些实施例中，所述第四曝光区域的径向尺寸为11μm
‑
13μm。
[0032]本申请提供的上述彩膜基板、显示面板及掩膜版，彩膜基板的辅支撑柱中部为平面区域，有利于改善第一顶面的平整度，从而提高第一顶面与其他结构(比如膜晶体管阵列基板)之间的接触面积。
[0033]应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本专利技术。
附图说明
[0034]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。
[0035]图1为相关技术中的一种显示面板的局部剖视图；
[0036]图2为根据本专利技术实施例示出的一种显示面板的局部剖视图；
[0037]图3为根据本专利技术实施例示出的一种辅支撑柱的第一顶面的示意图；
[0038]图4为根据本专利技术实施例示出的另一种辅支撑柱的第一顶面的示意图；
[0039]图5为根据本专利技术实施例示出的另一种辅支撑柱的第一顶面的示意图；
[0040]图6为根据本专利技术实施例示出的又一种辅支撑柱的第一顶面的示意图；
[0041]图7为根据本专利技术实施例示出的一种支撑结构模块示意图；
[0042]图8为根据本专利技术实施例示出的一种掩膜版的示意图；
[0043]图9为根据图8所示掩膜版形成辅支撑柱的原理图；
[0044]图10为一组不同掩膜版的示意图；
[0045]图11为根据图10所示不同掩膜版形成的辅支撑柱的数据表；
[0046]图12为根据图10所示不同掩膜版所形成的辅支撑柱的实测示意图；
[0047]图13为根据本专利技术实施例示出的另一种掩膜版的示意图；
[0048]图14为根据图13所示掩膜版形成辅支撑柱的原理图；
[0049]图15为另一组不同掩膜版的示意图；
[0050]图16为根据图15所示不同掩膜版形成的辅支撑柱的数据表；
[0051]图17为根据图15所示不同掩膜版所形成的辅支撑柱的实测示意图。本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，具有位于中部的显示区和位于所述显示区外围的非显示区，其特征在于，包括：基板本体；彩色光阻层，设于所述基板本体的一侧，包括多个光阻单元；支撑结构，位于非显示区，包括多个主支撑柱及辅支撑柱，每一所述主支撑柱或辅支撑柱设于一光阻单元背离所述基板本体的一侧；所述辅支撑柱具有背离所述基板本体一侧的第一顶面，所述第一顶面具有至少位于中部的平面区域；所述主支撑柱具有背离所述基板本体的第二顶面，所述第二顶面与所述基板本体之间的距离大于所述辅支撑柱的第一顶面与所述基板本体之间的距离。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述平面区域的面积与所述第一顶面的面积之间的比值为0.9
‑
1。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述辅支撑柱的第一顶面尺寸大于或等于16μm。4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述辅支撑柱具有位于中部的支撑柱主体及位于所述支撑柱主体外围的支撑环，所述支撑环与所述支撑柱主体之间具有自所述第一顶面向内凹陷预设深度的隔离槽；所述预设深度小于所述第一顶面与所述基板本体之间的距离。5.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撑环为一层环状结构或多层间隔的环状结构。6.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撑环的形状与所述支撑主体的形状适配。7.如权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撑柱主体位于第一顶面内的尺寸小于或等于16μm。8.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撑结构的材料为负型光感材料。9.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述辅支撑柱的第一顶面与所述基板本体之间的距离为2.5μm
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3.5μm；和/或，所述主支撑柱的第二顶面与所述基板本体之间的距离为3.0μm
‑
4.0μm；和/或，所述第二顶面与所述第一顶面二者与所述基板本体之间的距离差为0.45μm
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0.55μm。10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括液晶层、薄膜晶体管阵列基板及如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：余娅，王永灿，李群，卢彦春，杜瑞芳，施申伟，张然，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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