本发明专利技术公开曝光装置及涂胶显影设备，曝光装置包括壳体和光强调节组件，壳体内形成有光线传播路径，光强调节组件包括设于光线传播路径的半透半反射镜，且可转动地安装于壳体内，在半透半反射镜的活动行程中，半透半反射镜具有运动至其反射面与光线传播路径呈夹角设置的反射位置和其反射面与光路呈平行设置的避让位置，实现光强较大时，转动半透半反射镜，使其处于反射位置，通过半透半反射镜将光线传播路径上的光部分反射，减小光强，当光强较小时，转动半透半反射镜，使其处于避让位置，通过半透半反射镜避让光线传播路径上的光，使得位于光线传播路径上的光可以全部照射至涂有光刻胶的晶片表面，操作简单，实现光强可调节，提高光刻产品的质量。光刻产品的质量。光刻产品的质量。
【技术实现步骤摘要】
曝光装置及涂胶显影设备
[0001]本专利技术涉及涂胶显影术领域，具体涉及曝光装置及涂胶显影设备。
技术介绍
[0002]目前，在半导体晶片的光刻工艺制程中，一般包括涂胶、曝光、显影等工序，其中，曝光的制程具体为：紫外光透过光罩板上的图形照射到涂有光刻胶的晶片表面，受紫外光照射后光刻胶变性，光刻胶被显影液腐蚀，经过清洗后，留下和光罩板上一致或互补的图形，从而完成光刻的步骤。但是，现有技术的曝光过程中，光强无法根据需要进行调节，使得光刻产品的质量降低。
技术实现思路
[0003]本专利技术的主要目的是提出一种曝光装置及涂胶显影设备，旨在解决现有技术的曝光过程中，光强无法根据需要进行调节，使得光刻产品的质量降低。
[0004]为了实现上述目的，本专利技术提出的曝光装置，包括：
[0005]壳体，所述壳体内形成有光线传播路径；以及，
[0006]光强调节组件，包括半透半反射镜，所述半透半反射镜设于所述光线传播路径，且可转动地安装于所述壳体内，以使得在所述半透半反射镜的活动行程中，所述半透半反射镜具有运动至其反射面与所述光线传播路径呈夹角设置的反射位置和其反射面与所述光路呈平行设置的避让位置；
[0007]其中，在所述反射位置时，所述半透半反射镜用以将所述光线传播路径上的光部分反射，在所述避让位置，所述半透半反射镜用以避让所述光线传播路径上的光。
[0008]可选地，所述壳体包括安装筒，所述安装筒沿上下向延伸设置，所述安装筒的侧壁面设置有安装孔；
[0009]所述光线传播路径形成于所述安装筒内；
[0010]光强调节组件还包括：
[0011]夹持件，所述夹持件沿左右向轴线转动安装于所述安装筒内，所述夹持件用以夹持所述半透半反射镜；
[0012]驱动件，具有沿左右向延伸设置的驱动轴，所述驱动轴穿过所述安装孔与所述夹持件驱动连接，以驱动所述夹持件转动。
[0013]可选地，所述驱动件还包括驱动手柄，所述驱动手柄包括连接杆和与所述连接杆相连接的握持杆，所述连接杆沿前后向延伸设置且所述连接杆的另一端与所述驱动轴相连，所述握持段沿左右向延伸设置，所述驱动轴和/或所述握持杆的侧壁面沿其周向间隔设置有第一限位槽和第二限位槽；
[0014]所述光强调节组件还包括限位结构，所述限位结构包括限位杆，所述限位杆可沿前后向活动地安装于所述安装筒的外侧壁；
[0015]其中，在所述驱动轴和/或所述握持杆的转动行程中，所述限位杆具有运动至插装
于所述第一限位槽的第一限位状态和运动至插装于所述第二限位槽的第二限位状态，在所述第一限位状态时，所述半透半反射镜处于所述反射位置，在所述第二限位状态时，所述半透半反射镜处于所述避让位置。
[0016]可选地，所述限位结构还包括安装座，所述安装座包括沿前后向间隔设置的两个安装板，两个所述安装板均沿前后向贯设有插装孔；
[0017]所述限位杆的下端依次穿过两个所述插装孔，所述限位杆上套装有弹簧，所述弹簧位于两个所述安装板之间，且所述弹簧的一端与两个所述安装板中的一个相连，另一个与所述限位杆相连。
[0018]可选地，所述安装筒包括相扣合设置的第一弧形板和第二弧形板，所述第一弧形板和所述第二弧形板之间设置有卡装结构，所述卡装结构包括沿上下向延伸设置的卡凸和与所述卡凸相适配的卡槽，所述卡凸和所述卡槽中，其中一者设于所述第一弧形板，另一者设于所述第二弧形板。
[0019]可选地，所述安装筒设置多个，对应的所述光强调节组件设置多个，多个所述光强调节组件分别安装于多个所述安装筒内，各所述安装筒的内壁面均贯设有通孔，所述通孔用以接收所述半透半反射镜反射的光，所述曝光装置还包括多个光导纤维，多个所述光导纤维的两端用于分别于两个所述安装筒的通孔密封连接。
[0020]为了实现上述目的，本专利技术提出的涂胶显影设备，包括：
[0021]机座，所述机座具有多个工位，多个所述工位包括涂胶工位、曝光工位和显影工位；
[0022]输送装置，用于输送晶圆，以使得晶圆依次经过所述涂胶工位、所述曝光工位、所述显影工位；
[0023]涂胶装置，设于所述机座，用于对处于所述涂胶工位的晶圆进行涂胶处理；
[0024]曝光装置，设置为如上述所述的曝光装置，所述曝光装置包括壳体和光强调节组件，所述壳体内形成有光线传播路径，所述光强调节组件包括半透半反射镜，所述半透半反射镜设于所述光线传播路径，且可转动地安装于所述壳体内，以使得在所述半透半反射镜的活动行程中，所述半透半反射镜具有运动至其反射面与所述光线传播路径呈夹角设置的反射位置和其反射面与所述光路呈平行设置的避让位置，其中，在所述反射位置时，所述半透半反射镜用以将所述光线传播路径上的光部分反射，在所述避让位置，所述半透半反射镜用以避让所述光线传播路径上的光；以及，
[0025]显影装置，设于所述机座，用于对处于所述显影位的晶圆进行显影处理。
[0026]可选地，所述机座还具有拾起工位和安放工位，所述拾起工位沿左右向布设有多个储料位，各所述储料位均存储有晶圆；
[0027]所述输送装置包括：
[0028]基座，用于往返运动于所述拾起工位和所述安放工位；以及，
[0029]拾取机构，包括多个拾取部，各所述拾取部均可活动地设于所述基座，以使得所述拾取机构具有多个所述拾取部运动至沿左右向并排布置的展开状态、以及至少两个所述拾取部运动至沿上下向呈堆叠设置的收纳状态；
[0030]其中，在所述基座运动至所述拾起工位时，所述拾取机构处于展开状态，多个所述拾取部用于拾取对应的多个所述储料位上存储的晶圆，在所述基座由所述拾起工位运动至
所述安放工位的过程中，所述拾取机构处于收拢状态。
[0031]可选地，多个所述拾取部包括：
[0032]第一拾取部，沿前后向活动安装于所述基座；以及，
[0033]至少两个第二拾取部，各所述第二拾取部均沿左右向活动安装于所述基座，以使得所述至少两个第二拾取部具有相互靠近至沿上下向堆叠设置的堆叠状态和相互背离至沿左右向间隔设置的间隔状态；
[0034]其中，在所述至少两个第二拾取部处于所述堆叠状态时，所述第一拾取部可运动至与所述至少两个第二拾取部沿前后向间隔设置，在所述至少两个第二拾取部处于所述间隔状态时，所述第一拾取部可运动至夹设于间隔设置的所述至少第二拾取部之间。
[0035]可选地，所述拾取机构还包括连杆组，所述连杆组包括至少两个连杆，所述至少两个连杆对应所述至少两个所述第二拾取部设置，各所述连杆的一端与所述第一拾取部相铰接，另一端与对应的所述第二拾取部相铰接；和/或，
[0036]所述基座与所述第一拾取部之间设置有第一导向结构，所述第一导向结构包括沿前后向延伸设置的第一导向槽和与所述第一导向槽相适配的第一导向凸起，所述第一导向槽和所述第一导向凸起中，其中一者设于所述基座，另一者设于所述第一拾取部。
[0037]可选地，所述输送装置还包括本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：壳体，所述壳体内形成有光线传播路径；以及，光强调节组件，包括半透半反射镜，所述半透半反射镜设于所述光线传播路径，且可转动地安装于所述壳体内，以使得在所述半透半反射镜的活动行程中，所述半透半反射镜具有运动至其反射面与所述光线传播路径呈夹角设置的反射位置和其反射面与所述光路呈平行设置的避让位置；其中，在所述反射位置时，所述半透半反射镜用以将所述光线传播路径上的光部分反射，在所述避让位置，所述半透半反射镜用以避让所述光线传播路径上的光。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述壳体包括安装筒，所述安装筒沿上下向延伸设置，所述安装筒的侧壁面设置有安装孔；所述光线传播路径形成于所述安装筒内；光强调节组件还包括：夹持件，所述夹持件沿左右向轴线转动安装于所述安装筒内，所述夹持件用以夹持所述半透半反射镜；驱动件，具有沿左右向延伸设置的驱动轴，所述驱动轴穿过所述安装孔与所述夹持件驱动连接，以驱动所述夹持件转动。3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述驱动件还包括驱动手柄，所述驱动手柄包括连接杆和与所述连接杆相连接的握持杆，所述连接杆沿前后向延伸设置且所述连接杆的另一端与所述驱动轴相连，所述握持段沿左右向延伸设置，所述驱动轴和/或所述握持杆的侧壁面沿其周向间隔设置有第一限位槽和第二限位槽；所述光强调节组件还包括限位结构，所述限位结构包括限位杆，所述限位杆可沿前后向活动地安装于所述安装筒的外侧壁；其中，在所述驱动轴和/或所述握持杆的转动行程中，所述限位杆具有运动至插装于所述第一限位槽的第一限位状态和运动至插装于所述第二限位槽的第二限位状态，在所述第一限位状态时，所述半透半反射镜处于所述反射位置，在所述第二限位状态时，所述半透半反射镜处于所述避让位置。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述限位结构还包括安装座，所述安装座包括沿前后向间隔设置的两个安装板，两个所述安装板均沿前后向贯设有插装孔；所述限位杆的下端依次穿过两个所述插装孔，所述限位杆上套装有弹簧，所述弹簧位于两个所述安装板之间，且所述弹簧的一端与两个所述安装板中的一个相连，另一个与所述限位杆相连。5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述安装筒包括相扣合设置的第一弧形板和第二弧形板，所述第一弧形板和所述第二弧形板之间设置有卡装结构，所述卡装结构包括沿上下向延伸设置的卡凸和与所述卡凸相适配的卡槽，所述卡凸和所述卡槽中，其中一者设于所述第一弧形板，另一者设于所述第二弧形板。6.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张明，
申请(专利权)人：无锡易晟半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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