一种具有反洗功能的过滤装置及涂胶设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及滤芯清洗技术领域，具体公开了一种具有反洗功能的过滤装置及涂胶设备。该装置包括过滤模块和反洗模块，过滤模块包括依次连通的过滤液供液组件、输出件和用于过滤从过滤液供液组件流向输出件的过滤液的滤芯；反洗模块包括反洗管道和清洗液回收组件，清洗液回收组件位于滤芯上游，且滤芯能够选择性地与过滤液供液组件或清洗液回收组件连通，反洗管道位于滤芯下游，且滤芯能够选择性地与输出件或反洗管道连通，反洗管道上安装有清洗液供液组件和废滤液回收组件，反洗管道能够选择性地与清洗液供液组件或废滤液回收组件连通。该装置通过设置反洗结构，能够清洗滤芯并将残留的清洗液排出，从而完成对滤芯的反洗操作，提升过滤效果。升过滤效果。升过滤效果。

【技术实现步骤摘要】
一种具有反洗功能的过滤装置及涂胶设备


[0001]本技术涉及滤芯清洗
，尤其涉及一种具有反洗功能的过滤装置及涂胶设备。

技术介绍

[0002]随着微电子制造的重要性愈发凸显，光刻工艺作为微电子制造的关键一环，技术不断地创新与发展，对光刻工艺的要求也随之升高。光刻工艺包括涂胶工艺、曝光工艺、显影工艺，涂胶工艺作为光刻工艺的基础，在产线中使用频率很高。其中，涂胶工艺作为半导体、手机、光伏和芯片等电子产品的重要制作环节，为本领域内的技术人员重点关注和研究。
[0003]如图1所示，半导体或面板工艺中的涂胶工艺需要使用囊式滤芯100
’
对光刻胶供液组件200
’
中的崭新光刻胶或二手回收胶进行过滤，然后再通过输出管道910
’
输送至接涂头或出胶口，光刻胶供液组件200
’
通过涂胶管道920
’
与囊式滤芯100
’
连通。二手回收胶主要是在旋涂胶工艺中产生的，电子产品加工的旋涂工艺中光刻胶利用率较低，此过程中浪费的光刻胶常作为二手回收胶进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有反洗功能的过滤装置，其特征在于，包括：过滤模块，包括依次连通的过滤液供液组件(200)、滤芯(100)和输出件，所述滤芯(100)用于过滤从所述过滤液供液组件(200)流向所述输出件的过滤液；反洗模块，包括反洗管道(930)和清洗液回收组件(400)，所述清洗液回收组件(400)位于所述滤芯(100)的上游，且所述滤芯(100)能够选择性地与所述过滤液供液组件(200)或所述清洗液回收组件(400)连通，所述反洗管道(930)位于所述滤芯(100)的下游，且所述滤芯(100)能够选择性地与所述输出件或所述反洗管道(930)连通，所述反洗管道(930)上安装有清洗液供液组件(300)和废滤液回收组件(500)，所述反洗管道(930)能够选择性地与所述清洗液供液组件(300)或所述废滤液回收组件(500)连通。2.根据权利要求1所述的具有反洗功能的过滤装置，其特征在于，所述具有反洗功能的过滤装置还包括第一驱动单元，所述第一驱动单元用于驱动所述过滤液供液组件(200)内的所述过滤液流出。3.根据权利要求1所述的具有反洗功能的过滤装置，其特征在于，所述具有反洗功能的过滤装置还包括第二驱动单元，所述第二驱动单元用于驱动所述清洗液供液组件(300)内的清洗液流出。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的具有反洗功能的过滤装置，其特征在于，所述具有反洗功能的过滤装置还包括第一三通阀(610)，所述第一三通阀(610)用于控制所述反洗管道(930)与所述清洗液供液组件(300)或所述废滤液回收组件(500)连通。5.根据权利要求4所述的具有反洗功能的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周志锋，杨宗苓，李勇，
申请(专利权)人：苏州清越光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：