一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种抗菌材料领域领域，尤其涉及一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料及其制备方法，共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体的合成：取单体1,2,4,5

【技术实现步骤摘要】
一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种抗菌材料领域领域，尤其涉及一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料及其制备方法。

技术介绍

[0002]由于具有改变细胞膜通透性、损伤DNA结构、降低脱氢酶活性等作用，银离子作为抗菌剂在织物、医疗器械、建材涂料、食品包装、净水处理、家电、日用品等方面得到了大量的应用。通过直接添加银离子或由银纳米粒子、银化合物释放银粒子，成为最常用的广谱和强效抗菌材料。然而，基于银离子的抗菌材料，随着银离子的析出其抗菌效果会显著下降，难以实现长期有效性。更为重要的是，纳米银能够穿过黏膜组织进入体内，银作为难以代谢的重金属，能够对细胞造成直接损伤，造成肝、肾毒性和免疫毒性，并能够跨越血睾和胎盘屏障、穿过血脑屏障，引起明显的生殖系统毒性、遗传毒性和中枢神经毒性。此外，释放到环境中的纳米银，对环境、生态系统等带来的影响也不容忽视。因此，专利技术人通过构筑具有共轭结构的二维酞菁框架，采用氮的配位作用制备单原子Ag中心，通过配体工程技术实现材料的多官能化。得到的化合物中Ag 被铆钉在框架内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料，其特征在于：具有式(1)结构：其中，中心为单原子Ag，R为H或者F、Cl、OH、CN、NH2基团中一种或两种及两种以上官能团。2.根据权利要求1所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：A、共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体的合成取单体1,2,4,5
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四氰基苯和Ag离子源的化合物摩尔比例1:0.25
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1:1.5，溶解于混合溶剂Ⅰ中混合均匀，加热至70℃反应15分钟后，再升温至180
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220℃搅拌反应1
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4小时，自然冷却至室温，溶液颜色变深至墨绿色或黑色，停止反应，除去溶剂后洗去未反应完全的单体，通过离心得到共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体；B、共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构功能化材料的合成将步骤A中得到的共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体与功能化配体以摩尔比例1:1
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1:2溶解于混合溶剂Ⅱ中混合均匀，加热至180
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220℃搅拌反应1
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4小时，自然冷却至室温后停止反应，除去溶剂后洗去未反应完全的单体，通过离心得到共轭酞菁框...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭鹏，
申请(专利权)人：王佳玉，
类型：发明
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