显示面板及其制备方法技术

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括阵列基板、黑色遮光层以及发光部，黑色遮光层设置于阵列基板上，黑色遮光层具有开孔，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性，发光结构设置于开孔中。通过采用设置有具有疏水性且黑色的黑色遮光层，可以对位于开孔中的发光部发出的光进行遮挡，从而避免子像素漏光，同时，因黑色遮光层具有疏水性，在采用喷墨打印方式形成发光部时，有机溶液不会残留在黑色遮光层上，而是在开孔中自动铺展开，从而在开孔中形成膜厚均匀且稳定的发光部。发光部。发光部。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法


[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种显示面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)为主动发光显示器件，具有自发光、广视角、高对比度、低耗电、极高反应速度、轻薄、可弯曲和成本低等优点。随着显示技术的不断发展，以OLED为发光结构层和由薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称TFT)进行信号控制的显示面板已成为目前显示领域的主流产品。
[0003]但是，经研究发现，现有OLED显示面板存在不同颜色子像素之间出现串色和漏光等问题，且采用喷墨打印形成发光结构层中的发光部，会导致发光部出现不良的问题，从而降低了显示品质。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种显示面板，以提高显示面板的显示效果。
[0005]本申请提供一种显示面板，包括：
[0006]阵列基板；
[0007]黑色遮光层，所述黑色遮光层设置于所述阵列基板上，所述黑色遮光层具有开孔，所述开孔贯穿所述黑色遮光层，所述黑色遮光层的材料具有疏水性；以及
[0008]发光结构，所述发光结构设置于所述开孔中，所述发光结构包括发光部。
[0009]可选的，在本申请的一些实施例中，所述黑色遮光层在波长为380
‑
780nm内的光透过率小于50％。
[0010]可选的，在本申请的一些实施例中，所述显示面板还包括彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底和色阻部，所述色阻部位于所述衬底靠近所述阵列基板的一面，所述色阻部设置于所述开孔中。
[0011]可选的，在本申请的一些实施例中，所述黑色遮光层在波长为380
‑
780nm内的光透过率小于20％。
[0012]可选的，在本申请的一些实施例中，所述黑色遮光层包括多个连接的黑色部，所述开孔开设于所述黑色部中，每一所述黑色部包括连接的第一分部和第二分部，所述第一分部位于所述第二分部靠近所述发光结构的一侧，所述第一分部的厚度小于所述第二分部的厚度。
[0013]可选的，在本申请的一些实施例中，所述显示面板还包括封装层，所述封装层覆盖所述黑色遮光层以及所述发光结构。
[0014]本申请还提供一种显示面板的制备方法，包括：
[0015]提供一阵列基板；
[0016]在所述阵列基板上设置黑色遮光层的材料，并进行图案化处理形成具有开孔的黑色遮光层，所述开孔贯穿所述黑色遮光层，所述黑色遮光层的材料具有疏水性；以及
[0017]采用喷墨打印方法在所述开孔中形成具有发光部的发光结构。
[0018]可选的，在本申请的一些实施例中，采用半色调掩膜工艺进行图案化处理形成所述具有开孔的黑色遮光层，所述黑色遮光层包括多个连接的黑色部，所述开孔开设于所述黑色部中，每一所述黑色部包括连接的第一分部和第二分部，所述第一分部位于所述第二分部靠近所述发光结构的一侧，所述第一分部的厚度小于所述第二分部的厚度。
[0019]可选的，在本申请的一些实施例中，在采用喷墨打印方法在所述开孔中形成具有发光部的发光结构之后，还包括：
[0020]在所述发光结构以及所述黑色遮光层远离所述阵列基板的一侧上形成彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底和色阻部，所述色阻部位于所述衬底靠近所述阵列基板的一面，所述色阻部形成于所述开孔内。
[0021]可选的，在本申请的一些实施例中，在采用喷墨打印方法在所述开孔中形成具有发光部的发光结构之后，在所述发光结构远离所述阵列基板的一侧上形成彩膜基板之前，还包括：
[0022]在所述发光结构以及所述黑色遮光层远离所述阵列基板的一侧上形成封装层。
[0023]本申请公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括阵列基板、黑色遮光层以及发光部，黑色遮光层设置于阵列基板上，黑色遮光层具有开孔，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性，发光结构设置于开孔中。在本申请中，采用具有疏水性的材料制备形成黑色的黑色遮光层，因黑色遮光层的黑色，可以避免子像素出现漏光的问题，同时，因黑色遮光层的疏水性，使得发光部采用喷墨打印方式形成时，发光部的溶液不会残留在黑色遮光层上，从而使得其在开孔中自动铺展开，从而在开孔中形成膜厚均匀且稳定的发光部。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1是本申请实施例提供的显示面板的第一种结构示意图。
[0026]图2是图1中的黑色部与发光结构的结构示意图。
[0027]图3是本申请实施例提供的显示面板的第二种结构示意图。
[0028]图4是本申请实施例提供的显示面板的制备方法的步骤流程图。
[0029]附图标记：
[0030]显示面板10；阵列基板100；基底110；遮光部115；缓冲层120；第一有源部125；第二有源部130；栅绝缘部135；栅极140；层间介质层145；源极150；漏极155；钝化层160；平坦层165；黑色遮光层200；开孔201(附图中补充)；黑色部210；第一分部211；第二分部212；发光结构300；第一电极310；空穴注入层320；空穴传输层330；发光部340；电子传输层350；第二电极360；彩膜基板400；衬底410；色阻部420。
具体实施方式
[0031]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。在本申请中，“反应”可以为化学反应或物理反应。
[0032]本申请公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括阵列基板、黑色遮光层、发光结构以及彩膜基板，黑色遮光层设置于阵列基板上，黑色遮光层具有开孔，开孔贯穿黑色遮光层，黑色遮光层的材料具有疏水性。
[0033]在本申请中，采用具有疏水性的材料制备形成黑色的黑色遮光层，因黑色遮光层的遮挡，可以避免相邻的不同颜色的子像素出现漏光的问题，同时，因黑色遮光层具有疏水性，使得发光结构中的发光部采用喷墨打印方式形成时，发光部的溶液不会残留在黑色遮光层上，从而使得发光部的溶液在开孔中自动铺展开，从而在开孔中形成膜厚均匀且稳定的发光部。
[0034]请参阅图1、图2和图3，本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板；黑色遮光层，所述黑色遮光层设置于所述阵列基板上，所述黑色遮光层具有开孔，所述开孔贯穿所述黑色遮光层，所述黑色遮光层的材料具有疏水性；以及发光结构，所述发光结构设置于所述开孔中。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色遮光层在波长为380
‑
780nm内的光透过率小于50％。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括彩膜基板，所述彩膜基板包括衬底和色阻部，所述色阻部位于所述衬底靠近所述阵列基板的一面，所述色阻部设置于所述开孔中。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述黑色遮光层在波长为380
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780nm内的光透过率小于20％。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色遮光层包括多个连接的黑色部，所述开孔开设于所述黑色部中，每一所述黑色部包括连接的第一分部和第二分部，所述第一分部位于所述第二分部靠近所述发光结构的一侧，所述第一分部的厚度小于所述第二分部的厚度。6.根据权利要求1
‑
5任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括封装层，所述封装层覆盖所述黑色遮光层以及所述发光结构。7.一种显示面板的制备方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：张良芬，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：