一种同轴光均匀度检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及同轴光源技术领域，具体为一种同轴光均匀度检测装置，包括装置箱，装置箱的侧壁贯穿设置有放置槽，放置槽的底部固定连接有放置板，放置板上放置有待检测同轴光源仪器；装置箱的底部内壁固定连接有隔板，隔板的顶端固定连接放置板的底面，隔板将装置箱内腔分为外腔与遮光腔，外腔位于放置板的下方，外腔内靠近底部固定连接有限位机构；装置箱顶壁贯穿设置有横槽，横槽内滑动设置有检测板，检测板上位于装置箱内的侧壁上设有检测布，检测板上位于装置箱外的一端固定连接有封闭装置，装置箱的侧壁上贯穿设置有观测筒。本实用新型专利技术结构设计合理，使用时固定待检测同轴光源仪器的位置，以减少外界环境光影响，使用方便。使用方便。使用方便。

【技术实现步骤摘要】
一种同轴光均匀度检测装置


[0001]本技术涉及同轴光源
，具体为一种同轴光均匀度检测装置。

技术介绍

[0002]同轴光源，提供了比传统光源更均匀的照明，同时避免物体的反光，因此提高了机器视觉的准确性和重现性。同轴光源能够凸显物体表面不平整，克服表面反光造成的干扰，主要用于检测物体平整光滑表面的碰伤、划伤、裂纹和异物。同轴光源搭配远心镜头的应用比较广泛，同时在一些光学模组中也应用较多，例如：DIC微分干涉对比显微镜、DVOM双目视觉模组、WSI白光扫描干涉系统等。
[0003]现有技术中，同轴光源在投入使用前，需要工作人员对其进行批次性的抽查，保证同轴光源的均匀性，避免出现瑕疵品，为了可以更方便地观察光源特性，我们提出了一种同轴光均匀度检测装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种同轴光均匀度检测装置，以解决上述
技术介绍
提出的技术问题。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种同轴光均匀度检测装置，包括装置箱，所述装置箱的侧壁贯穿设置有放置槽，所述放置槽的底部固定连接有放置板，所述放置板上放置有待检测同轴光源仪器；
[0007]所述装置箱的底部内壁固定连接有隔板，所述隔板的顶端固定连接所述放置板的底面，所述隔板将装置箱内腔分为外腔与遮光腔，所述外腔位于所述放置板的下方，所述外腔内靠近底部固定连接有限位机构；
[0008]所述装置箱顶壁贯穿设置有横槽，所述横槽内滑动设置有检测板，所述检测板上位于装置箱内的侧壁上设有检测布，所述检测板上位于装置箱外的一端固定连接有封闭装置，所述装置箱的侧壁上贯穿设置有观测筒。
[0009]作为进一步地改进，所述限位机构包括固定连接在外腔内底壁上的滑杆，所述滑杆的上端滑动连接有移动杆，所述滑杆套设有弹簧，所述弹簧的两端分别与移动杆和外腔底壁相抵，所述移动杆顶端固定连接有限位杆，所述放置板贯穿设置有限位槽，所述限位杆贯穿所述限位槽并延伸至放置板的上方；
[0010]所述装置箱的侧壁上贯穿设置有滑槽，所述滑槽内滑动连接有运动板，所述运动板一端与所述移动杆固定连接，另一端伸出所述滑槽。
[0011]作为进一步地改进，所述封闭装置包括固定连接在检测板顶端的顶板，所述顶板的下表面上固定连接有遮光棉，所述遮光棉成环形，所述遮光棉的位置与所述横槽的位置对应。
[0012]作为进一步地改进，所述装置箱的侧壁上贯穿设有观测筒，所述观测筒朝向检测布设置。
[0013]作为进一步地改进，所述遮光腔的内底部处设有卡槽，所述检测板的底端位于卡槽内。
[0014]由于采用上述技术方案，本技术的有益效果是：
[0015]本技术提供同轴光均匀度检测装置，设置限位机构与封闭装置，使用时将待检测同轴光源仪器放置在放置槽处的放置板上，通过限位杆的限位作用，将待检测同轴光源仪器顶在放置槽的槽顶部处以固定位置，此时就可以通过观测筒来直接观察检测布上投射光源的具体形态，可以直接分辨出光的均匀性，用以待检测同轴光源仪器的抽检，本装置结构简单，使用方便。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例的结构示意图；
[0017]图2为本技术实施例的剖视图；
[0018]图3为本技术实施例的检测板侧面剖视图；
[0019]图4为本技术实施例的顶板底面示意图；
[0020]图中：1装置箱、2运动板、3放置板、4待检测同轴光源仪器、5观测筒、6顶板、7把手、8弹簧、9滑杆、10移动杆、11限位杆、12隔板、13检测板、14遮光棉、15检测布。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0022]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0023]参照图1
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4，一种同轴光均匀度检测装置，包括装置箱1，装置箱1的侧壁贯穿设置有放置槽，放置槽的底部固定连接有放置板3，放置板3上放置有待检测同轴光源仪器4；
[0024]装置箱1的底部内壁固定连接有隔板12，隔板12的顶端固定连接放置板3的底面，隔板12将装置箱1内腔分为外腔与遮光腔，外腔位于放置板3的下方，外腔内靠近底部固定连接有限位机构；
[0025]装置箱1顶壁贯穿设置有横槽，横槽内滑动设置有检测板13，检测板13上位于装置箱内的侧壁上设有检测布15，检测板上位于装置箱外的一端固定连接有封闭装置，装置箱1的侧壁上贯穿设置有观测筒5。
[0026]本实施例中，限位机构包括固定连接在外腔内底壁上的滑杆9，滑杆9的上端滑动连接有移动杆10，滑杆9套设有弹簧8，弹簧8的两端分别与移动杆10和外腔底壁相抵；
[0027]移动杆10顶端固定连接有限位杆11，放置板3贯穿设置有限位槽，限位杆11贯穿限位槽并延伸至放置板3的上方，具体地，弹簧8初始处于不受力状态下，限位杆11的上端完全位于放置板3的上方；
[0028]装置箱1的侧壁上贯穿设置有滑槽，滑槽内滑动连接有运动板2，运动板一端与移
动杆10固定连接，另一端伸出滑槽。
[0029]本实施例中，封闭装置包括固定连接在检测板13顶端的顶板6，顶板6的下表面上固定连接有遮光棉14，遮光棉14成环形，遮光棉14的位置与横槽的位置对应，遮光棉14可以完全封堵横槽，阻挡外界的光线，避免外界光线进入装置箱内影响检测结果。
[0030]本实施例中，装置箱1的侧壁上贯穿设有观测筒5，观测筒5朝向检测布15设置，便于观测检测部上的光的均匀度效果。
[0031]本实施例中，遮光腔的内底部处设有卡槽，检测板13的底端位于卡槽内，使得检测板的位置稳固，不会随便移动而影响检测结果的准确性。
[0032]本实施例在具体使用时，将需要检测的待检测同轴光源仪器4放入到放置板3上，然后将待检测同轴光源仪器4推入到装置箱1内，此时再往下拉动运动板2，运动板2带动移动杆10在滑杆9上往下滑动，带动弹簧8收缩，此时限位杆11会从放置板3上的限位槽内脱出，此时继续往内推动待检测同轴光源仪器4，到达指定位置后，可以松开运动板2，弹簧8会因为自身弹力而复位，此时会带动移动杆10以及限位杆11回到原位，此时待检测同轴光源仪器4的下端被限位杆11的上端顶动，使其上端顶在放置槽的槽顶部，前上后下的接触抵动方式，让待检测同轴光源仪器4稳定的卡在放置槽的槽口处，此时通过正常手段打开待检测同轴光源仪器4即可开始进行光源的均匀度检测。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种同轴光均匀度检测装置，包括装置箱，其特征在于，所述装置箱的侧壁贯穿设置有放置槽，所述放置槽的底部固定连接有放置板，所述放置板上放置有待检测同轴光源仪器；所述装置箱的底部内壁固定连接有隔板，所述隔板的顶端固定连接所述放置板的底面，所述隔板将装置箱内腔分为外腔与遮光腔，所述外腔位于所述放置板的下方，所述外腔内靠近底部固定连接有限位机构；所述装置箱顶壁贯穿设置有横槽，所述横槽内滑动设置有检测板，所述检测板上位于装置箱内的侧壁上设有检测布，所述检测板上位于装置箱外的一端固定连接有封闭装置，所述装置箱的侧壁上贯穿设置有观测筒。2.根据权利要求1所述的同轴光均匀度检测装置，其特征在于，所述限位机构包括固定连接在外腔内底壁上的滑杆，所述滑杆的上端滑动连接有移动杆，所述滑杆套设有弹簧，所述弹簧的...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨全卿，
申请(专利权)人：山东菲涅尔光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：