一种流体运动中去除杂质的方法技术

本发明专利技术公开了一种流体运动中去除杂质的方法，包括相互连接的第一流体流通装置和第二流体流通装置，第二流体流通装置上自上而下安装有第一阀门和第二阀门。本发明专利技术的水流在第一流体流通装置，首先开启第一阀门，关闭第二阀门；水流中的杂质会慢慢沉淀入第二流体流通装置内；过一段时间之后，关闭第一阀门、开启第二阀门，排出杂质，通过设置两个阀门实现了在静置、与排除杂质的时候不影响罐体活管道内水流的目的，本方法结构简单，能够高效的除去流体中的杂质。中的杂质。中的杂质。

【技术实现步骤摘要】
一种流体运动中去除杂质的方法


[0001]本专利技术涉及除杂设备
，具体为一种流体运动中去除杂质的方法。
[0002]
技术介绍

[0003]流体（如液态的水、油）在流动时，同时也有杂质、漂浮物和液体一起流动。这些杂质，漂浮物是需要清除的，以往采用的是固定过滤网装置的方式进行过滤。但是它们有一个最大问题就是影响流速。在传统的流体流动过程中，内含的杂质在流动中无法被去除，例如水流中的杂质无法在流动中被去除，影响了后续的生产与应用。
[0004]
技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种流体运动中去除杂质的方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种流体运动中去除杂质的方法，包括相互连接的第一流体流通装置和第二流体流通装置，所述第二流体流通装置上自上而下安装有第一阀门和第二阀门；流体运动中去除杂质的方法具体包括如下步骤：S1：流体在第一流体流通装置内流通，第一阀门打开，第二阀门关闭，此时流体的杂质沉淀于第一阀门和第二阀门之间；S2：沉淀一定时间之后，关闭第一阀门，开启第二阀门，排出沉淀的杂质即可。
[0007]作为优选，所述第一流体流通装置和第二流体流通装置同轴连接。
[0008]作为优选，所述第一流体流通装置包括罐体或管道，所述第二流体流通装置为管道。
[0009]作为优选，所述第一流体流通装置的底部设置有呈漏斗装的漏斗底座。
[0010]作为优选，所述第二流体流通装置包括与所述第一流体流通装置底部固定连接的固定流通管，所述固定流通管的底部活动连接有活动流通管。
[0011]作为优选，所述固定流通管的底部内壁上安装有呈环形的限位环，所述活动流通管的外径与所述限位环的内径尺寸相适配且两者滑动配合，所述活动流通管的顶部安装有与所述固定流通管内壁滑动配合的滑动环。
[0012]作为优选，所述滑动环和限位环均采用硅胶或橡胶材质制成。
[0013]作为优选，所述第一阀门安装于固定流通管的顶部外壁上。
[0014]作为优选，所述第二阀门安装于活动流通管的底部外壁上。
[0015]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1、本流体运动中去除杂质的方法中，水流在第一流体流通装置，首先开启第一阀门，关闭第二阀门；水流中的杂质会慢慢沉淀入第二流体流通装置内；过一段时间之后，关
闭第一阀门、开启第二阀门，排出杂质，通过设置两个阀门实现了在静置、与排除杂质的时候不影响罐体活管道内水流的目的，本方法结构简单，能够高效的除去流体中的杂质。
[0016]2、本流体运动中去除杂质的方法中，通过设置的固定流通管和活动流通管，可以调整第一阀门和第二阀门之间的间距，从而可以根据流体中杂质的多少进行调整，使用方便，适合不同种类的流体进行沉淀。
[0017]附图说明
[0018]图1是本专利技术的结构示意图；图2是本专利技术的第二流体流通装置采用分段式的剖视结构示意图；图3是本专利技术第二流体流通装置采用分段式结构调节后剖视示意图；图4是本专利技术为管体时的剖视结构示意图；图5是本专利技术的流体流通装置采用漏斗底座的剖视结构示意图。
[0019]图中各标号的含义：10、第一流体流通装置；11、漏斗底座；20、第二流体流通装置；21、固定流通管；22、活动流通管；23、滑动环；24、限位环；30、第一阀门；40、第二阀门。
[0020]具体实施方式
[0021]下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0022]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0023]实施例1一种流体运动中去除杂质的方法，如图1所示，包括相互连接的第一流体流通装置10和第二流体流通装置20，第二流体流通装置20上自上而下安装有第一阀门30和第二阀门40；第一流体流通装置10为罐体，第二流体流通装置20为管道。
[0024]流体运动中去除杂质的方法具体包括如下步骤：S1：流体在第一流体流通装置10内流通，第一阀门30打开，第二阀门40关闭，此时流体的杂质沉淀于第一阀门30和第二阀门40之间；S2：沉淀一定时间之后，关闭第一阀门30，开启第二阀门40，排出沉淀的杂质即可。
[0025]第一流体流通装置10和第二流体流通装置20同轴连接。
[0026]本实施例中的流体过滤器在使用时，水流在第一流体流通装置10，首先开启第一阀门30，关闭第二阀门40；水流中的杂质会慢慢沉淀入第二流体流通装置20内；过一段时间之后，关闭第一阀门30、开启第二阀门40，排出杂质，通过设置两个阀门实现了在静置、与排除杂质的时候不影响罐体内水流的目的，本方法结构简单，能够高效的除去流体中的杂质。
[0027]实施例2作为本专利技术的第二种实施例，如图4所示，包括相互连接的第一流体流通装置10和第二流体流通装置20，第二流体流通装置20上自上而下安装有第一阀门30和第二阀门40；第一流体流通装置10为管道，第二流体流通装置20为管道。
[0028]流体运动中去除杂质的方法具体包括如下步骤：S1：流体在第一流体流通装置10内流通，第一阀门30打开，第二阀门40关闭，此时流体的杂质沉淀于第一阀门30和第二阀门40之间；S2：沉淀一定时间之后，关闭第一阀门30，开启第二阀门40，排出沉淀的杂质即可。
[0029]本实施例中的流体过滤器在使用时，水流在第一流体流通装置10，首先开启第一阀门30，关闭第二阀门40；水流中的杂质会慢慢沉淀入第二流体流通装置20内；过一段时间之后，关闭第一阀门30、开启第二阀门40，排出杂质，通过设置两个阀门实现了在静置、与排除杂质的时候不影响管道内水流的目的，本方法结构简单，能够高效的除去流体中的杂质。
[0030]实施例3作为本专利技术的第二种实施例，如图5所示，第一流体流通装置10的底部设置有呈漏斗装的漏斗底座11，防止流体中的杂质沉淀在第一流体流通装置10的底部。
[0031]实施例4作为本专利技术的第二种实施例，如图2和图3所示，第二流体流通装置20包括与第一流体流通装置10底部固定连接的固定流通管21，固定流通管21的底部活动连接有活动流通管22。
[0032]进一步的，固定流通管21的底部内壁上安装有呈环形的限位环24，活动流通管22的外径与限位环24的内径尺寸相适配且两者滑动配本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种流体运动中去除杂质的方法，其特征在于：包括相互连接的第一流体流通装置（10）和第二流体流通装置（20），所述第二流体流通装置（20）上自上而下安装有第一阀门（30）和第二阀门（40）；流体运动中去除杂质的方法具体包括如下步骤：S1：流体在第一流体流通装置（10）内流通，第一阀门（30）打开，第二阀门（40）关闭，此时流体的杂质沉淀于第一阀门（30）和第二阀门（40）之间；S2：沉淀一定时间之后，关闭第一阀门（30），开启第二阀门（40），排出沉淀的杂质即可。2.根据权利要求1所述的一种流体运动中去除杂质的方法，其特征在于：所述第一流体流通装置（10）和第二流体流通装置（20）同轴连接。3.根据权利要求1所述的一种流体运动中去除杂质的方法，其特征在于：所述第一流体流通装置（10）包括罐体或管道，所述第二流体流通装置（20）为管道。4.根据权利要求3所述的一种流体运动中去除杂质的方法，其特征在于：所述第一流体流通装置（10）的底部设置有呈漏斗装的漏斗底座（11）。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊建新，刘金勇，梁俊，
申请(专利权)人：江西江岳环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：