【技术实现步骤摘要】
原位注药影响半径试验系统
[0001]本技术涉及地下污染物处理
，尤其涉及一种原位注药影响半径试验系统。
技术介绍
[0002]原位化学氧化/还原技术是污染场地修复常用的技术之一，具有去除效率高、修复周期短、二次污染易控制，且同时可处理多种污染物，而不受污染物浓度限制等优势。原位注入井作为原位化学氧化/还原修复药剂投加方式的一种，广泛应用于污染土壤和地下水的原位修复。原位注入井注入方法是通过固定井向目标土壤和地下水污染区域注入药剂，使得药剂在地下扩散并与土壤、地下水中污染物接触，经化学氧化/还原作用，使土壤和地下水中污染物转化为无毒或对周边环境或人体毒性较小的物质。
[0003]由于土壤和地下水污染深度往往涵盖不同土层，且由于不同深度土层渗透性使得药剂的影响半径也存在差异，原位注入井修复设计中所经常采用的经验法设定药剂扩散半径，存在较大的盲目性。
[0004]为获得不同土层的较准确的药剂影响半径，现有技术中，利用现场试验来明确药剂在不同深度土层情况下的扩散半径，避免在修复实施过程中存在局部反应，以提高修...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种原位注药影响半径试验系统，其特征在于，包括：注入井，其深度大于所需监测的最低土层的深度；监测井，其位于所述注入井的外围，且具有与所述注入井一致的深度；注药部件，其包括伸入至所述注入井中的注药管、连接至所述注药管的下端的花管、分别装设于所述花管的上端和下端的上阻隔器和下阻隔器，所述上阻隔器与所述下阻器限定出注药层以使得药液向所述注药层所对应的土层扩散；供药机构，其与所述注药管的上端连接以用于为所述注药管提供药液；药液检测器，其伸入至所述监测井中并与所述注药层的深度一致，所述药液检测器用于监测药液对所述注药层所在土层的影响半径。2.根据权利要求1所述的原位注药影响半径试验系统，其特征在于，所述上阻隔器和所述下阻隔器均包括盘状主体以及位于所述盘状主体的外围的环形中空胶圈；所述原位注药影响半径试验系统还包括供气机构，所述供气机构用于使所述环形中空胶圈充放气；当需要调整注药深度时，使环形中空胶圈放气，以使得所述注药管带动所述花管升降；当需要对调整后所对应的土层注药时，所述供气机构对环形中空胶圈充气，环形中空胶圈膨胀而使得所述上阻隔器和所述下阻隔器与所述注入井密封和定位。3.根据权利要求1所述的原位注药影响半径试验系统，其特征在于，所述注入井以及所述监测井的井壁均自下而上依次构建滤料层、止水层和回填层，且所述注入井的滤料层、止水层以及回填层与所述监测井的滤料层、止水层以及回填层的层高一...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪宇鹏，王开丽，朱煜，徐伟，魏晓飞，高耘飞，
申请(专利权)人：上海申环环境工程有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。