一种高平整度的瓷砖及其生产工艺制造技术

本申请涉及建筑材料技术领域，具体公开了一种高平整度的瓷砖及其生产工艺。一种高平整度的瓷砖，包括坯体、底釉层、面釉层，其特征在于：所述面釉层包括以下重量份原料：钾长石25

【技术实现步骤摘要】
一种高平整度的瓷砖及其生产工艺


[0001]本申请涉及建筑材料
，更具体地说，它涉及一种高平整度的瓷砖及其生产工艺。

技术介绍

[0002]瓷砖，是以耐火的金属氧化物及半金属氧化物，经由研磨、混合、压制、施釉、烧结等过程，而形成的一种耐酸碱的瓷质或石质的建筑或装饰材料。按照品种分可以分为抛光砖、仿古砖、瓷片、全抛釉、抛晶砖、微晶石、劈开砖、广场砖等。
[0003]全抛釉陶瓷砖是传统抛光砖在表层施釉后抛光的产物，与传统抛光砖相比，全抛釉陶瓷砖产品不仅具有良好的抗污性，而且在花色上更为丰富，瓷砖高温烧制后，具有花纹色彩鲜艳，花色品种多样，纹理自然等特点。自从2010年喷墨印刷技术和镜面全抛工艺在建筑陶瓷生产中广泛使用后，全抛釉陶瓷砖的性能得到完美升级，产品集合了抛光砖、仿古砖、瓷片三种产品的优势，具备了抛光砖的光泽度、瓷质硬度，同时也拥有仿古砖的釉面高仿效果，以及瓷片釉面丰富的视觉效果。
[0004]针对上述相关技术，申请人发现全抛釉陶瓷砖存在表面平整度欠佳的问题。

技术实现思路

[0005]为了提高瓷砖表面平整度，本申请提供一种高平整度的瓷砖及其生产工艺。
[0006]第一方面，本申请提供一种高平整度的瓷砖，采用如下的技术方案：一种高平整度的瓷砖，包括坯体、底釉层、面釉层，其特征在于：所述面釉层包括以下重量份原料：钾长石25
‑
27份、石英1
‑
3份、石灰石2
‑
4份、烧滑石5
‑
7份、氧化锌6
>‑
8份、氧化铝6
‑
8份、硅灰石10
‑
12份、高岭土17
‑
19份；所述面釉层的化学组成为：SiO
2 46.2
‑
48.9wt％、Al2O
3 19.4
‑
22.3wt％、CaO+MgO9.9
‑
11.7wt％、K2O+Na2O6.5
‑
7.0wt％。
[0007]通过采用上述技术方案，通过原料调节对面釉层中的成分进行调节，其中，SiO2是生成玻璃质的主要成分，调整面釉层釉料中石英含量，减少面釉的热膨胀系数，K2O、Na2O、CaO、MgO起着熔剂的作用，K2O、Na2O、CaO、MgO的含量配比，避免在高温时，釉料粘度过大，提高高温时釉料的流动性，SiO2、K2O、Na2O、CaO、MgO之间相协同，保证面釉层的成型条件，降低面釉层成型时发生釉料堆积等现象，有利于提高面釉层成型后的光泽度与平整度。Al2O3是形成釉的网络中间体，既能与SiO2结合，也能与K2O、Na2O、CaO、MgO等碱性氧化物结合，调整各成分之间的配比，可以提高面釉层的化学稳定性、表面硬度和平整度。
[0008]优选的，所述氧化锌以纳米Ag/ZnO复合粉料的形式添加。
[0009]通过采用上述技术方案，纳米Ag/ZnO复合粉料的加入，可以对面釉层的烧结起到明显促进作用，提高面釉层的致密性；降低钾长石和石英晶相的转化温度，促进锌尖晶石在较低温生成，有利于降低面釉层的烧结温度，提高面釉层质量；另外，纳米Ag/ZnO复合粉体中由于银的掺杂及材料的纳米级尺寸能够更显著提高釉面性能，有效避免釉面的针孔缺
陷，使得高温制备的釉面陶瓷釉层气泡少且小，促进釉面平滑光润，提高釉面平整度。
[0010]优选的，所述纳米Ag/ZnO复合粉料的制备方法为：以七水硫酸锌和硝酸银配制混合溶液，边搅拌边加入草酸溶液，搅拌后静置陈化、抽滤、洗涤、干燥、焙烧得到纳米Ag/ZnO复合粉料，其中银/锌离子浓度摩尔比1：(15
‑
25)。
[0011]优选的，所述银/锌离子浓度摩尔比1：20。
[0012]通过采用上述技术方案，对银/锌离子浓度摩尔比进行限定调节，从而对纳米Ag/ZnO复合粉料中Ag与ZnO的的比例，调整Ag与ZnO在面釉层中的配比，充分发挥Ag对ZnO协效作用，进一步有效避免釉面的针孔缺陷，使得高温制备的釉面陶瓷釉层气泡少且小，促进釉面平滑光润，提高釉面平整度。
[0013]优选的，所述底釉层包括以下重量份原料：所述底釉层包括以下重量份原料：钠长石25
‑
30份、石英9
‑
15份、石灰石5
‑
8份、烧滑石7
‑
10份、氧化锌3
‑
5份、氧化铝6
‑
9份、硅灰石5
‑
8份、高岭土10
‑
15份。
[0014]通过采用上述技术方案，对底釉与面釉的原料配比进行调节，使得底釉的化学组成应与面釉的化学组成既相近，但又要保持适当的差别，这样，釉与坯体在高温下相互作用，使釉中的组分，特别是碱性氧化物和坯体充分反应而渗入坯体，同时也促进坯体中的成分进入釉层，形成坯釉结合层，提高瓷砖的表面平整度。
[0015]优选的，所述面釉层的厚度为0.6
‑
0.7mm，所述底釉层的厚度为0.4
‑
0.5mm。
[0016]坯体与釉层之间存在一定的膨胀系数差，釉层的厚度不同时，坯、釉之间产生的应力也发生变化，可能会造成瓷砖表面平整度较差。通过采用上述技术方案，对底釉层的厚度与面釉层的厚度进行调节限定，降低底釉层与坯体之间、底釉层与面釉层之间产生膨胀差异，保证烧结成型后瓷砖的平整度。
[0017]优选的，所述坯体包括以下重量份原料：水洗泥30
‑
40份、高岭土40
‑
50份、石英25
‑
35份、高铝粉8
‑
10份、钾长石20
‑
30份、钠长石20
‑
30份、聚丙烯酸钠0.3
‑
0.5份、硅酸钠0.1
‑
0.3份。
[0018]通过采用上述技术方案，对坯体原料进行限定，与底釉层进行配合，降低坯体与底釉层之间的膨胀系数差，有利于提高烧结成型后瓷砖的平整度。聚丙烯酸钠与硅酸钠配合，有助于提高坯体粉料的分散性，使得粉料在填充时更加均匀，降低在烧成过程中，由于砖坯各部分致密度不同，而产生不同程度的收缩，使素坯产生不规则变形，从而引起釉烧产品的不规则变形的几率，有利于提高瓷砖的平整度。
[0019]优选的，所述坯体还包括10
‑
15重量份废瓷粉。
[0020]通过采用上述技术方案，在坯体中添加废瓷粉，使坯体的膨胀系数与底釉层更为接近，并且，废瓷粉还能加速水分的排除，提高坯体与底釉层的结合力，从而降低形变的发生，保证烧结成型后瓷砖的平整度。
[0021]第二方面，本申请提供一种高平整度的瓷砖的生产工艺，采用如下的技术方案：一种高平整度的瓷砖的生产工艺，包括以下步骤：S1.备料：将坯体原料、底釉层原料、面釉层原料分别进行混合、球磨备用；S2.坯体制备：将S1球磨后的胚体原料进行压制成型，得到坯体；S3本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高平整度的瓷砖，包括坯体、底釉层、面釉层，其特征在于：所述面釉层包括以下重量份原料：钾长石25
‑
27份、石英1
‑
3份、石灰石2
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4份、烧滑石5
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7份、氧化锌6
‑
8份、氧化铝6
‑
8份、硅灰石10
‑
12份、高岭土17
‑
19份；所述面釉层的化学组成为：SiO2 46.2
‑
48.9wt%、Al2O3 19.4
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22.3wt%、CaO+MgO9.9
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11.7wt%、K2O+Na2O6.5
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7.0wt%。2.根据权利要求1所述的一种高平整度的瓷砖，其特征在于：所述氧化锌以纳米Ag/ZnO复合粉料的形式添加。3.根据权利要求2所述的一种高平整度的瓷砖，其特征在于：所述纳米Ag/ZnO复合粉料的制备方法为：以七水硫酸锌和硝酸银配制混合溶液，边搅拌边加入草酸溶液，搅拌后静置陈化、抽滤、洗涤、干燥、焙烧得到纳米 Ag/ZnO复合粉料，其中银/锌离子浓度摩尔比1：（15
‑
25）。4.根据权利要求2所述的一种高平整度的瓷砖，其特征在于：所述银/锌离子浓度摩尔比1：20。5.根据权利要求1所述的一种高平整度的瓷砖，其特征在于：所述底釉层包括以下重量份原料：钠长石25
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30份、石英9
‑
15份、石灰石5
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8份、烧滑石7
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10份、氧化锌3
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5份、氧化铝6
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9份、硅灰石5
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8份、高岭土10
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15...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖翔，耿志清，耿进利，耿志强，贾彦锋，
申请(专利权)人：河北浩锐陶瓷制品有限公司，
类型：发明
国别省市：