一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件制造技术

本实用新型专利技术公开一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件，包括喷嘴本体，在所述喷嘴本体中形成具有进流口和出流口的流道，所述喷嘴本体包括上部和下部，在所述进流口的外沿四周设置一圈凹缘，在所述流道的端部的中间位置挖空形成出流口，在所述喷嘴本体的上部表面的中间开设凹槽，所述凹槽位于所述喷嘴本体的上部，所述出流口外沿位于所述喷嘴本体的凹槽底部的中间。本实用新型专利技术可有效避免现有的喷嘴结构在加工过程中易损坏、难成型、成本高等情况发生，且能实现良好均匀的喷砂效果，提高喷砂良率，韧性强，减少微裂纹的出现，同时又能达到延长使用寿命，提高生产效率的目的。提高生产效率的目的。提高生产效率的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件


[0001]本技术涉及陶瓷盖板加工领域，尤其涉及一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件。

技术介绍

[0002]随着国内众多企业对消费电子产品的布局，在消费者拥有数量最大的移动终端设备——手机产品上的竞争日益激烈。现有的手机盖板不仅要满足消费者对其质感、手感的需求，还要提升其外在美感感。当前较受欢迎的手机盖板为防眩工艺同蒙砂工艺结合，再搭配装饰膜片，由于新颖独特的外在效果，而成为满足消费者观感、质感和手感的新工艺。
[0003]在蒙砂工艺加工过程中，由于湿喷砂处理具有喷砂均匀、环保、生产成本低、产品不良率较低等优势，而被广泛应用。湿喷砂处理是以砂水泵为动力, 砂和水的混合物以一定的压力通过喷盘和喷嘴高速喷物件表面, 可用于表面强化、表面清洗、表面喷涂、表面改性、喷磨料切割、水射流切割等工作, 还可用于高精度、复杂零件的光饰加工。因为砂粒进入喷嘴的过程中，由于运动方向的改变会与喷嘴内壁发生碰撞; 因粒子入射速度较大，会与喷嘴内壁发生多次的碰撞。固体颗粒与壁面的碰撞不属于完全弹性碰撞，碰撞过程中存在能量损失。碰撞后的粒子运动速度必定小于碰撞前粒子的速度。碰撞次数越多，粒子能量损耗越大，导致喷嘴内壁的冲蚀磨损越严重。同时，还有不同硬度的磨料种类、冲蚀角、冲蚀压力及速度、喷嘴材质及其结构等成为影响喷嘴内壁磨损重要因素。由此，喷嘴成为喷砂机设备中经常需要更换的零件之一。
[0004]一般认为，现有技术的喷嘴结构为直喷口设计，且其内表面因磨损而产生的宏观体积损失是由单个砂粒冲击所造成的材料微观体积损失累积形成。砂粒对喷嘴内表面的冲蚀磨损主要包括微切削磨损、疲劳磨损、脆性断裂磨损三种形式。三种磨损形式虽然同时发生但由于喷嘴材料的特性、砂粒的特性不同导致冲击后的应力状态不同，三种磨损形式所占的比例是不同的。
[0005]本技术主要针对上述问题提供一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件。

技术实现思路

[0006]本技术目的在于提供一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件，可有效避免现有的喷嘴结构在加工过程中易损坏、难成型、成本高等情况发生，且能实现良好均匀的喷砂效果，提高喷砂良率，韧性强，减少微裂纹的出现，同时又能达到延长使用寿命，提高生产效率的目的。
[0007]为实现上述目的，本技术提供一种喷嘴结构，包括喷嘴本体，在所述喷嘴本体中形成具有进流口和出流口的流道，所述喷嘴本体包括上部和下部，在所述进流口的外沿四周设置一圈凹缘，在所述流道的端部的中间位置挖空形成出流口，在所述喷嘴本体的上部表面的中间开设凹槽，所述凹槽位于所述喷嘴本体的上部，所述出流口外沿位于所述喷嘴本体的凹槽底部的中间。
[0008]进一步地，所述凹缘在所述进流口的四周内陷形成。
[0009]进一步地，所述出流口的形状在所述流道内呈现为椭圆形。
[0010]进一步地，所述出流口的形状在所述流道内呈现为两侧平行的长环形。
[0011]进一步地，所述凹槽分为上端和下端，所述下端为V形结构，所述V形结构的V字形夹角为55
‑
60度；所述上端为平行结构。
[0012]进一步地，所述出流口外沿在所述喷嘴本体的上表面为V形。
[0013]进一步地，所述凹槽的深度≤所述喷嘴本体上部的厚度。
[0014]进一步地，所述上部的直径小于所述下部的直径。
[0015]本技术还提供一种嵌套件，包括如上所述的喷嘴结构，还包括外嵌件，所述外嵌件背面的外圈结构上对称设置卡扣件以及环状结构，所述环状结构设置用于安装密封垫圈的平台、通孔以及用于卡住所述密封垫圈的齿圈结构，在所述外嵌件的正面位于所述通孔的两侧设置挡条，防止所述喷嘴在作业过程中滑落。
[0016]进一步地，所述喷嘴结构嵌接安装于所述通孔内。
[0017]相对于现有技术，本申请具有以下有益效果：本技术的一种喷嘴结构、具有该喷嘴结构的嵌套件及其应用，可有效避免现有的喷嘴结构在加工过程中易损坏、难成型、成本高等情况发生，且能实现良好均匀的喷砂效果，提高喷砂良率，韧性强，减少微裂纹的出现，同时又能达到延长使用寿命，提高生产效率的目的。
附图说明
[0018]图1为本技术的一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件的喷嘴整体结构示意图；
[0019]图2为本技术的一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件的喷嘴结构俯视图；
[0020]图3为本技术的一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件的喷嘴结构剖面图；
[0021]图4为本技术的一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件的喷嘴结构与外嵌件套装配后俯视图；
[0022]图5为本技术的一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件的喷嘴结构与外嵌件装配后正视图；
[0023]图6为本技术的一种喷嘴结构以及包括该喷嘴结构的嵌套件的现有技术示意图；
[0024]图中各附图标记如下所示：
[0025]1、喷嘴本体；2、凹槽；3、流道；4、端部；5、凹缘；6、出流口外沿；7、凹槽底部；8、出流口；9、外嵌件；10、外嵌件凹槽；11、卡扣件；12、齿圈结构；13、进流口。
具体实施方式
[0026]为了更清晰地说明本技术的结构特征以及所达成的技术效果，下面将结合较佳的实施例及附图配合进行详细介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，根据这些附图获得的对本技术方案的延伸仍然在本申请保护范
围之内。
[0027]实施例1
[0028]如图1、图2和图3所示，本技术提供一种喷嘴结构，包括喷嘴本体1，在所述喷嘴本体1中形成具有进流口13和出流口8的流道3，所述喷嘴本体1包括上部和下部，所述上部的直径小于所述下部的直径,在所述进流口13的外沿四周设置一圈凹缘5，在所述流道3的端部的中间位置挖空形成出流口8，在所述喷嘴本体1的上部表面的中间开设凹槽2，所述凹槽2位于所述喷嘴本体1的上部，所述出流口8外沿位于所述喷嘴本体1的凹槽底部7的中间。
[0029]上述凹缘5在所述进流口的四周内陷形成，宽度为0.5mm。
[0030]上述出流口的形状在所述流道内呈现为椭圆形。
[0031]在所述喷嘴本体1的上部表面的中间开设凹槽2，凹槽2分为上端和下端，所述下端为V形结构，所述V形结构的V字形夹角为55度；所述上端为平行结构。凹槽的深度为小于喷嘴本体上部的厚度，上述凹槽的深度为3mm。
[0032]如图4和图5所示，本技术还提供一种嵌套件，包括如上所述的喷嘴结构，还包括外嵌件9，所述外嵌件9背面的外圈结构上对称设置卡扣件11以及环状结构，所述环状结构设置用于安装密封垫圈的平台、通孔以及用于卡住所述密封垫圈的齿圈结构12，在所述外嵌件9的正面位于所述通孔的两侧设置挡条，防止所述喷嘴在作业过程中滑落。所述喷嘴结构嵌接安装于所述通孔内。
[0033]实施例2...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴结构，包括喷嘴本体，其特征在于，在所述喷嘴本体中形成具有进流口和出流口的流道，所述喷嘴本体包括上部和下部，在所述进流口的外沿四周设置一圈凹缘，在所述流道的端部的中间位置挖空形成出流口，在所述喷嘴本体的上部表面的中间开设凹槽，所述凹槽位于所述喷嘴本体的上部，所述出流口外沿位于所述喷嘴本体的凹槽底部的中间。2.根据权利要求1所述的喷嘴结构，其特征在于，所述凹缘在所述进流口的四周内陷形成。3.根据权利要求1所述的喷嘴结构，其特征在于，所述出流口的形状在所述流道内呈现为椭圆形。4.根据权利要求1所述的喷嘴结构，其特征在于，所述出流口的形状在所述流道内呈现为两侧平行的长环形。5.根据权利要求1所述的喷嘴结构，其特征在于，所述凹槽分为上端和下端，所述下端为V形结构，所述V形结构的V字形夹角为5...

【专利技术属性】
技术研发人员：左后松，吕君南，黄伊震，朱晨红，王俊，谢旺甫，詹欢，吴兵，潘正科，
申请(专利权)人：伯恩光学惠州有限公司，
类型：新型
国别省市：