基材片的处理方法、改性基材片的制造方法、带接枝聚合链的基材以及离子交换膜技术

本发明专利技术涉及基材片的处理方法、改性基材片的制造方法、带接枝聚合链的基材以及离子交换膜。提供一种基材片的处理方法，其中，使卷绕于第1芯的基材片和卷绕于第2芯的多孔体片分别卷出并重叠地卷绕于第3芯，使保持于所述多孔体片的、所述基材片的处理液向所述基材片供给，使重叠地卷绕于所述第3芯的所述基材片和所述多孔体片卷出，使所述多孔体片卷绕于所述第2芯且使所述基材片卷绕于所述第1芯。第2芯且使所述基材片卷绕于所述第1芯。第2芯且使所述基材片卷绕于所述第1芯。

【技术实现步骤摘要】
基材片的处理方法、改性基材片的制造方法、带接枝聚合链的基材以及离子交换膜
[0001]本申请是申请日为2017年8月9日、申请号为201780048537.7、专利技术名称为“基材片的处理方法、改性基材片的制造方法、带接枝聚合链的基材以及离子交换膜”的申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及基材片的处理方法和改性基材片的制造方法。

技术介绍

[0003]在专利文献1所记载的放射线接枝聚合方法中，使照射了放射线的基材与支承材料叠合，并使其浸渍于单体液，由此，至少使支承材料保持单体液，自支承材料向基材供给单体。基材和支承材料安装于不同的送出辊，并从各自的送出辊以恒定速度送出且在中途进行叠合，浸渍于浸渍槽中的单体液。自单体液拉起的基材和支承材料利用卷绕辊被一起卷绕。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2000－53788号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]研究如下一种方法：使卷绕于第1芯的基材片和卷绕于第2芯的多孔体片分别卷出并重叠地卷绕于第3芯，利用保持于多孔体片的处理液来处理基材片。
[0009]在该基材片的处理方法中，由于使用辊对辊技术，因此能够连续且大量地处理基材片。另外，由于多孔体片作为保持处理液的保持层发挥功能，因此能够减少处理不均且提高处理液的使用效率，从而能够削减处理液的使用量。
[0010]然而，随着基材片的处理逐渐地推进，存在基材片的尺寸逐渐变化的情况。若基材片在卷绕于第3芯的状态下伸长或收缩，则存在产生应变、折入或褶皱的情况。
[0011]本专利技术是鉴于上述课题而做出的，其主要的目的在于，提供一种基材片的处理方法，该基材片的处理方法抑制了基材片的尺寸变化所导致的不良。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]为了解决上述课题，采用本专利技术的一个技术方案，提供一种基材片的处理方法，其中，
[0014]使卷绕于第1芯的基材片和卷绕于第2芯的多孔体片分别卷出并重叠地卷绕于第3芯，利用保持于所述多孔体片的处理液来处理所述基材片，
[0015]使重叠地卷绕于所述第3芯的所述基材片和所述多孔体片卷出，使所述多孔体片卷绕于所述第2芯且使所述基材片卷绕于所述第1芯。
[0016]专利技术的效果
[0017]采用本专利技术的一个技术方案，提供一种基材片的处理方法，该基材片的处理方法抑制了基材片的尺寸变化所导致的不良。
附图说明
[0018]图1是表示一个实施方式的基材片的处理方法的流程图。
[0019]图2是表示一个实施方式的第1芯、第2芯以及第3芯的安装完成时的、处理装置的状态的图。
[0020]图3是接着图2继续表示处理装置的状态的图，是表示第4芯的安装完成时的、处理装置的状态的图。
[0021]图4是接着图3继续表示处理装置的状态的图，是表示基材片向第1芯的卷绕完成时的、处理装置的状态的图。
[0022]图5是图4的V－V线剖视图。
[0023]图6是接着图4继续表示处理装置的状态的图，是表示基材片向第3芯的卷绕完成时的、处理装置的状态的图。
[0024]图7是图6的VII－VII线剖视图。
[0025]图8是表示一个实施方式的处理装置的框图。
[0026]附图标记说明
[0027]10 基材片
[0028]11 第1多孔体片
[0029]12 第2多孔体片
[0030]21 第1芯
[0031]22 第2芯
[0032]23 第3芯
[0033]24 第4芯
[0034]30 处理装置
[0035]33 拉幅辊
[0036]41 第1处理液
[0037]42 第2处理液
具体实施方式
[0038]以下，参照附图来说明本专利技术的实施方式。在各附图中，对于相同或对应的结构标注相同或对应的附图标记，并省略说明。
[0039](基材片的处理方法)
[0040]图1是表示一个实施方式的基材片的处理方法的流程图。另外，基材片的处理方法未限定于图1所示的方法。例如，基材片的处理方法也可以仅具有图1所示的多个步骤中的一部分的步骤。另外，图1所示的多个步骤的顺序并未特别限定。
[0041]首先，在图1所示的步骤S11中，将第1芯21～第4芯24安装于处理装置30。参照图2和图3来说明步骤S11。在图2、图3中，剖切地示出第1储存槽31、第2储存槽32。在图4、图6中
是同样的。
[0042]图2是表示一个实施方式的第1芯、第2芯以及第3芯的安装完成时的、处理装置的状态的图。
[0043]第1芯21装卸自如地设于处理装置30，第1芯21在安装于处理装置30之前已卷绕有基材片10。在安装第1芯21之后，基材片10的长度方向一端部连结于第3芯23。
[0044]基材片10在本实施方式中是致密的片，但也可以是多孔质的片。作为多孔质的片，能够使用例如网状物、织布、无纺布等。基材片10的材料能够根据基材片10的处理内容而适当选择。
[0045]第2芯22装卸自如地设于处理装置30，第2芯22在安装于处理装置30之前已卷绕有第1多孔体片11。在安装第2芯22之后，第1多孔体片11的长度方向一端部连结于第3芯23。
[0046]第1多孔体片11保持第1处理液41(参照图4、图6)。作为第1多孔体片11，能够使用例如网状物、织布、无纺布等。第1多孔体片11的材料既可以为与基材片10的材料相同的材料，也可以为与基材片10的材料不同的材料。第1多孔体片11的材料能够根据处理内容而适当选择。
[0047]之后，处理装置30将卷绕于第1芯21的基材片10和卷绕于第2芯22的第1多孔体片11卷出，并如图3所示那样将基材片10和第1多孔体片11重叠地卷绕于第3芯23。
[0048]图3是接着图2继续表示处理装置的状态的图，是表示第4芯的安装完成时的、处理装置的状态的图。
[0049]第4芯24装卸自如地设于处理装置30，第4芯24在安装于处理装置30之前已卷绕有第2多孔体片12。在安装第4芯24之后，第2多孔体片12的长度方向一端部连结于第1芯21。
[0050]第2多孔体片12保持第2处理液42(参照图4、图6)。作为第2多孔体片12，能够使用与第1多孔体片11相同的片。
[0051]在图1所示的步骤S12中，向处理装置30的内部持续导入氮气等非活性气体，将处理装置30的内部的空气向外部挤出。由此，向处理装置30的内部填充非活性气体。
[0052]之后，处理装置30将卷绕于第3芯23的基材片10和卷绕于第4芯24的第2多孔体片12卷出，并如图4所示那样将基材片10和第2多孔体片12重叠地卷绕于第1芯21。
[0053]在图1所示的步骤S13中，对作为第1处理液41和第2处理液42的改性处理液进行储本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带接枝聚合链的基材，其中，该带接枝聚合链的基材的宽度为0.8m以上，长度为1m以上，厚度为30μm～200μm，接枝聚合率的最大值为所述接枝聚合率的平均值的115％以下，所述接枝聚合率的最小值为所述接枝聚合率的平均值的85％以上。2.一种离子交换膜，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：奥屋珠生，田柳顺一，
申请(专利权)人：AGC工程株式会社，
类型：发明
国别省市：