钙钛矿薄膜制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种钙钛矿薄膜制备装置，该制备装置包括基台、涂布机构及抽真空机构。基台具有以放置基底的放置工位；涂布机构具有用于对基底进行涂布处理的涂布刀头，以及驱使涂布刀头移动的第一驱动部；抽真空机构具有滑动设于基台上的真空罩体，与真空罩体相连的用于抽真空的抽气部，以及驱使真空罩体沿靠近或远离放置工位的方向滑移的第二驱动部，且真空罩体沿基台高度方向升降设置。本实用新型专利技术的钙钛矿薄膜制备装置，以可提高作业效率，缩短钙钛矿薄膜的工艺制程。短钙钛矿薄膜的工艺制程。短钙钛矿薄膜的工艺制程。

【技术实现步骤摘要】
钙钛矿薄膜制备装置


[0001]本技术涉及钙钛矿薄膜制备
，特别涉及一种钙钛矿薄膜制备装置。

技术介绍

[0002]近年来，钙钛矿太阳能电池技术正在飞速发展，钙钛矿太阳能电池技术是具有钙钛矿晶体结构的有机
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无机卤化物为吸光层的新型薄膜太阳能电池。其工艺制程主要是使用旋涂法滴加反溶剂或者使用两步旋涂法制备电池。
[0003]目前现有的钙钛矿太阳能电池工艺制程为：1、先进行钙钛矿溶液涂布处理，主要使用狭缝挤出式涂布或刮刀涂布等方式；2、在进行涂布后的结晶处理，主要使用吹气法或抽真空法等方式，以去除溶剂达到钙钛矿结晶。
[0004]但是该工艺制程需要通过输送线传送至每个设备进行作业，易造成钙钛矿湿膜受到移动过程中的一些因数的影响，例如移动受力薄膜流动变形，移动过程中粉尘的影响等。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本技术旨在提出一种钙钛矿薄膜制备装置，以可提高钙钛矿薄膜结晶质量及作业效率。
[0006]为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：
[0007]一种钙钛矿薄膜制备装置，包括基台，具有以放置基底的放置工位；涂布机构，具有用于对所述基底进行涂布处理的涂布刀头，以及驱使所述涂布刀头移动的第一驱动部；
[0008]抽真空机构，具有滑动设于所述基台上的真空罩体，与所述真空罩体相连的用于抽真空的抽气部，以及驱使所述真空罩体沿靠近或远离所述放置工位的方向滑移的第二驱动部，且所述真空罩体沿所述基台高度方向升降设置。
[0009]进一步的，所述基台上设有设于所述放置工位上的用于吸附所述基底的吸附部，所述吸附部与外部负压吸附设备相连。
[0010]进一步的，所述吸附部包括设于所述放置工位上的间隔布置的多个吸附孔。
[0011]进一步的，所述吸附孔与所述负压吸附设备通过设于所述基台上的吸附管道相连。
[0012]进一步的，所述基台上设有用于连通各所述吸附管道的连通管道，各所述吸附管道与所述负压吸附设备通过所述连通管道相连，且所述连通管道上设有用于控制所述连通管道启闭的阀门。
[0013]进一步的，所述基台上设有沿所述真空罩体的滑移路径布置的滑轨，所述真空罩体滑动设于所述滑轨上。
[0014]进一步的，所述真空罩体通过滑动座设于所述滑轨上；所述真空罩体和所述滑动座之间设有升降部，以驱使所述真空罩体升降。
[0015]进一步的，所述升降部具有转动设于所述滑动座上的升降螺杆，以及驱使所述升降螺杆转动的第三驱动部，所述升降螺杆沿所述基台高度方向布置，且所述升降螺杆与所
述真空罩体螺纹传动相连；和/或，
[0016]所述真空罩体具有与所述抽气部相连的顶壁，以及设于所述顶壁周侧的侧壁，所述侧壁的底部设有密封胶条，所述放置工位的周侧形成有与所述侧壁的底部相适配的边沿。
[0017]进一步的，所述涂布机构还具有与所述涂布刀头相连的储料部，以及连接于所述涂布刀头和所述储料部之间的泵送部，所述泵送部用于将所述储料部内的浆料输送至所述涂布刀头处；和/或，
[0018]所述基台上设有沿所述涂布刀头涂布方向布置的导轨，所述涂布刀头滑动设于所述导轨上；和/或，所述第一驱动部包括气缸，且所述气缸的气缸杆与所述涂布刀头相连。
[0019]进一步的，沿涂布前后方向，所述涂布刀头上设有位于涂布方向后方的后处理单元，所述后处理单元用于涂布后进行干燥处理。
[0020]相对于现有技术，本技术具有以下优势：
[0021]本技术所述的钙钛矿薄膜制备装置，通过涂布机构和抽真空机构的配合设置，以可确保在涂布后即可进行抽真空处理，从而提高作业效率，同时通过第一驱动部和第二驱动部的设置，以可驱使涂布刀头和真空罩体移动，从而实现涂布刀头和真空罩体切换作业，并能够避免钙钛矿薄膜因移动造成形变，提高钙钛矿薄膜结晶及成膜质量，缩短工艺制程。
[0022]此外，通过吸附部的设置，可将涂布后的湿膜吸附在基台上，进而确保涂布时基板的稳定性，提高钙钛矿成膜质量。通过升降部和滑轨的配合设置，以可确保真空罩体能够横向和竖向移动，便于对涂布后的湿膜进行抽真空，提高真空罩体的便捷性。
[0023]另外，通过导轨的设置，以确保涂布刀头可在放置工位上滑动，可提高涂布效率，通过泵送部设置，可将物料输送至涂布刀头，从而确保涂布刀头在移动时可进行涂布。通过后处理单元的设置，以可对涂布后的湿膜进行清理和干燥处理，避免湿膜流动。
附图说明
[0024]构成本技术的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0025]图1为本技术实施例所述的钙钛矿薄膜制备装置的结构示意图；
[0026]图2为本技术实施例所述的徒步机构的结构示意图；
[0027]图3为本技术实施例所述的抽真空机构的结构示意图；
[0028]图4为本技术实施例所述的吸附部的结构示意图。
[0029]附图标记说明：
[0030]1、基台；102、吸附部；1021、吸附孔；1022、吸附管道；1023、连通管道；
[0031]2、涂布机构；201、涂布刀头；202、第一驱动部；203、储料部；204、泵送部；205、导轨；
[0032]3、抽真空机构；301、真空罩体；303、第二驱动部；304、滑轨；305、滑动座；306、升降部；3061、升降螺杆；3062、第三驱动部；3063、密封胶条。
具体实施方式
[0033]需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0034]在本技术的描述中，需要说明的是，若出现“上”、“下”、“内”、“外”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”等指示方位或位置关系的术语，其为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，若出现“第一”、“第二”等术语，其也仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0035]另外，在本技术的描述中，除非另有明确的限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以结合具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0036]下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。
[0037]本实施例涉及一种钙钛矿薄膜制备装置，整体结构上，该制备装置包括基台1、涂布机构2及抽真空机构3。其中，基台1具有以放置基底的放置工位；。涂布机构2具有用于对基底进行涂布处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钙钛矿薄膜制备装置，其特征在于，包括：基台(1)，具有以放置基底的放置工位；涂布机构(2)，具有用于对所述基底进行涂布处理的涂布刀头(201)，以及驱使所述涂布刀头(201)移动的第一驱动部(202)；抽真空机构(3)，具有滑动设于所述基台(1)上的真空罩体(301)，与所述真空罩体(301)相连的用于抽真空的抽气部，以及驱使所述真空罩体(301)沿靠近或远离所述放置工位的方向滑移的第二驱动部(303)，且所述真空罩体(301)沿所述基台(1)高度方向升降设置。2.根据权利要求1所述的钙钛矿薄膜制备装置，其特征在于：所述基台(1)上设有设于所述放置工位上的用于吸附所述基底的吸附部(102)，所述吸附部(102)与外部负压吸附设备相连。3.根据权利要求2所述的钙钛矿薄膜制备装置，其特征在于：所述吸附部(102)包括设于所述放置工位上的间隔布置的多个吸附孔(1021)。4.根据权利要求3所述的钙钛矿薄膜制备装置，其特征在于：所述吸附孔(1021)与所述负压吸附设备通过设于所述基台(1)上的吸附管道(1022)相连。5.根据权利要求4所述的钙钛矿薄膜制备装置，其特征在于：所述基台(1)上设有用于连通各所述吸附管道(1022)的连通管道(1023)，各所述吸附管道(1022)与所述负压吸附设备通过所述连通管道(1023)相连，且所述连通管道(1023)上设有用于控制所述连通管道(1023)启闭的阀门。6.根据权利要求1所述的钙钛矿薄膜制备装置，其特征在于：所述基台(1)上设有沿所述真空罩体(301)的滑移路径布置的滑轨(304)，所述真空罩体(301)滑动设于所述滑轨(304)上。7.根据权利要求6所述的钙钛...

【专利技术属性】
技术研发人员：锁真阳，邵君，王雪戈，于振瑞，
申请(专利权)人：无锡极电光能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：