沉淀池制造技术

技术编号:35322120 阅读:15 留言:0更新日期:2022-10-22 13:21
本实用新型专利技术涉及水处理技术领域,并提供一种沉淀池,包括配水渠和多个沉淀腔体;多个沉淀腔体沿竖直方向依次叠加设置,沉淀腔体包括沉淀腔、配水通道和出水口,配水通道的进水端与配水渠连通,配水通道的出水端与沉淀腔连通,配水通道的出口朝下设置;出水口与沉淀腔连通,出水口靠近沉淀腔体的顶端设置或设置在沉淀腔体的顶端,出水口能够与出水井连通。通过配水渠将水体导入沿竖直方向设置的多个沉淀腔体内进行沉淀,可以增大沉淀池的处理水量和有效节省占地,可以适用于中大型污水处理项目,水体从沉淀腔体的底部进入到沉淀腔内并从沉淀腔顶部排出,有效提高了沉淀池对水体的沉淀效果。淀效果。淀效果。

【技术实现步骤摘要】
沉淀池


[0001]本技术涉及水处理
,尤其涉及一种沉淀池。

技术介绍

[0002]现有沉淀区以浅层沉淀理论为主,由于颗粒物存在垂直分速度,污泥颗粒经过相同长度的沉淀池时,沉淀池深度越浅,沉淀时间就越短。现有工艺,如边进边出沉淀池、斜管斜板沉淀池等均是基于此原理,沉淀效果依据沉淀表面负荷即沉淀池的长与宽来决定,当对较大水量进行沉淀处理时则需要利用具有较大表面积的沉淀池,造成沉淀池占地面积较大。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种沉淀池,用以解决现有技术中水的沉淀效果依据沉淀池表面负荷决定,若对较大水量进行沉淀处理时则需要利用具有较大表面积的沉淀池,从而造成沉淀池占地面积较大的缺陷。
[0004]本技术提供一种沉淀池,包括:
[0005]配水渠;
[0006]多个沉淀腔体,沿竖直方向依次叠加设置,所述沉淀腔体包括:
[0007]沉淀腔;
[0008]配水通道,所述配水通道的进水端与所述配水渠连通,所述配水通道的出水端与所述沉淀腔连通,且所述配水通道的出口朝下设置;
[0009]出水口,与所述沉淀腔连通,所述出水口靠近所述沉淀腔体的顶端设置或设置在所述沉淀腔体的顶端,所述出水口能够与出水井连通。
[0010]根据本技术提供一种沉淀池,所述沉淀腔体还包括导流板,所述导流板与所述沉淀腔体的侧壁平行设置,所述导流板的顶端与所述沉淀腔体的顶端连接,所述导流板的底端与所述沉淀腔体的底端之间留有供水体进入所述沉淀腔的流通口,且所述导流板与所述沉淀腔体的侧壁之间形成所述配水通道。
[0011]根据本技术提供一种沉淀池,所述出水口靠近所述配水通道设置。
[0012]根据本技术提供一种沉淀池,所述沉淀腔体还包括设置在所述沉淀腔体底部的导流装置,所述导流装置包括导流斜面,所述导流斜面朝向所述沉淀腔体的侧壁倾斜。
[0013]根据本技术提供一种沉淀池,所述导流装置还包括导流部,所述导流部环绕设置在所述沉淀腔体底壁与所述沉淀腔体侧壁的连接处,且所述导流斜面位于所述导流部上。
[0014]根据本技术提供一种沉淀池,所述沉淀腔体还包括多个配水口,多个所述配水口用于连通所述配水渠与所述配水通道。
[0015]根据本技术提供一种沉淀池,所述沉淀腔体还包括:
[0016]排污口,设置在所述沉淀腔体远离所述配水通道的侧壁上,所述排污口位于所述
沉淀腔的底部;
[0017]排污装置,所述排污装置设置在所述沉淀腔的底部,所述排污装置的出口与所述排污口连通。
[0018]根据本技术提供一种沉淀池,还包括排泥通道,多个所述沉淀腔体的排污口通过排泥管与所述排泥通道连通。
[0019]根据本技术提供一种沉淀池,还包括多个出水通道,多个所述出水通道与多个所述沉淀腔体的出水口一一连通,且多个所述出水通道与所述出水井连通。
[0020]根据本技术提供一种沉淀池,所述沉淀腔体设置有两个。
[0021]本技术提供的沉淀池,通过配水渠将水体导入沿竖直方向设置的多个沉淀腔体内进行沉淀,可以增大沉淀池的处理水量和有效节省占地,使其可以适用于中大型污水处理项目,并且水体从沉淀腔体的底部进入到沉淀腔内,并从沉淀腔的顶部排出,有效提高了沉淀池对水体的沉淀效果。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1是本技术提供的沉淀池的结构示意图。
[0024]附图标记:
[0025]1:上层沉淀腔体;2:下层沉淀腔体;3:配水渠;
[0026]4:第一侧壁;5:第二侧壁;6:排泥通道;
[0027]7:排污装置;8:上层配水通道;9:下层配水通道;
[0028]10:上层导流板;11:下层导流板;12:上层配水口;
[0029]13:下层配水口;14:上层出水通道;15:下层出水通道;
[0030]16:配水立板;17:第一配水侧壁;18:水平侧壁;
[0031]19:竖直侧壁;20:出水连通通道;21:第一导流部;
[0032]22:第二导流部。
具体实施方式
[0033]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术中的附图,对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0034]下面结合图1描述本技术的沉淀池。
[0035]如图1所示,本技术提供的一种沉淀池,包括配水渠3和多个沉淀腔体。
[0036]其中,多个沉淀腔体沿竖直方向依次叠加设置,以提高本沉淀池的深度,提高本沉淀池的处理水量。
[0037]沉淀腔体包括沉淀腔、配水通道和出水口。配水通道的进水端与配水渠3连通,配水通道的出水端与沉淀腔连通,以使配水渠3内的水体能够流入到沉淀腔内。并且,配水通道的出口朝下设置,由于配水通道的导流作用,使水体能够流入沉淀腔的下部,从而有利于提高水体的沉淀效果。
[0038]此外,出水口与沉淀腔连通,出水口可以靠近沉淀腔体的顶端设置,或者,出水口也可以设置在沉淀腔体的顶端,这样,能够使沉淀腔上层的清水排出,以保证流出沉淀腔的水体为经过沉淀后的清水,从而提高了水体的沉淀效果。
[0039]这里,出水口可以与出水井连通,以使沉淀后的水体流入出水井内。
[0040]如此设置,通过配水渠3将水体导入沿竖直方向设置的多个沉淀腔体内进行沉淀,可以增大沉淀池的处理水量和有效节省占地,使其可以适用于中大型污水处理项目,并且水体从沉淀腔体的底部进入到沉淀腔内,并从沉淀腔的顶部排出,有效提高了沉淀池对水体的沉淀效果。
[0041]在本技术的可选实施例中,沉淀腔体还包括导流板,其中,导流板与沉淀腔体的侧壁平行设置,并且导流板的顶端与沉淀腔体的顶端连接,导流板的底端与沉淀腔体的底端之间留有流通口、以供水体流入沉淀腔内。
[0042]并且,导流板与沉淀腔体的侧壁之间形成配水通道,即沉淀腔体的侧壁与导流板之间的间隙为配水通道,这样,既能够实现配水通道与沉淀腔的连接,又能够使水体从沉淀腔体的下部进入沉淀腔内。
[0043]在可选的实施例中,出水口靠近沉淀腔体的配水通道设置,这样,能够使沉淀腔的进水端和出水端可以位于沉淀腔体的同一侧,有利于提高水体在沉淀腔内的留存时间,从而提高沉淀效果。
[0044]具体地,水体从配水渠3由配水通道进入沉淀腔时,由于导流板的导流作用,使水本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种沉淀池,其特征在于,包括:配水渠;多个沉淀腔体,沿竖直方向依次叠加设置,所述沉淀腔体包括:沉淀腔;配水通道,所述配水通道的进水端与所述配水渠连通,所述配水通道的出水端与所述沉淀腔连通,且所述配水通道的出口朝下设置;出水口,与所述沉淀腔连通,所述出水口靠近所述沉淀腔体的顶端设置或设置在所述沉淀腔体的顶端,所述出水口能够与出水井连通。2.根据权利要求1所述的沉淀池,其特征在于,所述沉淀腔体还包括导流板,所述导流板与所述沉淀腔体的侧壁平行设置,所述导流板的顶端与所述沉淀腔体的顶端连接,所述导流板的底端与所述沉淀腔体的底端之间留有供水体进入所述沉淀腔的流通口,且所述导流板与所述沉淀腔体的侧壁之间形成所述配水通道。3.根据权利要求2所述的沉淀池,其特征在于,所述出水口靠近所述配水通道设置。4.根据权利要求2所述的沉淀池,其特征在于,所述沉淀腔体还包括设置在所述沉淀腔体底部的导流装置,所述导流装置包括导流斜面,所述导流斜面朝向所述沉淀腔体的侧壁倾斜。5....

【专利技术属性】
技术研发人员:王潇陈凯华王超慧于忠忠黄鸽黎郤立强刘芳张金岭张贤君宋培圆
申请(专利权)人:北京博汇特环保科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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