曝光装置以及物品制造方法制造方法及图纸

提供使抑制尺寸以及作用力的增大并抑制曝光时的投影光学系统的温度上升的功能提高的曝光装置以及物品制造方法。本发明专利技术所涉及的曝光装置具备：投影光学系统，将设于原版的图案的像投影至基板；第1腔室，设有第1供给口并收纳曝光装置；第2腔室，设有第2供给口并收纳投影光学系统；空调机，经由与第1供给口连接的第1管道从第1供给口向第1腔室内供给温度调节气体，并且经由与第2供给口连接的第2管道从第2供给口向第2腔室内供给温度调节气体；以及控制部，在曝光开始之前，使从空调机向第1管道内的温度调节气体的供给量减少，并且使从空调机向第2管道内的温度调节气体的供给量增加。向第2管道内的温度调节气体的供给量增加。向第2管道内的温度调节气体的供给量增加。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及物品制造方法


[0001]本专利技术涉及曝光装置。

技术介绍

[0002]以往，在曝光装置中已知以下技术：为了对收纳有投影光学系统的腔室内的空间进行清洗，通过将经过调整的气体向该空间内供给并相对于大气压设为正压，抑制从周围环境向该空间内的污染气体的流入。
[0003]另外，在这样的技术中，可能因对应于周围环境的压力变化在收纳有投影光学系统的腔室内的空间中产生压力变化而导致构成投影光学系统的光学元件发生机械变形，也寻求对该机械变形加以抑制。
[0004]专利文献1公开了以下曝光装置：在收纳有投影光学系统的腔室中，通过设置用于进行经过调整的气体向周围环境的预定泄漏的闸门，抑制与周围环境的压力变化对应的该腔室内的压力变化的产生。
[0005]在先技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2012－004598号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]另一方面，在曝光装置中也已知以下情况：因曝光光线入射导致投影光学系统的温度上升，从而投影光学系统的焦点的变动增大，存在所制造的物品的品质降低的可能性。
[0010]并且，已知以下技术：为了抑制这样的温度上升，向收纳有投影光学系统的腔室内的空间供给经过温度调节的气体(以下称为温度调节气体)。
[0011]另外，近年来，在曝光装置中为了确保高分辨率而进行使用高光照强度的曝光光线的曝光，在这样的曝光中，投影光学系统的温度上升也变大，因而也需要使温度调节气体向收纳有投影光学系统的腔室内的供给量增大。
[0012]在该场合，若为了供给这样的大容量的温度调节气体而使空调机的供给能力增大，则会导致曝光装置中的尺寸或作用力的增大。
[0013]于是，本专利技术的目的在于提供使抑制尺寸以及作用力的增大并抑制曝光时的投影光学系统的温度上升的功能提高的曝光装置。
[0014]用于解决课题的方案
[0015]本专利技术所涉及的曝光装置对基板进行曝光以便将设于原版的图案向基板转印，其特征在于，曝光装置具备：投影光学系统，该投影光学系统将图案的像投影至基板；第1腔室，该第1腔室设有第1供给口，并收纳曝光装置；第2腔室，该第2腔室设有第2供给口，并收纳投影光学系统；空调机，该空调机经由与该空调机以及第1供给口连接的第1管道从第1供给口向第1腔室内供给温度调节气体，并且经由与该空调机以及第2供给口连接的第2管道
从第2供给口向第2腔室内供给温度调节气体；以及控制部，该控制部在曝光开始之前进行第1控制，该第1控制使从空调机向第1管道内的温度调节气体的第1供给量减少，并且使从空调机向第2管道内的温度调节气体的第2供给量增加。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本专利技术，能提供使抑制尺寸以及作用力的增大并抑制曝光时的投影光学系统的温度上升的功能提高的曝光装置。
附图说明
[0018]图1是第一实施方式所涉及的曝光装置的示意性剖视图。
[0019]图2(a)是第一实施方式所涉及的曝光装置中设置的温度调节系统的示意性构成图。
[0020]图2(b)是用于说明第一实施方式所涉及的曝光装置的曝光开始时的温度调节系统的控制动作的示意性构成图。
[0021]图2(c)是用于说明第一实施方式所涉及的曝光装置的曝光结束时的温度调节系统的控制动作的示意性构成图。
[0022]图3是第二实施方式所涉及的曝光装置中设置的温度调节系统的示意性构成图。
[0023]图4是第三实施方式所涉及的曝光装置中设置的温度调节系统的示意性构成图。
[0024]图5是第四实施方式所涉及的曝光装置中设置的温度调节系统的示意性构成图。
[0025]图6是第五实施方式所涉及的曝光装置中设置的温度调节系统的示意性构成图。
[0026]图7是第六实施方式所涉及的曝光装置中设置的温度调节系统的示意性构成图。
具体实施方式
[0027]以下，基于附图来详细说明本实施方式所涉及的曝光装置。另外，以下所示的附图为了能容易理解本实施方式而以不同于实际的缩小比例绘制。
[0028][第一实施方式][0029]作为用于制造半导体器件或液晶显示器等物品的光刻装置之一的曝光装置通过由来自照明光学系统的曝光光线对绘制于原版的图案进行照射，从而经由投影光学系统将被照射的图案的像投影(转印)到基板上。
[0030]近年来，在曝光装置中，为了提高生产率，存在希望混合与大型以及中小型各自的面板尺寸对应的图案并无浪费地在一张大基板上布局来进行转印这样的需求。
[0031]当进行这样的转印时，为了确保高分辨率，不仅需要高光照强度的曝光光线，经过原版的曝光光线向投影光学系统入射的次数也增加，从而收纳有投影光学系统的腔室内的空间的温度大幅上升。
[0032]并且，若收纳有投影光学系统的腔室内的空间的温度上升，则投影光学系统的焦点的变动增大，故而存在所制造的物品的品质降低的可能性。
[0033]于是，已知以下技术：将用于相对该腔室内的空间供给以及排出经过温度调节的气体(以下称为温度调节气体)的供给口以及排出口设于该腔室，在该腔室内的空间形成温度调节气体的流动，从而抑制伴随于曝光光线入射的投影光学系统的温度上升。
[0034]尤其是，重点在于：当进行需要高分辨率且曝光负荷大的上述那样的转印时，通过
使温度调节气体向收纳有投影光学系统的腔室内的空间的供给量增加，抑制投影光学系统的大幅的温度上升。
[0035]此外，在投影光学系统中，不仅维持温度，维持清洁在保证所制造的物品的品质的方面也是重要的。
[0036]有关于此，也能通过以下方式来达成：如上述那样供给温度调节气体，将收纳有投影光学系统的腔室内的空间相对于大气压设成正压，抑制来自周围环境的污染气体的流入。
[0037]另外，近年来，提出了以下技术：通过控制从收纳有投影光学系统的腔室内的空间向周围环境的气体排出流路的间隙量，即便在周围环境中存在着急剧的压力变动的场合也可抑制该腔室内的空间的压力变动。
[0038]但是，在这样的技术中，由于该气体排出流路的间隙量设计成最小，所以，存在用于通过将供给到该腔室内的空间中的温度调节气体排出来抑制投影光学系统的温度上升的排热无法充分进行这样的问题。
[0039]另外，如上述那样，当进行曝光负荷大的转印时，投影光学系统的温度上升也变大，因而，为了抑制这样的温度上升，需要向收纳有投影光学系统的腔室内的空间供给大容量的温度调节气体。
[0040]并且，若为了供给这样的大容量的温度调节气体而使温度调节气体供给装置(即空调机)的供给能力增大，则会导致装置的空间量或作用力的增大。
[0041]另外，当不进行曝光时，有时会为了维护曝光装置而由作业者在曝光装置内进行作业，此时存在曝光装置内的温度上升的可能性。
[0042]并且，在提高生产率的方面，追求的是，在维护作业本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，对基板进行曝光以便将设于原版的图案向上述基板转印，其特征在于，上述曝光装置具备：投影光学系统，该投影光学系统将上述图案的像投影至上述基板；第1腔室，该第1腔室设有第1供给口，并收纳上述曝光装置；第2腔室，该第2腔室设有第2供给口，并收纳上述投影光学系统；空调机，该空调机经由与该空调机以及上述第1供给口连接的第1管道从上述第1供给口向上述第1腔室内供给温度调节气体，并且经由与该空调机以及上述第2供给口连接的第2管道从上述第2供给口向上述第2腔室内供给温度调节气体；以及控制部，该控制部在上述曝光开始之前进行第1控制，该第1控制使从上述空调机向上述第1管道内的温度调节气体的第1供给量减少，并且使从上述空调机向上述第2管道内的温度调节气体的第2供给量增加。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，上述曝光装置还具有第3管道，该第3管道与将上述第2腔室的内部的气体排出的排气口和形成于上述第1管道内的合流部连接，上述控制部随着上述第1控制来调节上述第3管道内的气体的流量，以便上述第1腔室内的压力相对于外部环境的压力成为正压。3.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述控制部在进行上述第1控制时将上述第1供给量设为零。4.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述控制部在进行上述第1控制时调节上述第3管道内的气体的流量，以便防止从上述空调机向上述第1腔室内的温度调节气体的第3供给量变化。5.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，上述控制部在上述曝光结束之后进行第2控制，该第2控制使上述第1供给量增加且使上述第2供给量减少。6.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，上述控制部随着上述第2控制来调节上述第3管道内的气体的流量，以便上述第1腔室内的压力相对于外部环境的压力成为正压。7.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，上述控制部在进行上述第2控制时将上述第3...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田康文，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：