一种用于电波暗室的高插片型吸波结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，包括呈矩形状的平板吸波底座、梯形的吸波插片，所述梯形吸波插片设有四片，平板吸波底座四个侧边均设有插片安装槽，梯形吸波插片底边可以插入并固定在插片安装槽上，梯形吸波插片两腰侧边均设有卡槽卡扣，相邻的两个梯形吸波插片侧腰边通过卡槽卡扣相互扣接连接，四个梯形吸波插片与平板吸波底座组成梯形台结构，梯形吸波插片上侧边还设有梯形的锯齿边。本装置采用平板吸波底座与梯形吸波插片拼装组合的结构，使整体内部为中空，有效减小整体的重量，并且，由于采用拼装结构，在转运时可以拆开叠放，从而有效减小空间占用，堆垛整体占用空间小，便于提高运输效率。便于提高运输效率。便于提高运输效率。

【技术实现步骤摘要】
一种用于电波暗室的高插片型吸波结构


[0001]本技术涉及电波暗室
，具体是指一种用于电波暗室的高插片型吸波结构。

技术介绍

[0002]电波暗室，是主要用于模拟开阔场，同时用于辐射无线电骚扰(EMI)和辐射敏感度(EMS)测量的密闭屏蔽室。电波暗室的尺寸和射频吸波材料的选用主要由受试设备(EUT)的外行尺寸和测试要求确定，电波暗室主要组成结构主要为屏蔽室和吸波材料。屏蔽室由屏蔽壳体、屏蔽门、通风波导窗及各类电源滤波器等组成。根据用户要求，屏蔽壳体可采用焊接式或拼装式结构均可。吸波材料由，工作频率范围在30MHz～1000MHz的单层铁氧体片，以及锥形含碳海绵吸波材料构成，锥形含碳海绵吸波材料是由聚氨脂泡沫塑料在碳胶溶液中渗透而成，具有较好的阻燃特性。
[0003]现有技术中的电波暗室中多使用如：申请号CN201120046376.8公开的一种平顶角锥微波吸收材料，这种类似的吸波结构进行安装，其整体呈梯形台或者锥形，并且内部为实心结构，在所以整体重量较重，并且在建造电波暗室时该种吸波结构占用体积较大，也不便于后期的维护和保养。鉴于以上，我们提出一种用于电波暗室的高插片型吸波结构来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题就是克服以上的技术缺陷，提供一种结构合理，实用性强，在转运时可以减小体积占用，并且拼装使用的一种用于电波暗室的高插片型吸波结构。
[0005]为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，包括呈矩形状的平板吸波底座、梯形的吸波插片，所述梯形吸波插片设有四片，平板吸波底座四个侧边均设有插片安装槽，梯形吸波插片底边可以插入并固定在插片安装槽上，梯形吸波插片两腰侧边均设有卡槽卡扣，相邻的两个梯形吸波插片侧腰边通过卡槽卡扣相互扣接连接，四个梯形吸波插片与平板吸波底座组成梯形台结构，梯形吸波插片上侧边还设有梯形的锯齿边，所述平板吸波底座中心部位一体成型设有四个凸起尖锥，凸起尖锥朝向设置梯形吸波插片侧凸起，平板吸波底座、梯形的吸波插片均采用不低于B2级耐火等级材料制作。
[0006]进一步的，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
(450
‑
550)mm，平板吸波底座、梯形的吸波插片厚度为40mm。
[0007]进一步的，梯形的吸波插片与竖直方向之间的倾角为4.6
°
。
[0008]进一步的，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
(900
‑
1000)mm，平板吸波底座、梯形的吸波插片厚度为40mm。
[0009]进一步的，梯形的吸波插片与竖直方向之间的倾角为8.46
°
。
[0010]进一步的，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
(1300
‑
1400)mm，平板吸波底座、梯形的吸波插片厚度为40mm。
[0011]进一步的，梯形的吸波插片与竖直方向之间的倾角为5.72
°
。
[0012]进一步的，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
2500mm，平板吸波底座、梯形的吸波插片厚度为40mm。
[0013]进一步的，梯形的吸波插片与竖直方向之间的倾角为2.89
°
。
[0014]进一步的，所述梯形台结构腰部外侧围绕设有固定环，固定环上下两侧边均设有锯齿边。
[0015]本技术与现有技术相比的优点在于：本装置采用平板吸波底座与梯形吸波插片拼装组合的结构，使整体内部为中空，有效减小整体的重量，并且，由于采用拼装结构，在转运时可以拆开叠放，从而有效减小空间占用，堆垛整体占用空间小，便于提高运输效率。
附图说明
[0016]图1是本技术第一实施例的结构示意图。
[0017]图2是本技术第二实施例的结构示意图。
[0018]图3是本技术第三实施例的结构示意图。
[0019]图4是本技术第四实施例的结构示意图。
[0020]如图所示：1、平板吸波底座；2、梯形吸波插片；3、插片安装槽；4、卡槽卡扣；5、锯齿边；6、凸起尖锥；7、固定环。
具体实施方式
[0021]下面结合附图来进一步说明本技术的具体实施方式。其中相同的零部件用相同的附图标记表示。
[0022]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
[0023]一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，包括呈矩形状的平板吸波底座1、梯形的吸波插片，所述梯形吸波插片2设有四片，平板吸波底座1四个侧边均设有插片安装槽3，梯形吸波插片2底边可以插入并固定在插片安装槽3上，梯形吸波插片2两腰侧边均设有卡槽卡扣4，相邻的两个梯形吸波插片2侧腰边通过卡槽卡扣4相互扣接连接，四个梯形吸波插片2与平板吸波底座1组成梯形台结构，梯形吸波插片2上侧边还设有梯形的锯齿边5，所述平板吸波底座1中心部位一体成型设有四个凸起尖锥6，凸起尖锥6朝向设置梯形吸波插片2侧凸起，平板吸波底座1、梯形的吸波插片均采用不低于B2级耐火等级材料制作；本装置采用拼装结构，使用平板吸波底座1与四个梯形的吸波插片拼装成梯形台结构形成完整的吸波
结构，每个平板吸波底座1配备四片梯形吸波插片2。吸波底座中心部位带有四个高度为100mm的凸起尖锥6，四周靠近边缘位置带有插片安装凹槽。插片厚度为40mm，梯形吸波插片2倾斜设置，这样可以避免相邻插片之间因存在较大的缝隙而影响其对电磁波的吸收，顶部为坡度较缓的波浪形状的锯齿边5，便于电磁波的吸收且不易损坏。
[0024]实施例一，如图1所示，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
(450
‑
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，其特征在于，包括呈矩形状的平板吸波底座(1)、梯形的吸波插片，所述梯形吸波插片(2)设有四片，平板吸波底座(1)四个侧边均设有插片安装槽(3)，梯形吸波插片(2)底边可以插入并固定在插片安装槽(3)上，梯形吸波插片(2)两腰侧边均设有卡槽卡扣(4)，相邻的两个梯形吸波插片(2)侧腰边通过卡槽卡扣(4)相互扣接连接，四个梯形吸波插片(2)与平板吸波底座(1)组成梯形台结构，梯形吸波插片(2)上侧边还设有梯形的锯齿边(5)，所述平板吸波底座(1)中心部位一体成型设有四个凸起尖锥(6)，凸起尖锥(6)朝向设置梯形吸波插片(2)侧凸起，平板吸波底座(1)、梯形的吸波插片均采用不低于B2级耐火等级材料制作。2.根据权利要求1所述的一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，其特征在于，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
(450
‑
550)mm，平板吸波底座(1)、梯形的吸波插片厚度为40mm。3.根据权利要求2所述的一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，其特征在于，梯形的吸波插片与竖直方向之间的倾角为4.6
°
。4.根据权利要求1所述的一种用于电波暗室的高插片型吸波结构，其特征在于，所述吸波结构长
×
宽
×
高的尺寸为600mm
×
600mm
×
...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军耀，曹雪山，
申请(专利权)人：无锡敬仁电子材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：