本发明专利技术公开了一种真空灭弧室的真空度检测装置、监测系统及真空灭弧室，真空灭弧室的真空度检测装置中，陶瓷绝缘外壳密封地固定于真空灭弧室的端面盖板上，所述陶瓷绝缘外壳为与所述端面盖板上的导电杆同轴心的圆环形结构，所述端面盖板和所述陶瓷绝缘外壳形成的密封区域开设与真空灭弧室连通的通孔；热电式真空传感器设于所述陶瓷绝缘外壳内部以检测真空灭弧室真空度，冷端固定于所述端面盖板，电极支承于所述冷端上，热电臂支承于所述电极上，热端层叠于所述热电臂上，热阻块层叠于所述热端上，加热装置层叠于所述热阻块上。加热装置层叠于所述热阻块上。加热装置层叠于所述热阻块上。
【技术实现步骤摘要】
真空度检测装置、监测系统及真空灭弧室
[0001]本专利技术属于真空灭弧室真空度在线检测
，特别是一种真空灭弧室的真空度检测装置、监测系统及真空灭弧室。
技术介绍
[0002]真空断路器以真空为灭弧和绝缘介质，具有燃弧时间短，燃弧能量低，对触头的磨损少，允许开断次数多，适宜频繁操作、寿命长等优点。真空断路器不断向小型化和高电压等级发展，在电力领域的应用也越来越广泛。而真空断路器灭弧室中高真空环境是保证真空断路器优良性能的前提，因此，在真空断路器运行过程中，实现对真空灭弧室内真空度的实时监测就成为了真空断路器领域的重要研究内容。
[0003]对于真空灭弧室的制作采用的一次封排工艺，即先将真空灭弧室钎焊成几个部件，再在真空炉内完成排气、烘烤、钎焊封口的过程，在此工艺生产过程中，真空灭弧室的烘烤温度可高达800
‑
900℃。对于传统的真空度检测方法，检测器件难以耐受高温，无法在真空灭弧室出厂时实现植入。在高温环境中，检测装置的寿命也很难得到保证。对于离线检测装置需要在真空灭弧室退出运行后再进行真空度的检测，对于缓慢漏气等问题无法实现实时的监测。
[0004]在
技术介绍
部分中公开的上述信息仅仅用于增强对本专利技术背景的理解，因此可能包含不构成在本国中本领域普通技术人员公知的现有技术的信息。
技术实现思路
[0005]针对现有技术中存在的问题，本专利技术提出一种真空灭弧室的真空度检测装置、监测系统及真空灭弧室，采用热电式真空传感器实现对真空灭弧室真空度的测量，热电式真空传感器各个部分均采用耐高温材料，解决了传统检测装置不耐高温、高温下检测精度降低等情况，可实现在真空灭弧室出厂时植入。真空度检测装置主体采用圆环形结构，占用空间小，应用范围广，可满足12kV及以上电压等级的中高压真空灭弧室真空度检测需求。该装置具有在线检测、实现简单、耐高温、寿命长的优点，具有工业应用的前景。
[0006]本专利技术的目的是通过以下技术方案予以实现，一种真空灭弧室的真空度检测装置包括：
[0007]陶瓷绝缘外壳，其密封地固定于真空灭弧室的端面盖板上，所述陶瓷绝缘外壳为与所述端面盖板上的导电杆同轴心的圆环形结构，所述端面盖板和所述陶瓷绝缘外壳形成的密封区域开设与真空灭弧室连通的通孔；
[0008]热电式真空传感器，其设于所述陶瓷绝缘外壳内部以检测真空灭弧室真空度，所述热电式真空传感器包括，
[0009]冷端，其固定于所述端面盖板，通过所述端面盖板与导电杆进行传热，以保持传感器冷端温度相对稳定；
[0010]电极，其支承于所述冷端上；
[0011]热电臂，其支承于所述电极上；
[0012]热端，其层叠于所述热电臂上；
[0013]热阻块，其层叠于所述热端上；
[0014]加热装置，其层叠于所述热阻块上。
[0015]所述的真空灭弧室的真空度检测装置中，还包括，
[0016]导电片，其导电连接所述热电式真空传感器；
[0017]导线，其贯穿并焊接在陶瓷绝缘外壳上，所述导线导电连接所述导电片。
[0018]所述导线为连接热电式真空传感器的圆柱形导线，从陶瓷绝缘外壳处以及端面盖板处通过陶瓷嵌件引出，陶瓷嵌件焊接在所述端面盖板上。
[0019]所述的真空灭弧室的真空度检测装置中，所述热电式真空传感器为设在陶瓷绝缘外壳内的圆环形结构，其与所述端面盖板上的导电杆同轴心。
[0020]所述的真空灭弧室的真空度检测装置中，陶瓷绝缘外壳密封地固定于端面盖板远离真空灭弧室的外侧，所述通孔设在端面盖板上。
[0021]所述的真空灭弧室的真空度检测装置中，陶瓷绝缘外壳密封地固定于端面盖板靠近真空灭弧室的内侧，所述通孔设在陶瓷绝缘外壳上。
[0022]所述的真空灭弧室的真空度检测装置中，所述端面盖板为真空灭弧室的静盖板或动盖板。
[0023]一种真空灭弧室监测系统包括，
[0024]所述的真空灭弧室的真空度检测装置；
[0025]温度传感器，其设在所述热阻块和加热装置之间以生成温度数据；
[0026]传感器接收模块，其接收所述真空度检测装置的检测信号和温度数据；
[0027]数据处理模块，并连接所述传感器接收模块以基于所述检测信号生成真空度数据以及基于所述温度数据调节所述加热装置的加热温度；
[0028]数据存储模块，其连接所述数据处理模块以接收和存储所述真空度数据；
[0029]数据监测模块，其连接所述数据处理模块，所述真空度数据超出预定阈值时，数据监测模块进行报警。
[0030]所述的真空灭弧室监测系统中，所述数据监测模块包括蜂鸣器或LED灯。
[0031]一种真空灭弧室包括，
[0032]陶瓷外壳，其为中空筒状结构；
[0033]静盖板，其密封地钎焊于所述陶瓷外壳一端；
[0034]静导电杆，其穿设于所述静盖板的中心位置；
[0035]动盖板，其密封地钎焊于所述陶瓷外壳另一端；
[0036]动导电杆，其穿设于所述动盖板的中心位置；
[0037]所述的真空灭弧室的真空度检测装置，其设于所述动盖板或静盖板的上表面或者下表面且与所述导电杆同轴布置；
[0038]屏蔽罩，其设于所述陶瓷外壳内部。
[0039]和现有技术相比，本专利技术具有以下优点：本专利技术真空检测装置安装在与导电杆同轴心的端面盖板处，占用空间小，可满足检测装置小型化的需求，应用范围广，且对真空灭弧室的绝缘性能和工作性能不会造成影响，适用于12kV及以上电压等级的中高压真空灭弧
室真空度检测需求；热电式真空传感器能够耐受真空灭弧室制作烘烤时的高温，实现在真空灭弧室出厂时就将检测装置植入真空灭弧室，不需要后期安装。
附图说明
[0040]通过阅读下文优选的具体实施方式中的详细描述，本专利技术各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。说明书附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。显而易见地，下面描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。而且在整个附图中，用相同的附图标记表示相同的部件。
[0041]在附图中：
[0042]图1是根据本专利技术一个实施例的真空灭弧室的结构示意图；
[0043]图2是根据本专利技术一个实施例的真空灭弧室的真空度检测装置的局部放大示意图；
[0044]图3是根据本专利技术一个实施例的真空灭弧室的真空度检测装置的结构示意图；
[0045]图4是根据本专利技术一个实施例的真空灭弧室的真空度检测装置的热电式真空传感器结构示意图；
[0046]图5是根据本专利技术一个实施例的真空灭弧室的结构示意图；
[0047]图6是根据本专利技术一个实施例的真空灭弧室的真空度检测装置的安装示意图；
[0048]图7是根据本专利技术一个实施例的监测系统的结构示意图。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空灭弧室的真空度检测装置，其包括，陶瓷绝缘外壳，其密封地固定于真空灭弧室的端面盖板上，所述陶瓷绝缘外壳为与所述端面盖板上的导电杆同轴心的圆环形结构，所述端面盖板和所述陶瓷绝缘外壳形成的密封区域开设与真空灭弧室连通的通孔；热电式真空传感器，其设于所述陶瓷绝缘外壳内部以检测真空灭弧室真空度，所述热电式真空传感器包括，冷端，其固定于所述端面盖板，通过所述端面盖板与导电杆进行传热；电极，其支承于所述冷端上；热电臂，其支承于所述电极上；热端，其层叠于所述热电臂上；热阻块，其层叠于所述热端上；加热装置，其层叠于所述热阻块上。2.根据权利要求1所述的真空灭弧室的真空度检测装置，其中，优选的，还包括，导电片，其导电连接所述热电式真空传感器；导线，其贯穿并焊接在陶瓷绝缘外壳上，所述导线导电连接所述导电片。3.根据权利要求2所述的真空灭弧室的真空度检测装置，其中，所述导线为连接热电式真空传感器的圆柱形导线，从陶瓷绝缘外壳处以及端面盖板处通过陶瓷嵌件引出，陶瓷嵌件焊接在所述端面盖板上。4.根据权利要求1所述的真空灭弧室的真空度检测装置，其中，所述热电式真空传感器为设在陶瓷绝缘外壳内的圆环形结构，其与所述端面盖板上的导电杆同轴心。5.根据权利要求1所述的真空灭弧室的真空度检测装置，其中，陶瓷绝缘外壳密封地固定于端面盖板远离真空灭弧室的外侧，所述通孔设在端面盖板上。6.根据权利要求1所述的真空灭弧室的真空度检测装置，其中，陶瓷...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴翊，何海龙，纽春萍，荣命哲，任鸿睿，陈晓龙，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：
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