一种万向节及具有其的抛光头制造技术

本发明专利技术涉及半导体抛光技术领域，提供了一种万向节及具有其的抛光头，该万向节，至少包括：导向轴；底盘，设置在所述导向轴的一端，底盘的盘面与所述导向轴相垂直；沿所述底盘的径向方向由内向外、所述底盘背对所述导向轴的一面至少设置有两级阶梯面，以使所述盘面在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时能够发生弹性变形。本发明专利技术提供的万向节，在底盘的盘面上至少设置有两级阶梯面，从而是底盘具有类似碟簧的作用，在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时，底盘可以发生弹性形变，避免底盘在使用中发生塑性变形或者开裂，从而防止造成漏气现象，避免抛光头失效。避免抛光头失效。避免抛光头失效。

【技术实现步骤摘要】
一种万向节及具有其的抛光头


[0001]本专利技术涉及半导体抛光
，具体涉及一种万向节及具有其的抛光头。

技术介绍

[0002]集成电路制造工艺过程通常是指将导体、半导体、绝缘层以一定的工艺顺序沉积在特定的基板，如硅基晶圆上。在制造工艺过程中，CMP(化学机械抛光)设备主要用于对硅基晶圆在膜沉积工艺后的微观粗糙表面进行全局平坦化处理，其中多区域抛光头起着关键的作用。受安装在机台抛光主轴上的抛光头与下方的研磨垫之间安装精度及自身加工工艺影响，导致二者之间存在一定的不平行误差，抛光头通常利用旋转密封环和万向节来抵消这种不平行误差，从而降低对工艺输出的影响。
[0003]但是，现有抛光头的万向节多为一体式倒“T”型薄壁结构，使用中一旦发生较大变形会使得万向节的根部发生塑性变形甚至开裂，造成万向节不能回弹到初始形状，或造成漏气现象，甚至使抛光头失效。

技术实现思路

[0004]因此，本专利技术要解决的技术问题在于现有抛光头的万向节多为一体式倒“T”型薄壁结构，使用中一旦发生较大变形会使得万向节的根部发生塑性变形甚至开裂，造成万向节不能回弹到初始形状，或造成漏气现象，甚至使抛光头失效，从而提供一种万向节及具有其的抛光头。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案如下：
[0006]一种万向节，至少包括：导向轴；底盘，设置在所述导向轴的一端，底盘的盘面与所述导向轴相垂直；沿所述底盘的径向方向由内向外、所述底盘背对所述导向轴的一面至少设置有两级阶梯面，以使所述盘面在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时能够发生弹性变形。
[0007]进一步地，每级所述阶梯面均由所述底盘的盘面向内凹陷形成，且每级所述阶梯面均为与所述底盘同心的环状阶梯面。
[0008]进一步地，所述底盘朝向所述导向轴的一面设置有凹槽，所述凹槽为与所述底盘同心的环形凹槽。
[0009]进一步地，所述凹槽内侧的槽壁与所述导向轴的外侧壁相重合，所述导向轴的轴颈处设置有倒圆角。
[0010]进一步地，所述凹槽的槽底与所述底盘背对所述导向轴的一面之间的距离不小于4mm。
[0011]进一步地，所述阶梯面包括两级，沿所述底盘的径向方向上由内向外两级所述阶梯面分别记为第一阶梯面与第二阶梯面。
[0012]进一步地，所述第一阶梯面与所述底盘的盘面之间的过渡面为倾斜面。
[0013]进一步地，所述凹槽的槽底相对于所述底盘的盘面倾斜，且所述凹槽的槽底与所
述倾斜面的倾斜角度相同。
[0014]进一步地，所述第一阶梯面与所述底盘的盘面之间的过渡面为第一弧面。
[0015]进一步地，所述凹槽的槽底至少部分为第二弧面，所述第二弧面与所述第一弧面之间的间隔保持不变。
[0016]一种抛光头，包括上述所述的万向节。
[0017]本专利技术技术方案，具有如下优点：
[0018]本专利技术提供的万向节，在底盘的盘面上至少设置有两级阶梯面，从而是底盘具有类似碟簧的作用，在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时，底盘可以发生弹性形变，避免底盘在使用中发生塑性变形或者开裂，从而防止造成漏气现象，避免抛光头失效。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1为本专利技术一个实施例中的万向节的示意图；
[0021]图2为图1的剖面图；
[0022]图3为本专利技术又一个实施例中的万向节的示意图；
[0023]图4为本专利技术又一个实施例中的万向节的示意图；
[0024]图5为本专利技术又一个实施例中的万向节的示意图；
[0025]图6为本专利技术又一个实施例中的万向节的示意图；
[0026]图7为本专利技术一个实施例中的抛光头的示意图。
[0027]1、导向轴；
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2、底盘；
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3、第一阶梯面；
[0028]4、第二阶梯面；
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5、凹槽；
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6、倾斜面；
[0029]7、第一弧面；
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8、第二弧面；
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9、连接盘；
[0030]10、密封环；
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11、基座；
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12、气囊；
[0031]13、晶元；
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14、底座。
具体实施方式
[0032]下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0033]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0034]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可
以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0035]此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
[0036]图1为本专利技术一个实施例中的万向节的示意图；图2为图1的剖面图；如图1与图2所示，本实施例提供一种万向节，至少包括：导向轴1；底盘2，设置在导向轴1的一端，底盘2的盘面与导向轴1相垂直；沿底盘2的径向方向由内向外、底盘2背对导向轴1的一面至少设置有两级阶梯面，以使盘面在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时能够发生弹性变形。其中，底盘2上的阶梯面可以两级，也可以为三级及三级以上，可以根据实际使用场景的需要进行选取，多级的阶梯面使得底盘2整体具备碟簧的功能，可以增强盘面的弹性变形能力。
[0037]本实施例提供的万向节，在底盘2的盘面上至少设置有两级阶梯面，从而是底盘2具有类似碟簧的作用，在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时，底盘2可以发生弹性形变，避免底盘2在使用中发生塑性变形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种万向节，其特征在于，至少包括：导向轴；底盘，设置在所述导向轴的一端，底盘的盘面与所述导向轴相垂直；沿所述底盘的径向方向由内向外、所述底盘背对所述导向轴的一面至少设置有两级阶梯面，以使所述盘面在平衡抛光头与研磨垫之间的平行度误差时能够发生弹性变形。2.根据权利要求1所述的万向节，其特征在于，每级所述阶梯面均由所述底盘的盘面向内凹陷形成，且每级所述阶梯面均为与所述底盘同心的环状阶梯面。3.根据权利要求1所述的万向节，其特征在于，所述底盘朝向所述导向轴的一面设置有凹槽，所述凹槽为与所述底盘同心的环形凹槽。4.根据权利要求3所述的万向节，其特征在于，所述凹槽内侧的槽壁与所述导向轴的外侧壁相重合，所述导向轴的轴颈处设置有倒圆角。5.根据权利要求3所述的万向节，其特征在于，所述凹槽的槽底与所述底盘背对所述导向轴的一面之...

【专利技术属性】
技术研发人员：庞浩，尹影，李婷，刘晓亮，司马超，边润立，
申请(专利权)人：北京烁科精微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：