用于基板处理系统的ETHERCAT液体流量控制器通信技术方案

在诸如化学机械系统之类的基板处理系统中，获得用于所述基板处理系统的多个液体流量控制器的更新后控制器配置数据。耦合至以太网络控制自动化技术(EtherCAT)总线的多个液体流量控制器(LFC)通过EtherCAT总线来自动地下载所述更新后控制器配置数据的副本。所述多个液体流量控制器中的各者控制来自所述基板处理系统中多个流体线的单独流体线的流体流量，通过所述多个流体线的流体流量是使用具有所述更新后控制器配置数据的所述多个液体流量控制器所控制的。控制器所控制的。控制器所控制的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于基板处理系统的ETHERCAT液体流量控制器通信


[0001]本公开内容涉及液体流量控制器，且更特定地涉及用于基板处理系统(例如化学机械抛光系统)的液体流量控制器的管理。

技术介绍

[0002]流量控制器能被使用来输送工艺气体或液体以供服务各种不同工艺。例如，在半导体工业中，液体流量控制器被用来输送液体化学药剂给晶片制造工具。尤其，在化学机械抛光(CMP)期间，抛光液体(诸如具有磨粒的浆料)被供应至旋转的抛光垫的表面。基板被安装在承载头上，且所述基板的暴露表面被放置在抛光垫上。相对运动与磨粒的组合造成基板表面的平坦化。
[0003]各液体流量控制器需要在被用来输送液体之前或被用来输送液体的同时被配置。例如，所述配置能包括控制器固件。作为另一个示例，所述配置能包括指定液体类型、流率、和/或设定点(setpoint)的命令。不同液体流量控制器能具有不同配置。传统上，液体流量控制器被人工配置。

技术实现思路

[0004]在一个方面中，化学机械抛光设备包括多个抛光站、多个承载头、以太网络控制自动化技术(EtherCAT)总线本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种化学机械抛光设备，包括：多个抛光站，其中每个抛光站包括平台和抛光液体分配器，所述平台用以支撑抛光垫，所述抛光液体分配器用以将来自抛光液体供应的抛光液体通过端口输送至所述抛光垫上；多个承载头，所述多个承载头能在所述抛光站之间移动以抵靠所选抛光垫保持基板；以太网络控制自动化技术(EtherCAT)总线；液体流量控制器阵列，所述液体流量控制器阵列包括耦合至以太网络控制自动化技术(EtherCAT)总线的多个能独立控制的液体流量控制器(LFC)，所述多个LFC包括第一多个LFC，所述第一多个LFC中的每个相应LFC控制来自所述抛光液体供应至相应端口的抛光液体的流量；控制系统，所述控制系统经配置以：获得针对所述多个LFC的更新后控制器配置数据，并且自动地通过所述EtherCAT总线向所述多个LFC中的每一者依序传送命令，以致使所述LFC中的每一者依序通过所述EtherCAT总线下载所述更新后控制器配置数据的副本。2.如权利要求1所述的设备，其中每个抛光站包括清洁液体分配器，所述清洁液体分配器用以通过相应端口输送清洁液体以清洁所述抛光垫，并且所述多个LFC包括第二多个LFC，所述第二多个LFC中的每个相应LFC控制来自洗净液体供应至所述相应端口的所述清洁液体的流量。3.如权利要求1所述的设备，其中每个抛光站包括温度控制液体分配器，所述温度控制液体分配器用以输送经加热的或经冷却的液体至所述抛光垫以通过相应端口进行控制，并且所述多个LFC包括第二多个LFC，所述第二多个LFC中的每个相应LFC控制往所述相应端口的所述经加热的或经冷却的液体的流量。4.如权利要求1所述的设备，包括传递站和洗涤液体分配器，所述洗涤液体分配器用以通过相应端口输送洗涤液体到被定位于所述传递站处的基板上，并且所述多个LFC包括第二LFC以控制所述洗涤液体往所述相应端口的流量。5.如权利要求1所述的设备，包括一个或多个清洁站和/或干燥站以在基板已于所述抛光站中的一者或多者处被抛光之后清洁和/或干燥所述基板，所述清洁站和/或干燥站选自包括预清洁抛光站、毛刷清洁器、超音速清洁器、和马兰哥尼干燥器的群组，并且所述多个LFC包括一个或多个第二LFC以控制清洁液体和/或干燥液体往相应清洁站和/或干燥站中的相应端口的流量。6.如权利要求1所述的设备，其中所述多个LFC具有十个到五十个LFC。7.如权利要求1所述的设备，其中所述控制器配置数据包括用于至少一个控制...

【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：