本实用新型专利技术公开了一种胚胎培养室，涉及胚胎培养技术领域，本装置包括：上盖组件，包括光路反射装置、第一温控装置以及用于容纳光路反射装置和第一温控装置的上盖壳体，光路反射装置用于对光路进行2次90度的反射、以将向上照射的平行光改为向下照射的平行光；下盖组件，用于与上盖组件密封连接，下盖组件包括培养皿、气路装置、第二温控装置以及下盖壳体，气路装置用于实现培养皿的气体交换；光源，用于发射平行光；成像装置；光源可随成像装置同步的相对下盖壳体移动，光源和成像装置均与光路反射装置配合设置，以使光源发出的平行光经过光路反射装置正对照射成像装置。通过使用本装置可有效降低装置的运动机构复杂度和减小装置的整体结构尺寸。的整体结构尺寸。的整体结构尺寸。
【技术实现步骤摘要】
一种胚胎培养室
[0001]本技术涉及胚胎培养
，更具体地说，涉及一种胚胎培养室。
技术介绍
[0002]随着科学技术的发展，时差培养技术作为一种新的胚胎培养技术，越来越受到国内外辅助生殖领域的临床医生与胚胎学家的青睐。随着时差培养系统的问世，在全球范围内已经对众多患者开展了治疗，证实了时差培养系统在胚胎体外培养的安全有效性。相比较常规培养技术，应用时差培养技术可以大幅提高妊娠率和活产率，减少早期流产现象。
[0003]胚胎时差培养系统相对常规培养箱，其既能对胚胎进行正常培养，同时能定时对胚胎进行拍摄，记录发育过程中的形态信息，具有无人为干扰培养方式和实时监控的特点，对胚胎进行动态观察，利用形态动力学参数进行评价，使筛选结果更加客观化。时差培养系统通过时差成像技术，评估胚胎的发育潜能，筛选出最优质的胚胎进行移植，从而有效改善辅助生殖技术临床效果，提高着床率、临床妊娠率，缩短患者成功受孕时间。
[0004]胚胎时差培养系统的培养装置大多采用显微镜固定、培养皿移动的方式对胚胎进行拍摄成像，需要不断移动样品，移动过程中的震动可能会对胚胎发育产生影响。并且，每次通过物镜对胚胎进行拍摄成像都需要光源进行曝光，光源需要正对物镜进行照射，大部分现有设计为物镜在下部观测、光源在上部照射的情形，而为避免对观测孔曝光时对其余孔中胚胎产生影响，光源曝光区域需要局限在一个胚胎孔位，由此对每个胚胎进行观测时，且光源和物镜都需要进行相应的移动，由于物镜和光源分离的设计，二者需要单独的运动机构，这就增加了运动机构的复杂程度和整体的尺寸。
[0005]综上所述，如何降低培养装置的整体结构和结构复杂度，是目前本领域技术人员亟待解决的问题。
技术实现思路
[0006]有鉴于此，本技术的目的是提供一种胚胎培养室，可有效降低装置的运动机构复杂度和减小装置的整体结构尺寸。
[0007]为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0008]一种胚胎培养室，包括：
[0009]上盖组件，包括光路反射装置、第一温控装置以及用于容纳所述光路反射装置和所述第一温控装置的上盖壳体，其中，所述第一测温装置用于对所述上盖组件的温度进行实时监测和控制，所述光路反射装置用于对光路进行2次90度的反射、以将向上照射的平行光改为向下照射的所述平行光；
[0010]下盖组件，用于与所述上盖组件密封连接，所述下盖组件包括用于容纳多个胚胎的培养皿、气路装置、第二温控装置以及下盖壳体，所述培养皿、所述气路装置以及所述第二温控装置均设于所述下盖壳体内，其中，所述第二测温装置用于对所述下盖组件的温度进行实时监测和控制，所述气路装置用于实现所述培养皿的气体交换；
[0011]光源，用于发射所述平行光；
[0012]成像装置，用于对所述胚胎进行拍摄；
[0013]所述光源可随所述成像装置同步的相对所述下盖壳体移动，所述光源和所述成像装置均与所述光路反射装置配合设置，以使所述光源发出的所述平行光经过所述光路反射装置正对照射所述成像装置。
[0014]优选的，所述上盖壳体设有用于锁紧或松开所述下盖壳体的旋转锁止件；
[0015]所述旋转锁止件包括贯穿所述上盖壳体设置的、可旋转的转锁，所述转锁的顶部设有用于带动所述转锁转动的旋钮部，所述转锁的底部设有锁止头，所述下盖壳体设有用于与所述锁止头配合卡接的腰型孔。
[0016]优选的，所述转锁的外周部依次套设有垫圈、螺母以及无油衬套，所述垫圈的顶部和所述无油衬套的底部分别与所述上盖壳体相抵接，所述垫圈的底部和所述无油衬套的顶部分别与所述螺母的两端相抵接。
[0017]优选的，所述下盖壳体设有：
[0018]光耦座；
[0019]开关光耦，设于所述光耦座；
[0020]光耦挡片，设于所述光耦座，且其位置对应所述锁止头，当所述锁止头压接于所述光耦挡片以使其形变时，所述光耦挡片遮挡所述开关光耦的接收光路；当所述锁止头脱离所述光耦挡片时，所述光耦挡片避让所述接收光路。
[0021]优选的，所述上盖壳体的底部设有用于密封所述下盖壳体的顶部的密封件，所述密封件包括外压板、内压板以及夹设于所述外压板和所述内压板之间的密封圈，所述密封圈内设有用于安装玻璃片的安装孔位。
[0022]优选的，所述光路反射装置包括与水平线呈45
°
夹角分布的第一反射镜、与水平线呈135
°
夹角分布的第二反射镜、平行设于所述第二反射镜上方的第三反射镜、用于固定所述第一反射镜的反射镜座以及用于固定所述第二反射镜和所述第三反射镜的双反射镜座，所述双反射镜座内设有L型通道，所述第二反射镜和所述第三反射镜的下方均水平设有聚光镜。
[0023]优选的，所述第一温控装置和所述第二温控装置均包括加热带、温度传感器以及用于固定所述温度传感器的压片，所述加热带粘设于所述上盖壳体和所述下盖壳体。
[0024]优选的，所述培养皿包括两排平行设置的培养槽，所述培养槽内等间隔设有至少两个用于放置胚胎的孔位，相邻所述孔位之间的间距大于所述平行光的照射直径。
[0025]优选的，所述培养皿的底部设有定位机构，所述下盖壳体设有用于与所述定位机构卡接的定位槽。
[0026]优选的，所述气路装置包括设于所述下盖壳体前端的第一开孔和设于所述下盖壳体后端的第二开孔，所述第一开孔和所述第二开孔错开设置、且均高于所述下盖壳体的内腔底面；
[0027]第一接头的一端和所述第一开孔连通，所述第一接头的另一端与进气管连通，第二接头的一端和所述第二开孔连通，所述第二接头的另一端与排气管连通。
[0028]在使用本技术所提供的胚胎培养室时，可以打开上盖壳体，以便于向下盖壳体内的培养皿放入胚胎，而后，可以盖合上盖壳体和下盖壳体，使得二者密封连接，之后，可
以通过控制第一温控装置和第二温控装置，以确保胚胎处于适宜的温度环境，并且，可以控制气路装置运行，以实现培养皿的气体交换操作，以向胚胎提供所需的气体环境。当需要观测和拍摄胚胎时，可以控制光源向上发射平行光，平行光在光路反射装置的作用下可进行2次90度的反射操作，以使向上的平行光变成向下的正对成像装置照射的平行光，以对成像装置进行曝光处理，使得成像装置可顺利进行观测拍摄操作。
[0029]由于本装置将光源和成像装置集成在下盖壳体，且光源可随成像装置同步运动，因此，可有效减少光源的运动机构，简化装置的运动结构，避免两组运动结构在运动过程中存在的光源和成像装置不对中的情况，可降低装置的运动机构复杂度和减小装置的整体结构尺寸。
[0030]综上所述，本技术所提供的胚胎培养室，可有效降低装置的运动机构复杂度和减小装置的整体结构尺寸。
附图说明
[0031]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的实施例，对于本本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种胚胎培养室，其特征在于，包括：上盖组件(1)，包括光路反射装置(3)、第一温控装置(4)以及用于容纳所述光路反射装置(3)和所述第一温控装置(4)的上盖壳体(5)，其中，所述第一温控装置(4)用于对所述上盖组件(1)的温度进行实时监测和控制，所述光路反射装置(3)用于对光路进行2次90度的反射、以将向上照射的平行光改为向下照射的所述平行光；下盖组件(2)，用于与所述上盖组件(1)密封连接，所述下盖组件(2)包括用于容纳多个胚胎的培养皿(6)、气路装置(7)、第二温控装置(8)以及下盖壳体(9)，所述培养皿(6)、所述气路装置(7)以及所述第二温控装置(8)均设于所述下盖壳体(9)内，其中，所述第二温控装置(8)用于对所述下盖组件(2)的温度进行实时监测和控制，所述气路装置(7)用于实现所述培养皿(6)的气体交换；光源，用于发射所述平行光；成像装置，用于对所述胚胎进行拍摄；所述光源可随所述成像装置同步的相对所述下盖壳体(9)移动，所述光源和所述成像装置均与所述光路反射装置(3)配合设置，以使所述光源发出的所述平行光经过所述光路反射装置(3)正对照射所述成像装置。2.根据权利要求1所述的胚胎培养室，其特征在于，所述上盖壳体(5)设有用于锁紧或松开所述下盖壳体(9)的旋转锁止件(10)；所述旋转锁止件(10)包括贯穿所述上盖壳体(5)设置的、可旋转的转锁(101)，所述转锁(101)的顶部设有用于带动所述转锁(101)转动的旋钮部(102)，所述转锁(101)的底部设有锁止头(103)，所述下盖壳体(9)设有用于与所述锁止头(103)配合卡接的腰型孔(91)。3.根据权利要求2所述的胚胎培养室，其特征在于，所述转锁(101)的外周部依次套设有垫圈(104)、螺母(105)以及无油衬套(106)，所述垫圈(104)的顶部和所述无油衬套(106)的底部分别与所述上盖壳体(5)相抵接，所述垫圈(104)的底部和所述无油衬套(106)的顶部分别与所述螺母(105)的两端相抵接。4.根据权利要求3所述的胚胎培养室，其特征在于，所述下盖壳体(9)设有：光耦座(113)；开关光耦(111)，设于所述光耦座(113)；光耦挡片(112)，设于所述光耦座(113)，且其位置对应所述锁止头(103)，当所述锁止头(103)压接于所述光耦挡片(112)以使其形变时，所述光耦挡片(112)遮挡所述开关光耦(111)...
【专利技术属性】
技术研发人员：林庆，谢章平，曲鹏飞，李伟冬，王维华，周淑梅，
申请(专利权)人：山东威高瑞生医疗器械有限公司，
类型：新型
国别省市：
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