芴衍生物及其制造方法和用途技术

本公开的芴衍生物由下述式(1)表示。式(1)中，R1表示取代基，k表示0～8的整数，R

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】芴衍生物及其制造方法和用途


[0001]本公开涉及具有酰胺键(或酰胺基)的新的芴衍生物。

技术介绍

[0002]通过利用基于芴衍生物的独特化学结构的优异特性，已经在各种领域中开发了作为用于形成或生产有机半导体和光学构件的材料以及其他材料的芴衍生物，并且芴衍生物通常用作树脂的单体成分。美国专利第2299948号(US2299948A)(专利文献1)公开了由下式表示的9,9
‑
二
‑
(β
‑
氨基甲酰基
‑
乙基)芴可用作制备合成树脂的中间体。
[0003][化1]专利文献
[0004]专利文献1：美国专利第2299948号说明书

技术实现思路

专利技术要解决的课题
[0005]在专利文献1的实施例中，使9,9
‑
二
‑
(β
‑
氰基乙基)芴与硫酸在规定条件下反应，制备上述9,9
‑
二
‑
(β
‑
氨基甲酰基
‑
乙基)芴。
[0006]但是，专利文献1既没有公开构成酰胺基的氮原子被取代为规定取代基或与规定取代基键合的化合物，也没有公开或暗示9,9
‑
二
‑
(β
‑
氨基甲酰基
‑
乙基)芴作为用于改善树脂性质的添加剂的用途。
[0007]因此，本公开的目的是提供用作用于改善树脂的性质或特征的添加剂的新的芴衍生物及其制造方法和用途(应用)。解决课题的手段
[0008]本专利技术人为了实现上述课题而进行了深入研究，结果发现，具有特定化学结构的芴衍生物可用作树脂添加剂(树脂改性剂)等，从而完成了本专利技术。
[0009]即，本公开的芴衍生物由下述式(1)表示。
[0010][化2][0011][式中，R1表示取代基，k表示0～8的整数，R
2a
、R
2b
、R
2c
和R
2d
各自独立地表示氢原子或取代基，R
3a
和R
3b
各自独立地表示氢原子或取代基，X
1a
和X
1b
各自独立地表示下述式(X1)表示的基团，
[0012][化3][0013](式中，R4和R5各自独立地表示氢原子或脂族烃基(条件是排除R4和R5两者都为氢原子的情况)，或者R4和R5相互键合而形成杂环，所述杂环包含与R4和R5相邻的氮原子)]。
[0014]上述式(1)中，R
2a
和R
2b
为氢原子或烃基，R
2c
和R
2d
为氢原子，R
3a
和R
3b
为氢原子或烃基，R4和R5为氢原子或烷基，R4和R5可以相互键合而形成杂环，所述杂环可以是还可包含选自氮原子、氧原子和硫原子中的至少1个杂原子的5～7元杂环。
[0015]上述式(1)中，R
2a
、R
2b
、R
2c
和R
2d
为氢原子，R
3a
和R
3b
为氢原子或甲基，R4和R5为氢原子或C1‑6烷基，R4和R5可以相互键合而形成杂环，所述杂环可以是吡咯烷环、哌啶环、高哌啶环或吗啉环。
[0016]本公开包含制造上述式(1)表示的化合物的方法，所述方法包括使下述式(2)表示的化合物与下述式(3a)和(3b)表示的化合物反应。
[0017][化4][0018](式(2)中，R1和k分别与上述式(1)中的定义相同)。
[0019][化5][0020](式(3a)和(3b)中，R
2a
、R
2b
、R
2c
和R
2d
、R
3a
和R
3b
、X
1a
和X
1b
分别与上述式(1)中的定义相同)。
[0021]另外，本公开还包括含有上述式(1)表示的化合物和树脂的树脂组合物。上述树脂可以是热塑性树脂。上述树脂可以含有选自聚烯烃系树脂和聚酰胺系树脂中的至少1种树脂。在上述树脂组合物中，上述式(1)表示的化合物与上述树脂的质量比可以为前者/后者＝1/99～10/90左右。
[0022]进而，本公开包括：用于提高树脂组合物(或树脂)的流动性的方法，该方法包括将上述式(1)表示的化合物添加到热塑性树脂等树脂中，以及，用于改善树脂的流动性的流动性改善剂，该流动性改善剂包含上述式(1)表示的化合物。另外，本公开还包含上述式(1)表示的化合物的晶体。
[0023]予以说明，在本说明书和权利要求书中，取代基的碳数可以用C1、C6、C
10
等表示。例如，碳数为1的烷基用“C1烷基”表示，碳数为6～10的芳基用“C6‑
10
芳基”表示。专利技术效果
[0024]本公开的新的芴衍生物作为用于改性树脂的添加剂是有用的。具体而言，可以用作对树脂的强度提高剂(机械特性改善剂)、流动性改善剂等。另外，芴衍生物的“5％质量减少温度”高，即使在比较高温的环境下，也能够在防止或抑制热分解的同时作为添加剂有效地发挥作用。芴衍生物的溶剂溶解性也优异，容易操作，能够有效地分散在树脂等中。
附图说明
[0025][图1]图1是实施例1得到的DEAA
‑
FL的1H
‑
NMR光谱。[图2]图2是实施例2得到的DMAA
‑
FL的1H
‑
NMR光谱。[图3]图3是实施例3得到的NIPAM
‑
FL的1H
‑
NMR光谱。[图4]图4是比较例1得到的AAD
‑
FL的1H
‑
NMR光谱。
具体实施方式
[0026][芴衍生物]本公开的新的芴衍生物是下述式(1)表示的化合物。
[0027][化6][0028][式中，R1表示取代基，k表示0～8的整数，R
2a
、R
2b
、R
2c
和R
2d
各自独立地表示氢原子或取代基，R
3a
和R
3b
各自独立地表示氢原子或取代基，X
1a
和X
1b
各自独立地表示下述式(X1)表示的基团。
[0029][化7][0030](式中，R4和R5各自独立地表示氢原子或脂族烃基，条件是R4和R5两者不都为氢原子，或者R4和R5相互键合而形成杂环，所述杂环包含与R4和R5相邻的氮原子)。
[0031]上述式(1)中，作为基R1，可以为对反应惰性或非活性的非反应性取代基，例如可以包括：氰基；氟原子、氯原子、溴原子等卤素原子；烷基、芳基等烃基等本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.下述式(1)表示的芴衍生物。式中，R1表示取代基，k表示0～8的整数，R
2a
、R
2b
、R
2c
和R
2d
各自独立地表示氢原子或取代基，R
3a
和R
3b
各自独立地表示氢原子或取代基，X
1a
和X
1b
各自独立地表示下述式(X1)表示的基团，式中，R4和R5各自独立地表示氢原子或脂族烃基，条件是R4和R5两者不都为氢原子，或者R4和R5相互键合而形成杂环，所述杂环包含与R4和R5相邻的氮原子。2.权利要求1所述的芴衍生物的制造方法，其包括使下述式(2)表示的化合物与下述式(3a)和(3b)表示的化合物反应，式中，R1和k分别与上述式(1)中的定义相同，式中，R

【专利技术属性】
技术研发人员：大内祐辉，
申请(专利权)人：大阪燃气化学有限公司，
类型：发明
国别省市：