一种打磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种打磨装置，包括电机、旋转轴、打磨盘和保护壳，所述打磨盘位于所述保护壳内部，所述保护壳的壳面的斜上方设有打磨口，打磨口正对打磨盘的侧端面，在打磨口的上下方分别设有第一引风口和第二引风口，第一引风口和第二引风口设于保护壳上且分别通过管道与引风机相连，且第一引风口和第二引风口皆与保护壳内部区域连通，在实际使用中，保护壳在打磨口的上下方分别设有第一引风口和第二引风口，能够对抛光打磨过程中产生的杂质，进行两级吸附，保护工作人员的人身安全。保护工作人员的人身安全。保护工作人员的人身安全。

【技术实现步骤摘要】
一种打磨装置


[0001]本技术涉及打磨加工
，具体涉及一种打磨装置。

技术介绍

[0002]对于一些木制品或金属制品类工件的加工，往往需要打磨抛光，以消除工件上残留的毛刺，或者打磨成型。
[0003]目前，很多厂家是通过简单砂轮对工件进行抛光打磨，但在此过程中会产生飞溅的杂质，可能会对工作人员的眼睛和呼吸道造成损害，目前，还没有有效的技术方案来解决这一技术问题。。
[0004]可见，现有技术中存在的技术问题亟待解决。

技术实现思路

[0005]为了解决上述技术问题，本技术实施例提供了一种打磨装置，包括电机、旋转轴、打磨盘和保护壳，所述打磨盘位于所述保护壳内部，所述保护壳的壳面的斜上方设有打磨口，打磨口正对打磨盘的侧端面，在打磨口的上下方分别设有第一引风口和第二引风口，第一引风口和第二引风口设于保护壳上且分别通过管道与引风机相连，且第一引风口和第二引风口皆与保护壳内部区域连通。在实际使用中，保护壳在打磨口的上下方分别设有第一引风口和第二引风口，能够对抛光打磨过程中产生的杂质，进行两级吸附，保护工作人员的人身安全。
[0006]本技术的有益效果：
[0007]本技术通过提供一种打磨装置，包括电机、旋转轴、打磨盘和保护壳，所述打磨盘位于所述保护壳内部，所述保护壳的壳面的斜上方设有打磨口，打磨口正对打磨盘的侧端面，在打磨口的上下方分别设有第一引风口和第二引风口，第一引风口和第二引风口设于保护壳上且分别通过管道与引风机相连，且第一引风口和第二引风口皆与保护壳内部区域连通，在实际使用中，保护壳在打磨口的上下方分别设有第一引风口和第二引风口，能够对抛光打磨过程中产生的杂质，进行两级吸附，保护工作人员的人身安全。
[0008]下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步详细的说明。
附图说明
[0009]附图是用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本技术，但并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0010]图1是本技术实施例中的一种打磨装置的一种结构示意图。
[0011]图2是图1安装挡盖之后的结构示意图。
[0012]图3是本技术实施例中的一种打磨装置的另一种结构示意图。
[0013]图4是图3的侧面结构示意图。
[0014]附图标记：
[0015]10、旋转轴；20、打磨盘；30、保护壳；31、打磨口；40、第一引风口；50、第二引风口；60、挡盖；70、缓存区域。
具体实施方式
[0016]下面详细描述本技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0017]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0018]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0019]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0020]下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
[0021]实施例1
[0022]请参照图1
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图2，图1是本技术实施例中的一种打磨装置的一种结构示意图，该打磨装置包括电机、旋转轴10、打磨盘20和保护壳30，所述打磨盘20位于所述保护壳30内部，所述保护壳30的壳面的斜上方设有打磨口31，打磨口31正对打磨盘20的侧端面，在打磨口31的上下方分别设有第一引风口40和第二引风口50，第一引风口40和第二引风口50设于
保护壳30上且分别通过管道与引风机相连，且第一引风口40和第二引风口50皆与保护壳30内部区域连通。
[0023]打磨口31为弧形结构，所述打磨盘20沿着打磨口31底端向打磨口31顶端旋转。在所述打磨口31底端的端口设有挡盖60。挡盖60为U形结构，可盖合在打磨口31底端的端口，极大缩小打磨口31底端端口处的暴露面积，防止打磨产生的杂质从打磨口31底端的端口处溅出。
[0024]实施例2
[0025]请参照图3
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图4，图3是本技术实施例中的一种打磨装置的另一种结构示意图，所述保护壳30在打磨口31的下方设有缓存区域70，所述缓存区域70为斜槽形或渐开形结构。保护壳30内部的杂质随着打磨盘20一起旋转，杂质可做离心运动来到缓存区域70内部。所述挡盖60位于所述缓存区域70的上方，所述第二引风口50位于所述缓存区域70的下方。在挡盖60的阻挡下，杂质从缓存区域70向下流入第二引风口50，通过管道和引风机引出。
[0026]实施例3
[0027]所述挡盖60与所述打磨口31底端的端口之间设有用于降尘的滤芯，滤芯可防止打磨产生本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种打磨装置，其特征在于：包括电机、旋转轴(10)、打磨盘(20)和保护壳(30)，所述打磨盘(20)位于所述保护壳(30)内部，所述保护壳(30)的壳面的斜上方设有打磨口(31)，打磨口(31)正对打磨盘(20)的侧端面，在打磨口(31)的上下方分别设有第一引风口(40)和第二引风口(50)，第一引风口(40)和第二引风口(50)设于保护壳(30)上且分别通过管道与引风机相连，且第一引风口(40)和第二引风口(50)皆与保护壳(30)内部区域连通。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐安玉，
申请(专利权)人：重庆唐三把木制品有限公司，
类型：新型
国别省市：