一种降压防爆机构制造技术

本发明专利技术涉及淋浴设备技术领域，尤其涉及一种降压防爆机构，包括设置于管路内的调压座和调压盖，所述调压座内部设有过水通道，所述过水通道的两端分别为进水端和出水端，所述调压盖包括盖体及其一侧的扰流段，所述盖体表面设有多个过水孔，所述扰流段具有锥形末端，所述扰流段在锥形末端远离出水端的一侧设有多个首尾依次相接的外环槽，所述过水通道内设有多个首尾依次相接的内环槽，所述扰流段的锥形末端以及多个外环槽与过水通道的多个内环槽交错排布。本发明专利技术所提供的降压防爆机构能够起到降压作用，能够防止淋浴花洒发生爆裂，并且调压座与调压盖结构简单，具有较低的制造成本和较低的注塑时效。较低的注塑时效。较低的注塑时效。

【技术实现步骤摘要】
一种降压防爆机构


[0001]本专利技术涉及淋浴设备
，尤其涉及一种降压防爆机构。

技术介绍

[0002]在有压力管路中，由于某种外界原因(如阀门突然关闭、水泵机组突然停车)使水的流速突然发生变化，从而引起水击，这种水力现象称为水击或水锤。水锤现象容易引起承压能力相对较差的管路或者装置发生爆裂。例如，当淋浴管道内的水压急速增大或者持续处于高压状态时，容易导致淋浴花洒发生爆裂。
[0003]专利公开号为CN110076017A的中国专利技术专利，其专利名称为具有过压阀的淋浴射流发生装置，公开了在淋浴花洒每个出水口位设置泄压特征寻求解决产品因水锤冲击或出水口堵塞引起的产品爆裂问题的技术方案。此方案虽然可以解决产品爆裂的技术问题，但极大的增加产品的成本，增加了注塑时效和工艺难度。

技术实现思路

[0004]本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种降压防爆机构。
[0005]本专利技术是通过以下技术方案予以实现：
[0006]一种降压防爆机构，包括设置于管路内的调压座和调压盖，所述调压座固定安装至管路，所述调压座内部设有过水通道，所述过水通道的两端分别为进水端和出水端，所述调压盖包括盖体及其一侧的扰流段，所述盖体表面设有多个过水孔，所述扰流段从进水端伸入过水通道内，所述扰流段整体为回转体，所述扰流段具有锥形末端，所述扰流段在锥形末端远离出水端的一侧设有多个首尾依次相接的外环槽，每个外环槽的深度沿出水端到进水端的方向逐渐变浅，所述过水通道内设有多个首尾依次相接的内环槽，所述内环槽的个数比外环槽的个数多一，每个内环槽的深度沿出水端到进水端的方向逐渐变浅，所述扰流段的锥形末端以及多个外环槽与过水通道的多个内环槽交错排布。
[0007]优选地，所述过水通道在靠近出水端侧的内环槽至出水端的部分为整流段，所述整流段内侧面整体为中部内凹的弧形面。
[0008]优选地，各外环槽的宽度相同，各外环槽与各内环槽的宽度相同，所述调压盖与管路间设有用于调整扰流段伸入过水通道深度的调节结构，所述调节结构包括设于调压盖外周的外螺纹及设于管路内的内螺纹，所述内螺纹与外螺纹相适配。
[0009]优选地，所述调压座通过过盈配合固接至管路内。
[0010]优选地，所述调压座外周设有环形凸起，所述管路内设有与环形凸起相适配的环形卡阶，所述环形卡阶位于环形凸起靠近出水端一侧。
[0011]优选地，所述环形凸起与管路内壁间设有密封圈。
[0012]优选地，所述外环槽在其最浅处的直径与内环槽在其最浅处的直径相同。
[0013]优选地，多个过水孔沿扰流段轴线等角度分布。
[0014]本专利技术的有益效果是：
[0015]本专利技术所提供的降压防爆机构能够起到降压作用，当淋浴管道内的水压急速增大或者持续处于高压状态时，在本机构的作用下，会使得淋浴花洒内保持相对较低的水压，能够防止淋浴花洒发生爆裂，并且，调压座与调压盖结构简单，具有较低的制造成本和较低的注塑时效；当水流流经整流段时，水流的管道附壁压力增加，出水端中部形成负压区，水流由侧向向中心回流形成涡流，能量损失，水流流速降低，从而可进一步提高降压效果；通过转动调压盖即可调节扰流段伸入过水通道的深度，从而调节外环槽最浅处至内环槽间的最短距离，当外环槽最浅处至内环槽间的最短距离变小时，降压效果更明显；环形凸起与环形卡阶相配合可防止在水流冲击下调压座在管道内发生滑移，提高调压座的稳定性；密封圈可防止水流从调压座与管路内壁间通过；等角度分布的过水孔具有较好的引流效果。
附图说明
[0016]图1是本专利技术所述降压防爆机构的爆炸结构示意图；
[0017]图2是本专利技术所述降压防爆机构的内部结构示意图；
[0018]图3是本专利技术所述盖体的俯视结构示意图；
[0019]图4是本专利技术所述降压防爆机构安装至管路内的结构示意图；
[0020]图5是本专利技术所述降压防爆机构的的原理图。
[0021]图中：1、盖体；2、外螺纹；3、外环槽；4、锥形末端；5、密封圈；6、环形凸起；7、调压座；8、内环槽；9、整流段；10、过水孔；11、管路。
具体实施方式
[0022]为了使本
的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本专利技术作进一步的详细说明。
[0023]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0024]如图1
‑
图5所示，本专利技术提供的一种降压防爆机构，包括设置于管路11内的调压座7和调压盖，所述调压座7固定安装至管路11，具体的，所述调压座7可以安装至淋浴花洒与淋雨管道接口处的管路11，所述调压座7内部设有过水通道，所述过水通道的两端分别为进水端和出水端，管路11内的水流经过调压座7部分时，先从进水端进入过水通道，再从出水端流出过水通道，所述调压盖包括盖体1及其一侧的扰流段，所述盖体1表面设有多个过水孔10，使得管路11内的水流可以从过水孔10通过，所述扰流段从进水端伸入过水通道内，所述扰流段整体为回转体，所述扰流段具有锥形末端4，所述扰流段在锥形末端4远离出水端的一侧设有多个首尾依次相接的外环槽3，在本实施例中设有两个外环槽3，每个外环槽3的深度沿出水端到进水端的方向逐渐变浅，所述过水通道内设有多个首尾依次相接的内环槽8，所述内环槽8的个数比外环槽3的个数多一，在本实施例中设有三个内环槽8，每个内环槽8的深度沿出水端到进水端的方向逐渐变浅，所述扰流段的锥形末端4以及两个外环槽3与过水通道的三个内环槽8交错排布，如图5所示，水流在通过扰流段与过水通道间的间隙过
程中，当水流到达内环槽8最深处以及外环槽3最深处时均有回流趋势，流体压力和流量均会降低，从而起到降压作用，当淋浴管道内的水压急速增大或者持续处于高压状态时，在本机构的作用下，会使得淋浴花洒内保持相对较低的水压，能够防止淋浴花洒发生爆裂，并且，调压座7与调压盖结构简单，具有较低的制造成本和较低的注塑时效。
[0025]所述过水通道在靠近出水端侧的内环槽8至出水端的部分为整流段9，所述整流段9内侧面整体为中部内凹的弧形面，当水流流经整流段9时，水流的管道附壁压力增加，出水端中部形成负压区，水流由侧向向中心回流形成涡流，能量损失，水流流速降低，从而可进一步提高降压效果。
[0026]各外环槽3的宽度相同，各外环槽3与各内环槽8的宽度相同，所述调压盖与管路11间设有用于调整扰流段伸入过水通道深度的调节结构，所述调节结构包括设于调压盖外周的外螺纹2及设于管路11内的内螺纹，所述内螺纹与外螺纹2能够形成自锁，当调压盖螺纹连接至管路11内时，通过转动调压盖即可调节扰流段伸入过水通道的深度，从而调本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种降压防爆机构，其特征在于，包括均用以设置于管路内的调压座和调压盖，所述调压座内部设有过水通道，所述过水通道的两端分别为进水端和出水端，所述调压盖包括盖体及其一侧的扰流段，所述盖体表面设有多个过水孔，所述扰流段从进水端伸入过水通道内，所述扰流段整体为回转体，所述扰流段具有锥形末端，所述扰流段在锥形末端远离出水端的一侧设有多个首尾依次相接的外环槽，每个外环槽的深度沿出水端到进水端的方向逐渐变浅，所述过水通道内设有多个首尾依次相接的内环槽，所述内环槽的个数比外环槽的个数多一，每个内环槽的深度沿出水端到进水端的方向逐渐变浅，所述扰流段的锥形末端以及多个外环槽与过水通道的多个内环槽交错排布。2.根据权利要求1所述的一种降压防爆机构，其特征在于，所述过水通道在靠近出水端侧的内环槽至出水端的部分为整流段，所述整流段内侧面整体为中部内凹的弧形面。3.根据权利要求1所述的一种降...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彦庆，朱开煌，陈浩宽，梁绍团，
申请(专利权)人：惠达卫浴股份有限公司，
类型：发明
国别省市：