阵列基板及显示面板制造技术

本申请实施例提供一种阵列基板及显示面板。该阵列基板包括衬底、金属图案层、有源层。其中，该有源层包括掺杂区域以及沟道区域，掺杂区域设置在沟道区域的两侧，该金属图案层还包括间隔区域，该间隔区域与沟道区域对应设置。这样，该间隔区域将金属图案层分割成至少两部分，在与有源层的沟道区域对应位置处，该金属图案层不连续，从而有效的降低器件内的漏致势垒降低效应，并且有效的提高器件的综合性能。能。能。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及显示面板


[0001]本专利技术涉及显示面板的设计及制造
，尤其涉及一种阵列基板及显示面板。

技术介绍

[0002]随着显示面板制备技术的发展，人们对显示面板及显示装置的显示效果以及综合性能均提出了更高的要求。
[0003]显示面板中，薄膜晶体管器件是液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)和有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)等显示装置中有源驱动以及周边电路中的关键部件。现代显示要求阵列基板中具有较高的开口率以及窄边框等特性，同时满足高频和低功耗显示需求。因此，薄膜晶体管器件尺寸需要进一步缩小，以减少其占用的空间，并降低薄膜晶体管器件的功耗和延迟。但是，现有技术中，随着薄膜晶体管器件尺寸的缩小，漏致势垒降低效应(drain
‑
induced barrier lowering，DIBL)会对器件产生较大的不利影响。具体，如漏电流增大，阈值电压严重负漂，器件稳定性降低等，从而降低产品性能和良率。对于有遮光层的薄膜晶体管器件，由于遮光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底；金属图案层，所述金属图案层设置在所述衬底上；以及，有源层，所述有源层设置在所述金属图案层之上，所述有源层包括沟道区域以及设置在所述沟道区域两侧的掺杂区域；其中，所述金属图案层包括间隔区域和至少设置在所述间隔区域一侧的遮光区域，且所述间隔区域设置在与所述沟道区域相对应位置处。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案层的所述间隔区域的长度小于所述有源层的所述沟道区域的长度。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案层在所述间隔区域内设置有至少一间隙。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述间隙设置在所述金属图案层与所述沟道区域相对应的中部位置处，且所述金属图案层的遮光区域内的膜层相对所述间隙对称设置。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述间隙的长度设置为0.3um
‑
3um。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：艾飞，宋德伟，龙时宇，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：