具有弯曲场产生单元的磁共振成像设备制造技术

本发明专利技术公开了具有弯曲场产生单元的磁共振成像设备。本发明专利技术涉及包括场产生单元的磁共振成像设备，该场产生单元被配置成在磁共振成像设备的成像体中提供磁场，其中，场产生单元包括至少一个磁体，其中，至少一个磁体在至少一个空间方向上限制成像体，并且其中，至少一个磁体以如下方式弯曲，该方式使得沿着到成像体的接近方向取向的线与至少一个磁体的朝向成像体定向的表面之间的垂直距离在到成像体的接近方向上变化。的接近方向上变化。的接近方向上变化。

【技术实现步骤摘要】
具有弯曲场产生单元的磁共振成像设备


[0001]本专利技术涉及磁共振成像设备，其包括场产生单元，该场产生单元包括至少一个磁体，其中，场产生单元被配置成在磁共振成像设备的成像体中提供磁场。

技术介绍

[0002]磁共振断层扫描代表一种用于获取检查对象内部的图像的著名的成像方法。为了进行磁共振测量，检查对象通常被定位在磁共振成像设备的强且均匀的静磁场(B0场)中。静磁场可以包括0.2特斯拉至7特斯拉的磁场强度，从而使检查对象内部的核自旋沿着静磁场对齐。为了触发所谓的核自旋共振，射频激励脉冲被发射到检查对象中。每个射频激励脉冲导致检查对象内的核自旋磁化，从而偏离静磁场一定量，其被称为翻转角。射频激励脉冲可以包括交变(电)磁场，其频率在相应的静磁场强度下对应于拉莫尔(Larmor)频率。激发的核自旋可能会表现出旋转和衰减的磁化(核磁共振)，这可以使用专用射频天线进行检测。对于测量数据的空间编码，快速切换的磁梯度场叠加在静磁场上。
[0003]接收到的核磁共振通常被数字化并作为复数值存储在k空间矩阵中。该k空间矩阵可以用作重建磁共振图像和确定光谱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁共振成像设备(10)，所述磁共振成像设备(10)包括场产生单元(12)，所述场产生单元(12)被配置成在所述磁共振成像设备(10)的成像体(30)中提供磁场，其中，所述场产生单元(12)包括至少一个磁体(13)，其中，所述至少一个磁体(13)在至少一个空间方向上限制所述成像体(30)，其特征在于，所述至少一个磁体(13)以如下方式弯曲，该方式使得沿着到所述成像体(30)的接近方向(16)取向的线与所述至少一个磁体(13)的朝向所述成像体(30)定向的表面之间的垂直距离在到所述成像体(30)的接近方向(16)上变化。2.根据权利要求1所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述至少一个磁体(13)的朝向所述成像体(30)定向的表面包括圆锥体或截头锥体的形状。3.根据前述权利要求中的一项所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述场产生单元(12)包括第二磁体(14)，其中，所述至少一个磁体(13)和所述第二磁体(14)以如下方式被布置，该方式使得提供沿至少两个垂直空间方向对所述成像体(30)的接近，并且其中，沿所述至少两个垂直空间方向中的每一个方向的到所述成像体(30)的接近方向(16)相对于所述成像体(30)内的磁场线的主方向成角度。4.根据权利要求3所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述第二磁体(14)的朝向所述成像体(30)定向的表面以如下方式弯曲，该方式使得沿到所述成像体(30)的接近方向(16)取向的线与所述第二磁体(14)的朝向所述成像体(30)定向的表面之间的垂直距离在到所述成像体(30)的接近方向(16)上变化。5.根据权利要求3所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述第二磁体(14)的朝向所述成像体(30)定向的表面以如下方式被定形，该方式使得沿到所述成像体(30)的接近方向(16)取向的线与所述第二磁体(14)的朝向所述成像体(30)定向的表面之间的垂直距离在到所述成像体(30)的接近方向(16)上是恒定的。6.根据前述权利要求中的一项所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述至少一个磁体(13)和/或所述第二磁体(14)被配置成在所述成像体(30)中产生静磁场，其中，所述静磁场在整个成像体(30)中是均匀的，或者其中，所述静磁场包括在整个所述成像体(30)上的预定义的磁场梯度。7.根据前述权利要求中的一项所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述至少一个磁体(13)包括梯度线圈组(28)，并且其中，所述梯度线圈组(28)被配置成在所述成像体(30)中产生磁梯度场。8.根据权利要求7所述的磁共振成像设备(10)，其中，所述场产生单元(12)包括第二磁体(14)，其中，所述第二磁体(14)包括第二梯度线圈组(28)，并且其中，所述第二梯度线圈组(28)被配置成在所述成像体(30)中产生第...

【专利技术属性】
技术研发人员：安德烈亚斯，
申请(专利权)人：西门子医疗有限公司，
类型：发明
国别省市：